高鵬+陰曉俊+趙帥鋒+王瑞生+殷波+費(fèi)書國

摘要： 為了說明光學(xué)薄膜行業(yè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展概況，對光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域相關(guān)國家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行了總結(jié)，主要?dú)w納為5個主題方向：膜層功能、面形偏差、表面疵病、環(huán)境適應(yīng)性及產(chǎn)品應(yīng)用等。介紹了各個主題方向包含的主要標(biāo)準(zhǔn)及發(fā)展歷程，重點介紹了膜層功能主題方向的標(biāo)準(zhǔn)從1977年以來的4個階段性發(fā)展歷程。針對各個主題方向，分析了各個主題方向的國家標(biāo)準(zhǔn)及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的適用性，并提出了光學(xué)薄膜領(lǐng)域國家標(biāo)準(zhǔn)及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展的5項建議：更新相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，系列化歸納標(biāo)準(zhǔn)，統(tǒng)一規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)引用，對復(fù)雜標(biāo)準(zhǔn)增加解釋說明，根據(jù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展需求制定相關(guān)新標(biāo)準(zhǔn)。

關(guān)鍵詞： 光學(xué)薄膜； 標(biāo)準(zhǔn)化水平； 國家標(biāo)準(zhǔn)； 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)

中圖分類號： F 203文獻(xiàn)標(biāo)志碼： Adoi： 10.3969/j.issn.1005-5630.2014.05.019

引言

光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代[1]，至今已形成一門獨(dú)立的技術(shù)，廣泛應(yīng)用在天文、軍事、醫(yī)學(xué)、科學(xué)檢測、光顯示和光通訊等行業(yè)中。光學(xué)薄膜能改善系統(tǒng)性能（如：分束、濾光等），是滿足設(shè)計目標(biāo)的必要手段，對光學(xué)儀器的質(zhì)量起著重要或決定性的作用。

近三十年來，隨著我國光學(xué)與光電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，光學(xué)薄膜技術(shù)在鍍制設(shè)備、膜系設(shè)計、特性測試和應(yīng)用開發(fā)等方面取得了廣泛的成果，形成了相當(dāng)?shù)漠a(chǎn)業(yè)規(guī)模，產(chǎn)品正在走向國際化。隨著光學(xué)薄膜技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的擴(kuò)大，其生產(chǎn)的社會化程度逐漸提高、技術(shù)要求日趨復(fù)雜，因此對標(biāo)準(zhǔn)化的要求也越來越高。

所謂標(biāo)準(zhǔn)化，是為了在一定范圍內(nèi)獲得最佳秩序，對現(xiàn)實問題或潛在問題制定共同使用和重復(fù)使用的條款的活動[2]。標(biāo)準(zhǔn)化活動最終會形成標(biāo)準(zhǔn)，其定義為：為了在一定范圍內(nèi)獲得最佳秩序，經(jīng)協(xié)商一致制定并由公認(rèn)機(jī)構(gòu)批準(zhǔn)，共同使用的和重復(fù)使用的一種規(guī)范性文件[2]。完善的標(biāo)準(zhǔn)化體系對促進(jìn)產(chǎn)品在技術(shù)上的相互協(xié)調(diào)配合、優(yōu)化產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、增強(qiáng)產(chǎn)品的市場競爭力等方面具有不可估量的作用，是國民經(jīng)濟(jì)和社會發(fā)展的重要技術(shù)支撐。

我國的標(biāo)準(zhǔn)化工作開展于上世紀(jì)50年代，目前標(biāo)準(zhǔn)的范圍已覆蓋60多個行業(yè)，且標(biāo)準(zhǔn)的數(shù)量每年呈穩(wěn)定增長趨勢[3]。本文立足于光學(xué)薄膜行業(yè)，分析行業(yè)相關(guān)5個領(lǐng)域標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展情況，并結(jié)合光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展現(xiàn)狀，對行業(yè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的進(jìn)一步發(fā)展提出了幾點建議。

1光學(xué)薄膜技術(shù)相關(guān)領(lǐng)

域光學(xué)薄膜技術(shù)涉及多個技術(shù)領(lǐng)域，總結(jié)光學(xué)薄膜相關(guān)國家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)時，主要關(guān)注了以下5個主題方向。

（1）膜層功能。光學(xué)薄膜可實現(xiàn)諸如反射、增透、濾光、分束等不同功能，以滿足多樣化的設(shè)計要求。不同膜層功能需要用不同的技術(shù)指標(biāo)去描述和評判。

（2）面形偏差。實際光學(xué)表面與理想光學(xué)表面必然存在一定的偏差，這稱為面形偏差。在光學(xué)薄膜領(lǐng)域，面形偏差一方面由基片加工水平?jīng)Q定，另一方面也會受到膜層應(yīng)力的影響而降低或加劇。

（3）表面疵病。鍍膜表面會存在一定的缺陷，如麻點、擦痕等，統(tǒng)稱為表面疵病。表面疵病程度會影響光學(xué)系統(tǒng)的性能，進(jìn)而制約著光學(xué)薄膜的用途。

（4）環(huán)境適應(yīng)性。光學(xué)薄膜必然工作于一定的環(huán)境條件（如：溫度、濕度等），而在該條件下薄膜能否長久穩(wěn)定工作，體現(xiàn)了光學(xué)薄膜環(huán)境適應(yīng)性的強(qiáng)弱。環(huán)境適應(yīng)性是評判光學(xué)薄膜的一項重要因素，需要用一定的環(huán)境試驗來檢驗。（5）產(chǎn)品應(yīng)用。光學(xué)薄膜最終會形成產(chǎn)品（光學(xué)元件），安裝在儀器中以滿足一定的使用要求。一種應(yīng)用類型的光學(xué)薄膜產(chǎn)品中可能涉及多個功能的膜層。

上述光學(xué)薄膜技術(shù)相關(guān)領(lǐng)域，各有相關(guān)的標(biāo)準(zhǔn)對生產(chǎn)活動進(jìn)行規(guī)范和指導(dǎo)。下文將逐一論述相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展情況。

2標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展概況

2.1膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展

膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展，大致可分為以下4個時間段。（1）1977年—1987年。這一時期，可稱為膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“起步階段”。當(dāng)時，國內(nèi)光學(xué)薄膜行業(yè)的發(fā)展剛剛起步，涉及到的膜層功能不多，國家在1977年相應(yīng)頒布了GB 1315-77、GB 1316-77、GB 1317-77、GB 1320-77、GB 1321-77、GB 1325-77、GB 1326-77、GB 1327-77、GB 1328-77和1330-77等10個標(biāo)準(zhǔn)，內(nèi)容涵蓋反射膜、增透膜、分束膜及窄帶濾光膜等方面。這些標(biāo)準(zhǔn)滿足當(dāng)時的行業(yè)需求。（2）1988年—1995年這一時期，可稱為膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“快速發(fā)展階段”。隨著光學(xué)薄膜行業(yè)技術(shù)水平的提升，膜層的功能逐漸趨于多樣化，1977年頒布的標(biāo)準(zhǔn)越來越無法滿足使用需求。在這種情況下，國家在1988年—1989年間，對膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行了一次系統(tǒng)整理，將相同類型的標(biāo)準(zhǔn)合并，并頒布新的膜層功能標(biāo)準(zhǔn)。經(jīng)過整理的標(biāo)準(zhǔn)見表1。

序號標(biāo)準(zhǔn)號名稱1GB 1315-77光學(xué)零件薄膜的分類、符號及標(biāo)注2GB 1321-77光學(xué)零件上真空鍍鋁后陽極氧化加固的外反光膜3GB 1327-77光學(xué)零件上水解法鍍二氧化鈦、二氧化硅三層分光膜（R∶T=1∶1）4GB 1316-88光學(xué)零件鍍膜 減反射膜5GB 1318-88光學(xué)零件鍍膜 水解法鍍雙層減反射膜6GB 1320-88光學(xué)零件鍍膜 外反射膜7GB 1322-88光學(xué)零件鍍膜 內(nèi)反射膜8GB 1330-88光學(xué)零件鍍膜 窄帶干涉濾光膜9GB 10218-88光學(xué)零件鍍膜 截止濾光膜10GB 1329-89光學(xué)零件鍍膜 中性濾光膜11GB 10989-89光學(xué)零件鍍膜 分束膜可以看出，到1989年，除GB 1315-77、GB 1321-77和GB 1327-77這3個標(biāo)準(zhǔn)外，其余1977版標(biāo)準(zhǔn)已全部更新。從1991年開始，光學(xué)薄膜行業(yè)逐漸歸為機(jī)械行業(yè)的一個分支，相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)也開始以機(jī)械行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)（JB）的形式出現(xiàn)。截至1995年，膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)全部轉(zhuǎn)化為機(jī)械行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，如表2所示。

序號標(biāo)準(zhǔn)號名稱與舊標(biāo)準(zhǔn)的關(guān)系1JB/T 6179-92光學(xué)零件鍍膜 分類、符號及標(biāo)注替代GB 1315-77（表1中序號1），重新制定，技術(shù)水平提升2JB/T 8227-1995光學(xué)零件上真空鍍鋁后陽極氧化加固的外反光膜替代GB 1321-77（表1中序號2），直接轉(zhuǎn)化，技術(shù)內(nèi)容不變3JB/T 8228-1995光學(xué)零件上水解法鍍二氧化鈦、二氧化硅三層分光膜（R∶T=1∶1）替代GB 1327-77（表1中序號3），直接轉(zhuǎn)化，技術(shù)內(nèi)容不變4JB/T 8226.*-1995光學(xué)零件鍍膜（系列）共8個部分，相應(yīng)替代GB 1316-88等8個標(biāo)準(zhǔn)（表1中序號4～11），直接轉(zhuǎn)化，技術(shù)內(nèi)容不變5JB/T 5474-91光學(xué)零件鍍膜 偏振膜—6JB/T 5588-91光學(xué)零件鍍膜 導(dǎo)電膜—7JB/T 5589-91光學(xué)零件鍍膜 高反射膜—

膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)自1988年起，經(jīng)過7年的發(fā)展，不但提升了技術(shù)水平，擴(kuò)展了技術(shù)領(lǐng)域，而且將零散的標(biāo)準(zhǔn)合成了一個系列標(biāo)準(zhǔn)，標(biāo)準(zhǔn)號大幅減少，初步形成了膜層功能領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn)體系。（3）1996年—2009年這一時期，可稱為膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“發(fā)展停滯階段”。膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)在1995年之后的14年間，發(fā)展陷入停滯。僅有的幾次調(diào)整如下。1999年，JB/T 8226.*-1995（表2中序號4）進(jìn)行了編輯性修訂，技術(shù)內(nèi)容不變。2004年，JB/T 8227-1995（表2中序號2）和JB/T 8228-1995（表2中序號3）廢止，退出歷史舞臺。2006年，國家發(fā)改委發(fā)布了第46號公告，提出將“445項國家標(biāo)準(zhǔn)調(diào)整為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)”。在這份公告中，將已廢止的國標(biāo)GB 1315-77（表1中序號1）直接轉(zhuǎn)化為同名行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)JB/T 10569-2006，相應(yīng)廢止了JB/T 6179-92（表2中序號1）。膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)在這一時期的發(fā)展停滯，造成了標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)水平的落后，無法滿足行業(yè)的發(fā)展需求。（4）2010年—現(xiàn)在這一時期，可稱為膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“發(fā)展復(fù)蘇階段”。2010年，由“沈陽儀表科學(xué)研究院”制定的《光學(xué)和光學(xué)儀器 光學(xué)薄膜》系列標(biāo)準(zhǔn)的第1部分GB/T 26332.1-2010頒布，為沉寂已久的光學(xué)薄膜標(biāo)準(zhǔn)領(lǐng)域注入新的活力。該標(biāo)準(zhǔn)等同采用國際標(biāo)準(zhǔn)ISO 9211系列，共4個部分，后3部分已于2013年報批，不久將頒布實施。在這之后，又有一些新的膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)頒布，標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展呈現(xiàn)出復(fù)蘇趨勢。到目前為止，現(xiàn)行的膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)如表3所示。

序號標(biāo)準(zhǔn)號名稱1JB/T 5474-91光學(xué)零件鍍膜 偏振膜2JB/T 5588-91光學(xué)零件鍍膜 導(dǎo)電膜3JB/T 5589-91光學(xué)零件鍍膜 高反射膜4JB/T 8226.*-1999光學(xué)零件鍍膜（系列）5JB/T 10569-2006（=GB 1315-77）光學(xué)零件薄膜的分類、符號及標(biāo)注6GB/T 26332.1-2010光學(xué)和光學(xué)儀器 光學(xué)薄膜 第1部分：定義7GB/T 26598-2011光學(xué)儀器用透明導(dǎo)電薄膜規(guī)范8GB/T 26828-2011多光譜減反射膜規(guī)范

2.2面形偏差類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展

國內(nèi)面形偏差類標(biāo)準(zhǔn)只有GB/T 2831，其最早頒布于1981年，即GB 2831-81《光學(xué)零件的面形偏差 檢驗方法（光圈識別）》。該標(biāo)準(zhǔn)適用于以等厚光波干涉原理檢驗球面（包括平面）光學(xué)零部件的面形偏差，其提出的用“光圈”描述面形偏差的方法，在國內(nèi)獲得普遍應(yīng)用。2009年，該標(biāo)準(zhǔn)參照國際標(biāo)準(zhǔn)ISO 10110-5：2007進(jìn)行了修訂，即GB/T 2831-2009《光學(xué)零件的面形偏差》。修訂后的標(biāo)準(zhǔn)保留了“光圈”的描述方式，同時引入了國際上描述面形偏差的術(shù)語，如“PV值”、“rms值”等，初步實現(xiàn)了與國際標(biāo)準(zhǔn)的接軌。

2.3表面疵病類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展

國內(nèi)表面疵病類標(biāo)準(zhǔn)，只有GB/T 1185，共有以下3個版本。（1）GB 1185-74 《光學(xué)零件表面疵病》該標(biāo)準(zhǔn)頒布于1974年（以下稱“74版標(biāo)準(zhǔn)”），是參照當(dāng)時蘇聯(lián)標(biāo)準(zhǔn)ГOCT 11141《光學(xué)零件表面光潔度等級檢測方法》而制定的[4-5]?！?4版標(biāo)準(zhǔn)”把表面疵病分為10個等級，在國內(nèi)獲得普遍應(yīng)用。（2）GB 1185-89《光學(xué)零件表面疵病》“74版標(biāo)準(zhǔn)”在1989年進(jìn)行了修訂（以下稱“89版標(biāo)準(zhǔn)”），修訂時參照了當(dāng)時德國提出的ISO 10110-7國際標(biāo)準(zhǔn)草案[5]，完全拋棄了之前的等級概念，采用表面疵病允許個數(shù)G和表面疵病大小級數(shù)J來表征表面疵病。（3）GB/T 1185-2006《光學(xué)零件表面疵病》“89版標(biāo)準(zhǔn)”在2006年再次進(jìn)行了修訂（以下稱“06版標(biāo)準(zhǔn)”），此次修訂是根據(jù)ISO 10110-7：1996和ISO 14997：2003這兩個國際標(biāo)準(zhǔn)重新起草的?！?6版標(biāo)準(zhǔn)”延續(xù)了“89版標(biāo)準(zhǔn)”的表面疵病表征方式，增加了表面疵病未注公差、可視度要求等技術(shù)內(nèi)容，標(biāo)準(zhǔn)顯得更加細(xì)膩。目前，“06版標(biāo)準(zhǔn)”修訂時參照的兩個國際標(biāo)準(zhǔn)已更新為ISO 10110-7：2008和ISO 14997：2011，“06版標(biāo)準(zhǔn)”也將面臨再次修訂。

2.4環(huán)境適應(yīng)性類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展

應(yīng)用在光學(xué)薄膜行業(yè)中的環(huán)境適應(yīng)性類標(biāo)準(zhǔn)，現(xiàn)行的有以下3個。（1）GB/T 2423.*《電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗方法》GB/T 2423.*是一個系列標(biāo)準(zhǔn)，最早頒布于1981年，目前還在持續(xù)更新中。標(biāo)準(zhǔn)中描述的環(huán)境試驗方法，是為電工電子產(chǎn)品而設(shè)定，并非針對于光學(xué)薄膜，但其中的“低溫”、“高溫”、“恒定濕熱”、“交變濕熱”、“鹽霧”等試驗方法從1988年開始廣泛被光學(xué)薄膜行業(yè)借用。（2）GB/T 12085.*《光學(xué)和光學(xué)儀器 環(huán)境試驗方法》GB/T 12085.*是一個系列標(biāo)準(zhǔn)，最早制定于1989年，在2010—2011年進(jìn)行了修訂，內(nèi)容與ISO 9022系列基本一致。標(biāo)準(zhǔn)中描述的環(huán)境試驗方法是針對光學(xué)儀器而設(shè)定，其中的“低溫”、“高溫”、“濕熱”、“鹽霧”等試驗方法適用于光學(xué)薄膜，相關(guān)試驗方法在光學(xué)薄膜國際標(biāo)準(zhǔn)ISO 9211系列中有所引用。（3）GB/T 26331-2010《光學(xué)薄膜元件環(huán)境適應(yīng)性試驗方法》GB/T 26331-2010是專門針對光學(xué)薄膜的環(huán)境試驗方法標(biāo)準(zhǔn)，在制定中參考了ISO 9211、ISO 9022等相關(guān)內(nèi)容，對環(huán)境試驗方法進(jìn)行了歸納整理，適合光學(xué)薄膜行業(yè)使用。另外，前文提到已報批的GB/T 26332系列標(biāo)準(zhǔn)，后兩部分也是關(guān)于光學(xué)薄膜環(huán)境試驗方面的內(nèi)容，分別等同采用ISO 9211-3：2008和ISO 9211-4：2012。試驗方法與“GB/T 12085.*”和“GB/T 26331-2010”相關(guān)內(nèi)容一致，彼此相容。

2.5產(chǎn)品應(yīng)用類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展

光學(xué)薄膜產(chǎn)品應(yīng)用類標(biāo)準(zhǔn)，最早出現(xiàn)的是兩個專業(yè)標(biāo)準(zhǔn)ZBY 327-85《顯微鏡光譜濾光片 基本規(guī)格》和ZBN42 001-87《35 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件》。在這之后，隨著光學(xué)薄膜技術(shù)水平的提升，產(chǎn)品應(yīng)用類標(biāo)準(zhǔn)也在不斷變更和擴(kuò)充。截至2013年，光學(xué)薄膜產(chǎn)品應(yīng)用類標(biāo)準(zhǔn)的變化情況如表4所示。

序號標(biāo)準(zhǔn)號名稱狀態(tài)標(biāo)準(zhǔn)替代關(guān)系1ZB Y 327-85顯微鏡光譜濾光片 基本規(guī)格廢止被JB/T 9334-1999替代JB/T 9334-1999顯微鏡光譜濾光片 基本規(guī)格廢止啟用GB/T 26601-2011GB/T 26601-2011顯微鏡 光譜濾光片現(xiàn)行—2ZB N42 001-8735 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件廢止被JB/T 7467-94替代JB/T 7467-9435 mm和70 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件廢止被JB/T 7467-2008替代JB/T 7467-200835 mm和70 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件現(xiàn)行—3JB/T 5590-91光譜儀器用濾光片現(xiàn)行—4GB/T 26328-2010生物化學(xué)分析儀器用干涉濾光片現(xiàn)行—5JB/T 11532-2013線性漸變中性密度濾光片現(xiàn)行—

3光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展建議

經(jīng)過幾十年的發(fā)展，我國的標(biāo)準(zhǔn)化工作取得了相當(dāng)?shù)某尚?，?biāo)準(zhǔn)的數(shù)量和質(zhì)量都不斷提升，并開始逐步與國際接軌，這從上文對光學(xué)薄膜領(lǐng)域標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展情況的分析中可窺見一斑。今后，建議從以下幾個方面來完善光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)。

（1）對落后標(biāo)準(zhǔn)的更新。表3中前5個標(biāo)準(zhǔn)以及JB/T 5590-91（表4中序號3）均為現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)，但核心內(nèi)容為1991年之前所制定，技術(shù)水平較低，需要修訂；另外GB/T 1185-2006對應(yīng)的ISO標(biāo)準(zhǔn)已更新，該標(biāo)準(zhǔn)也需要修訂。

（2）標(biāo)準(zhǔn)系列化發(fā)展。膜層功能類方面，JB/T 5474-91、JB/T 5588-91、JB/T 5589-91和JB/T 8226.*都是“光學(xué)零件鍍膜”相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，內(nèi)容有一定的相關(guān)性，卻被分散在多個標(biāo)準(zhǔn)中，檢索和應(yīng)用都不方便，建議進(jìn)行修訂時將它們歸為一個系列標(biāo)準(zhǔn)，減少標(biāo)準(zhǔn)號的分布。

（3）標(biāo)準(zhǔn)引用統(tǒng)一。光學(xué)薄膜環(huán)境適應(yīng)性方面，可引用的標(biāo)準(zhǔn)包括GB/T 2423.*、GB/T 12085.*、GB/T 26331-2010。由于GB/T 2423.*被光學(xué)薄膜行業(yè)引用較早（從1988年開始），目前人們還是習(xí)慣引用該標(biāo)準(zhǔn)，但與之相比，GB/T 12085.*以及其后的標(biāo)準(zhǔn)更適合光學(xué)薄膜，并與國際通用方法一致。為了行業(yè)中標(biāo)準(zhǔn)引用的統(tǒng)一，建議GB/T 2423.*逐漸淡出光學(xué)薄膜行業(yè)。

（4）為復(fù)雜標(biāo)準(zhǔn)提供必要的說明文件。面形偏差標(biāo)準(zhǔn)GB/T 2831-2009和表面疵病標(biāo)準(zhǔn)GB/T 1185-2006的實施一直都不順暢，這與標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容相對復(fù)雜、人們對其理解不深入有一定關(guān)系。對于內(nèi)容復(fù)雜的標(biāo)準(zhǔn)，建議以后在發(fā)布標(biāo)準(zhǔn)的同時，提供配套的技術(shù)輔助文件來說明標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容，增強(qiáng)人們對標(biāo)準(zhǔn)的理解。同時，國家應(yīng)鼓勵專家學(xué)者發(fā)表標(biāo)準(zhǔn)方面的論文和著作，這有利于標(biāo)準(zhǔn)的順利實施和推廣普及。

（5）根據(jù)行業(yè)需求，發(fā)布新標(biāo)準(zhǔn)。通過表4可以看到，現(xiàn)有光學(xué)薄膜產(chǎn)品應(yīng)用類標(biāo)準(zhǔn)僅涉及顯微鏡、光譜儀、生化分析儀及電影放映機(jī)等方面。隨著光學(xué)薄膜技術(shù)的發(fā)展，其應(yīng)用領(lǐng)域在不斷擴(kuò)展，如手機(jī)的顯示觸摸屏、3D立體影像、天文觀測等方面都有光學(xué)薄膜的身影。因此，在光學(xué)薄膜應(yīng)用領(lǐng)域，應(yīng)隨著產(chǎn)品的逐漸發(fā)展成熟而酌情頒布新的標(biāo)準(zhǔn)。

4結(jié)論

隨著光學(xué)薄膜技術(shù)水平的提升，行業(yè)上對標(biāo)準(zhǔn)化的要求也不斷提高。為了使光學(xué)薄膜行業(yè)相關(guān)人士了解本行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)狀況，本文針對光學(xué)薄膜技術(shù)相關(guān)的5個領(lǐng)域，論述了相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展概況，并結(jié)合現(xiàn)狀對光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展提出了幾點建議。相信我國光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)會越來越完善，我國的標(biāo)準(zhǔn)化水平也會不斷踏上新的臺階。參考文獻(xiàn)：

[1]葉帆，顧兵，黃曉琴.薄膜材料折射率色散的進(jìn)展與展望[J].光學(xué)儀器，2010，32（4）：90-94.

[2]中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局.GB/T 20000.1-2002 標(biāo)準(zhǔn)化工作指南 （第1部分）：標(biāo)準(zhǔn)化和相關(guān)活動的通用詞匯[S].北京：中國標(biāo)準(zhǔn)出版社，2002.

[3]莫潔.我國標(biāo)準(zhǔn)化工作建設(shè)現(xiàn)狀分析及對策研究[J].生產(chǎn)力研究，2012（7）：166-169.

[4]果寶智.光學(xué)表面光潔度評述[J].激光與紅外，1991，21（4）：29-34.

[5]劉慶明，盛益鵬.GB/T 1185《光學(xué)零件表面疵病》與俄、美相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)對比分析[J].國防技術(shù)基礎(chǔ)，2007（8）6-10，18.

序號標(biāo)準(zhǔn)號名稱狀態(tài)標(biāo)準(zhǔn)替代關(guān)系1ZB Y 327-85顯微鏡光譜濾光片 基本規(guī)格廢止被JB/T 9334-1999替代JB/T 9334-1999顯微鏡光譜濾光片 基本規(guī)格廢止啟用GB/T 26601-2011GB/T 26601-2011顯微鏡 光譜濾光片現(xiàn)行—2ZB N42 001-8735 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件廢止被JB/T 7467-94替代JB/T 7467-9435 mm和70 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件廢止被JB/T 7467-2008替代JB/T 7467-200835 mm和70 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件現(xiàn)行—3JB/T 5590-91光譜儀器用濾光片現(xiàn)行—4GB/T 26328-2010生物化學(xué)分析儀器用干涉濾光片現(xiàn)行—5JB/T 11532-2013線性漸變中性密度濾光片現(xiàn)行—

3光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展建議

經(jīng)過幾十年的發(fā)展，我國的標(biāo)準(zhǔn)化工作取得了相當(dāng)?shù)某尚?，?biāo)準(zhǔn)的數(shù)量和質(zhì)量都不斷提升，并開始逐步與國際接軌，這從上文對光學(xué)薄膜領(lǐng)域標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展情況的分析中可窺見一斑。今后，建議從以下幾個方面來完善光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)。

（1）對落后標(biāo)準(zhǔn)的更新。表3中前5個標(biāo)準(zhǔn)以及JB/T 5590-91（表4中序號3）均為現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)，但核心內(nèi)容為1991年之前所制定，技術(shù)水平較低，需要修訂；另外GB/T 1185-2006對應(yīng)的ISO標(biāo)準(zhǔn)已更新，該標(biāo)準(zhǔn)也需要修訂。

（2）標(biāo)準(zhǔn)系列化發(fā)展。膜層功能類方面，JB/T 5474-91、JB/T 5588-91、JB/T 5589-91和JB/T 8226.*都是“光學(xué)零件鍍膜”相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，內(nèi)容有一定的相關(guān)性，卻被分散在多個標(biāo)準(zhǔn)中，檢索和應(yīng)用都不方便，建議進(jìn)行修訂時將它們歸為一個系列標(biāo)準(zhǔn)，減少標(biāo)準(zhǔn)號的分布。

（3）標(biāo)準(zhǔn)引用統(tǒng)一。光學(xué)薄膜環(huán)境適應(yīng)性方面，可引用的標(biāo)準(zhǔn)包括GB/T 2423.*、GB/T 12085.*、GB/T 26331-2010。由于GB/T 2423.*被光學(xué)薄膜行業(yè)引用較早（從1988年開始），目前人們還是習(xí)慣引用該標(biāo)準(zhǔn)，但與之相比，GB/T 12085.*以及其后的標(biāo)準(zhǔn)更適合光學(xué)薄膜，并與國際通用方法一致。為了行業(yè)中標(biāo)準(zhǔn)引用的統(tǒng)一，建議GB/T 2423.*逐漸淡出光學(xué)薄膜行業(yè)。

（4）為復(fù)雜標(biāo)準(zhǔn)提供必要的說明文件。面形偏差標(biāo)準(zhǔn)GB/T 2831-2009和表面疵病標(biāo)準(zhǔn)GB/T 1185-2006的實施一直都不順暢，這與標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容相對復(fù)雜、人們對其理解不深入有一定關(guān)系。對于內(nèi)容復(fù)雜的標(biāo)準(zhǔn)，建議以后在發(fā)布標(biāo)準(zhǔn)的同時，提供配套的技術(shù)輔助文件來說明標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容，增強(qiáng)人們對標(biāo)準(zhǔn)的理解。同時，國家應(yīng)鼓勵專家學(xué)者發(fā)表標(biāo)準(zhǔn)方面的論文和著作，這有利于標(biāo)準(zhǔn)的順利實施和推廣普及。

（5）根據(jù)行業(yè)需求，發(fā)布新標(biāo)準(zhǔn)。通過表4可以看到，現(xiàn)有光學(xué)薄膜產(chǎn)品應(yīng)用類標(biāo)準(zhǔn)僅涉及顯微鏡、光譜儀、生化分析儀及電影放映機(jī)等方面。隨著光學(xué)薄膜技術(shù)的發(fā)展，其應(yīng)用領(lǐng)域在不斷擴(kuò)展，如手機(jī)的顯示觸摸屏、3D立體影像、天文觀測等方面都有光學(xué)薄膜的身影。因此，在光學(xué)薄膜應(yīng)用領(lǐng)域，應(yīng)隨著產(chǎn)品的逐漸發(fā)展成熟而酌情頒布新的標(biāo)準(zhǔn)。

4結(jié)論

隨著光學(xué)薄膜技術(shù)水平的提升，行業(yè)上對標(biāo)準(zhǔn)化的要求也不斷提高。為了使光學(xué)薄膜行業(yè)相關(guān)人士了解本行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)狀況，本文針對光學(xué)薄膜技術(shù)相關(guān)的5個領(lǐng)域，論述了相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展概況，并結(jié)合現(xiàn)狀對光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展提出了幾點建議。相信我國光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)會越來越完善，我國的標(biāo)準(zhǔn)化水平也會不斷踏上新的臺階。參考文獻(xiàn)：

[1]葉帆，顧兵，黃曉琴.薄膜材料折射率色散的進(jìn)展與展望[J].光學(xué)儀器，2010，32（4）：90-94.

[2]中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局.GB/T 20000.1-2002 標(biāo)準(zhǔn)化工作指南 （第1部分）：標(biāo)準(zhǔn)化和相關(guān)活動的通用詞匯[S].北京：中國標(biāo)準(zhǔn)出版社，2002.

[3]莫潔.我國標(biāo)準(zhǔn)化工作建設(shè)現(xiàn)狀分析及對策研究[J].生產(chǎn)力研究，2012（7）：166-169.

[4]果寶智.光學(xué)表面光潔度評述[J].激光與紅外，1991，21（4）：29-34.

[5]劉慶明，盛益鵬.GB/T 1185《光學(xué)零件表面疵病》與俄、美相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)對比分析[J].國防技術(shù)基礎(chǔ)，2007（8）6-10，18.

序號標(biāo)準(zhǔn)號名稱狀態(tài)標(biāo)準(zhǔn)替代關(guān)系1ZB Y 327-85顯微鏡光譜濾光片 基本規(guī)格廢止被JB/T 9334-1999替代JB/T 9334-1999顯微鏡光譜濾光片 基本規(guī)格廢止啟用GB/T 26601-2011GB/T 26601-2011顯微鏡 光譜濾光片現(xiàn)行—2ZB N42 001-8735 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件廢止被JB/T 7467-94替代JB/T 7467-9435 mm和70 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件廢止被JB/T 7467-2008替代JB/T 7467-200835 mm和70 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件現(xiàn)行—3JB/T 5590-91光譜儀器用濾光片現(xiàn)行—4GB/T 26328-2010生物化學(xué)分析儀器用干涉濾光片現(xiàn)行—5JB/T 11532-2013線性漸變中性密度濾光片現(xiàn)行—

3光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展建議

經(jīng)過幾十年的發(fā)展，我國的標(biāo)準(zhǔn)化工作取得了相當(dāng)?shù)某尚?，?biāo)準(zhǔn)的數(shù)量和質(zhì)量都不斷提升，并開始逐步與國際接軌，這從上文對光學(xué)薄膜領(lǐng)域標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展情況的分析中可窺見一斑。今后，建議從以下幾個方面來完善光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)。

（1）對落后標(biāo)準(zhǔn)的更新。表3中前5個標(biāo)準(zhǔn)以及JB/T 5590-91（表4中序號3）均為現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)，但核心內(nèi)容為1991年之前所制定，技術(shù)水平較低，需要修訂；另外GB/T 1185-2006對應(yīng)的ISO標(biāo)準(zhǔn)已更新，該標(biāo)準(zhǔn)也需要修訂。

（2）標(biāo)準(zhǔn)系列化發(fā)展。膜層功能類方面，JB/T 5474-91、JB/T 5588-91、JB/T 5589-91和JB/T 8226.*都是“光學(xué)零件鍍膜”相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，內(nèi)容有一定的相關(guān)性，卻被分散在多個標(biāo)準(zhǔn)中，檢索和應(yīng)用都不方便，建議進(jìn)行修訂時將它們歸為一個系列標(biāo)準(zhǔn)，減少標(biāo)準(zhǔn)號的分布。

（3）標(biāo)準(zhǔn)引用統(tǒng)一。光學(xué)薄膜環(huán)境適應(yīng)性方面，可引用的標(biāo)準(zhǔn)包括GB/T 2423.*、GB/T 12085.*、GB/T 26331-2010。由于GB/T 2423.*被光學(xué)薄膜行業(yè)引用較早（從1988年開始），目前人們還是習(xí)慣引用該標(biāo)準(zhǔn)，但與之相比，GB/T 12085.*以及其后的標(biāo)準(zhǔn)更適合光學(xué)薄膜，并與國際通用方法一致。為了行業(yè)中標(biāo)準(zhǔn)引用的統(tǒng)一，建議GB/T 2423.*逐漸淡出光學(xué)薄膜行業(yè)。

（4）為復(fù)雜標(biāo)準(zhǔn)提供必要的說明文件。面形偏差標(biāo)準(zhǔn)GB/T 2831-2009和表面疵病標(biāo)準(zhǔn)GB/T 1185-2006的實施一直都不順暢，這與標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容相對復(fù)雜、人們對其理解不深入有一定關(guān)系。對于內(nèi)容復(fù)雜的標(biāo)準(zhǔn)，建議以后在發(fā)布標(biāo)準(zhǔn)的同時，提供配套的技術(shù)輔助文件來說明標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容，增強(qiáng)人們對標(biāo)準(zhǔn)的理解。同時，國家應(yīng)鼓勵專家學(xué)者發(fā)表標(biāo)準(zhǔn)方面的論文和著作，這有利于標(biāo)準(zhǔn)的順利實施和推廣普及。

（5）根據(jù)行業(yè)需求，發(fā)布新標(biāo)準(zhǔn)。通過表4可以看到，現(xiàn)有光學(xué)薄膜產(chǎn)品應(yīng)用類標(biāo)準(zhǔn)僅涉及顯微鏡、光譜儀、生化分析儀及電影放映機(jī)等方面。隨著光學(xué)薄膜技術(shù)的發(fā)展，其應(yīng)用領(lǐng)域在不斷擴(kuò)展，如手機(jī)的顯示觸摸屏、3D立體影像、天文觀測等方面都有光學(xué)薄膜的身影。因此，在光學(xué)薄膜應(yīng)用領(lǐng)域，應(yīng)隨著產(chǎn)品的逐漸發(fā)展成熟而酌情頒布新的標(biāo)準(zhǔn)。

4結(jié)論

隨著光學(xué)薄膜技術(shù)水平的提升，行業(yè)上對標(biāo)準(zhǔn)化的要求也不斷提高。為了使光學(xué)薄膜行業(yè)相關(guān)人士了解本行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)狀況，本文針對光學(xué)薄膜技術(shù)相關(guān)的5個領(lǐng)域，論述了相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展概況，并結(jié)合現(xiàn)狀對光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展提出了幾點建議。相信我國光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)會越來越完善，我國的標(biāo)準(zhǔn)化水平也會不斷踏上新的臺階。參考文獻(xiàn)：

[1]葉帆，顧兵，黃曉琴.薄膜材料折射率色散的進(jìn)展與展望[J].光學(xué)儀器，2010，32（4）：90-94.

[2]中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局.GB/T 20000.1-2002 標(biāo)準(zhǔn)化工作指南 （第1部分）：標(biāo)準(zhǔn)化和相關(guān)活動的通用詞匯[S].北京：中國標(biāo)準(zhǔn)出版社，2002.

[3]莫潔.我國標(biāo)準(zhǔn)化工作建設(shè)現(xiàn)狀分析及對策研究[J].生產(chǎn)力研究，2012（7）：166-169.

[4]果寶智.光學(xué)表面光潔度評述[J].激光與紅外，1991，21（4）：29-34.

[5]劉慶明，盛益鵬.GB/T 1185《光學(xué)零件表面疵病》與俄、美相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)對比分析[J].國防技術(shù)基礎(chǔ)，2007（8）6-10，18.