張巧麗,鄭 帥,張照飛,劉炳泗
(天津大學(xué) 化學(xué)系, 天津 300072)
化學(xué)鍍銅技術(shù)可以將銅離子均勻地沉積到非導(dǎo)體材料表面,形成的銅鍍層厚度均勻,無明顯的邊緣效應(yīng),而且具有外觀光亮、晶粒細、致密、孔隙率低等優(yōu)點。因此,化學(xué)鍍銅技術(shù)廣泛應(yīng)用于電子元器件的制備和電磁干擾屏蔽罩的生產(chǎn),大規(guī)模集成電路和超大規(guī)模集成電路的生產(chǎn),塑料、玻璃和陶瓷的金屬化,電子封裝技術(shù)中陶瓷電路襯底的金屬化以及納米Cu-Al2O3復(fù)合粉體、ZnO-SnO復(fù)合材料的制備。然而,由此產(chǎn)生的化學(xué)鍍銅廢液中含有大量的硫酸銅、EDTA、酒石酸鉀鈉等物質(zhì),這些廢液排放于環(huán)境后不易分解,對環(huán)境造成污染。
據(jù)文獻報道,回收廢液中銅的方法主要有活性炭吸附法[1]、溶劑萃取法[2]、化學(xué)沉淀法[3]、膜分離法[4]等。對于絡(luò)合劑,主要是利用光降解法[5],微電解-Fenton-絮凝沉淀法[6]、電解法[7]等對其進行降解。
我們在參考有關(guān)文獻的基礎(chǔ)上,探索和研究了處理化學(xué)鍍銅廢液比較經(jīng)濟、有效的方法,使Cu和EDTA得以回收利用,并利用高級氧化法降低廢液的COD值,達到國家排放標準[8]。
將化學(xué)鍍銅后產(chǎn)生的廢液收集起來進行成分分析[9],其中含有CuSO4?5H2O 4.03 g/L,甲醛0.97 g/L,pH = 11.11 (T = 30 ℃)。此外,溶液中還含有EDTA-Na2,酒石酸鉀鈉、乙醇等絡(luò)合劑和穩(wěn)定劑。
在50 ℃下,按30~35 g/L的比例投加NaOH和一定量的銅粉,立即劇烈攪拌,30 min后停止加熱,溶液中即有棕紅色的銅析出,且上清液無色澄清透明。
將上述濾液用H2SO4(1∶1) 酸化,在室溫下,調(diào)至pH = 1.4~1.6,劇烈攪拌5 min,有沉淀析出,靜置1 h,沉淀析出完全,上清液澄清透明。過濾,即得EDTA。
室溫下,在上述濾液中逐漸加入漂白粉并不斷攪拌,使溶液pH至6左右,即沉淀析出酒石酸鈣。
在去除酒石酸鉀鈉后的廢液中加入H2O2(質(zhì)量分數(shù)30%)30 mL/L,F(xiàn)eSO4?7H2O 0.9 g/L以及活性炭1.38 g/L,在常溫下超聲1 h (40 kHz) 后過濾。測定 COD[10]前,在濾液中加入適量的 MnO2去除剩余的 H2O2。
本實驗回收銅的原理為利用廢液中剩余的甲醛做還原劑,增加NaOH的量使廢液發(fā)生自分解:
其中,加入適量的銅粉是為了使其分散在廢液中,成為廢液分解的催化中心,減少NaOH的用量,使鍍液分解更徹底。陳世榮等[11]研究了利用還原法沉積銅的最佳實驗條件,銅離子的去除率達到99.42%。而本實驗中加入堿的量是陳世榮實驗量的1/3左右,廢液中剩余的銅含量利用原子吸收光譜法測定后為3 mg/L,銅離子的去除率達99.7%以上。
將回收的銅粉進行了X射線衍射分析,結(jié)果如圖1所示。與銅的標準XRD譜圖PDF#65-9743對照,可以確定圖中衍射峰為金屬銅的衍射峰,分別歸屬于金屬銅的(111)、(200)晶面。圖中沒有觀察到雜質(zhì)峰的存在,可知銅粉為純凈物。用Scherrer方程:Dhkl= klbcosq,可以計算粉末的晶粒尺寸。其中常數(shù)k的值為0.89,X射線波長λ為0.1541 nm。根據(jù) Bragg方程: 2dsin q =nl得到晶面間距d。由表1中所得數(shù)據(jù)可知,析出的銅粉為納米銅。
圖1 回收銅粉的XRD圖譜Fig.1 XRD pattern of recovery copper powder
表1 銅晶粒信息表Table 1 The information of copper grain
為了確定提取物質(zhì)的結(jié)構(gòu),對其進行了紅外測試,并與分析純EDTA的紅外譜圖進行了對比,如圖2所示。其中,3 432 cm-1是H2O分子振動產(chǎn)生的吸收峰;3 017 cm-1是羧基中O-H伸縮振動產(chǎn)生的吸收峰;1 694 cm-1和1 392 cm-1分別是COO-非對稱和對稱伸縮振動產(chǎn)生的吸收峰;1 315 cm-1是COO-其他振動形式產(chǎn)生的吸收峰。從圖中的對比曲線可以看出,提取的物質(zhì)和分析純 EDTA吸收峰的位置一致,只是在指紋區(qū)581 cm-1和468 cm-1處,峰形有些區(qū)別,說明提取物質(zhì)是EDTA,并且其純度很高。
圖2 回收物質(zhì)和分析純EDTA的FT-IR譜圖Fig.2 FT-IR spectra of (a) recovery material and (b)analytical pure EDTA
圖3 回收物質(zhì)的1H NMRFig.3 1H NMR spectra of recovery material
為了進一步確定回收物質(zhì)的結(jié)構(gòu),還對其進行了核磁分析。由圖3可知,除去溶劑D2O的峰之外,圖中還有兩類質(zhì)子峰。由積分曲線計算得到這兩類質(zhì)子數(shù)的比例為2 : 1。羧基上的H很活潑,在1H NMR中沒有顯示?;瘜W(xué)位移在3.52 ppm處的峰是與N相連的2個-CH2-上的H產(chǎn)生的;化學(xué)位移在3.89 ppm處的峰是與-COOH相連的4個-CH2-上的H產(chǎn)生的。除此之外,圖中并無其他類型的H出現(xiàn),由此,可進一步確定回收的物質(zhì)確實是EDTA,并且其中幾乎沒有雜質(zhì),純度很高。
漂白粉中含有多種鈣鹽且廉價易得,因此本實驗采用漂白粉去除酒石酸鉀鈉。許景文[12]曾采用CaCl2、CaSO4·1/2H2O、Ca(OH)2等不同鈣鹽去除酒石酸鉀鈉,相比之下,使用漂白粉可以降低處理成本。
對于廢液中剩余的有機物,采用活性碳-Fento n-超聲聯(lián)合法進行處理后,其COD值由2 000 mg/L降至523 mg/L,基本上達到了國家最低排放標準。
本實驗通過加入過量的 NaOH,破壞鍍液穩(wěn)定存在的條件,使其發(fā)生分解,得到了高純度的納米銅粉。同時加入適量的銅粉做催化劑,鍍液分解更快、更完全。然后,利用EDTA不溶于水,將廢液的pH調(diào)至酸性,EDTA-Na2轉(zhuǎn)換成高純度的EDTA析出。最后,利用漂白粉使酒石酸呈鈣鹽除去,剩余的有機物利用活性碳-Fenton-超聲聯(lián)合降解,使廢液的COD達到國家排放標準,達到消除污染,保護環(huán)境的目的。
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