摘 要 納米氧化鋅薄膜是一種新型的寬禁帶直接帶隙半導體材料,激子結合能較高,具有很高的熱穩(wěn)定性和較好的化學穩(wěn)定性,晶格和光電性能優(yōu)異,在各類電子和短波光學器件方面應用廣泛,因此成為了國內外的研究熱點。文章重在闡述其發(fā)光特性和研究現(xiàn)狀,并展望其發(fā)展前景。
關鍵詞 納米ZnO薄膜;特性;進展
中圖分類號:O484 文獻標識碼:A 文章編號:1671-7597(2014)13-0008-02
純ZnO及其摻雜薄膜具有優(yōu)異的晶格和光電性能,易于產生缺陷和進行雜質摻雜,并且具有價格低、無毒性、良好的機電耦合性能,低的電子誘生缺陷等優(yōu)勢,使其在光電元器件領域得到廣泛開發(fā)和應用。
1 薄膜的特性
ZnO晶體為II-VI族六方纖鋅礦結構寬禁帶半導體材料,室溫下禁帶寬度約為3.37eV,ZnO的另一個特點是激子結合能(60meV)高,能有效地工作于室溫及更高溫度。ZnO的熔點為1975℃,化學穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性較高,500℃以下就可以制備出ZnO薄膜,這比SiC、GaN和其他II-VI族寬禁帶半導體材料的制備溫度要低很多。這使ZnO成為室溫短波長光電子材料的研究熱點。本征態(tài)的ZnO理論上是絕緣體,但事實上由于ZnO中鋅間隙和氧空位的存在,為n型半導體。優(yōu)質的ZnO薄膜具有c軸擇優(yōu)取向生長。ZnO薄膜在可見光區(qū)透過率高達90%,電阻率低至10-4Ω·cm,是一種理想的透明導電薄膜。
2 薄膜的發(fā)光機理
2.1 紫外光的發(fā)射
一般認為ZnO的紫外發(fā)射與帶邊激子對的復合有關,其發(fā)射強度由化學配比、晶格完整性和結晶質量決定,結晶質量越好的ZnO薄膜紫外發(fā)射強度越高。
2.2 綠光的發(fā)射
ZnO薄膜的藍-綠發(fā)光一直是人們研究的熱點。不同于紫外發(fā)射,人們對綠光發(fā)射持有不同見解。通常認為綠光源于氧空位與價帶空穴間的復合躍遷[1]和氧空位與鋅空位間的躍遷[2]。還有研究認為鋅間隙與綠光有關。近幾年的研究認為綠光來自導帶底到氧位錯缺陷能級間的躍遷[3]。對于確切的哪種點缺陷在綠光發(fā)射中占據(jù)主導作用學者們仍在探究。
2.3 其他光的發(fā)射
圖1 利用全勢線性多重軌道的方法計算的ZnO本征缺陷能級[7]
在研究ZnO薄膜的發(fā)光中,還常伴有紫光、黃光、橙光和紅光。其機理為:紫光源于晶界產生的輻射缺陷能級與價帶之間的躍遷[4]。黃光與氧間隙[5]或一種ZnO2的配比結構有關。橙、紅光與富氧的ZnO 結構[6]或沉積過程中形成的自然缺陷相關。
文獻[7]是利用全勢線性多重軌道的方法計算ZnO本征缺陷能級水平,這對發(fā)光機理的研究起到了推動性作用。
3 ZnO薄膜的研究現(xiàn)狀及展望
ZnO以其優(yōu)異的性能(主要是低閾值高效光電特性、強烈的紫外吸收和紫外激光發(fā)射、量子限域效應、光催化和壓電等性能)在半導體氧化物中獨占鰲頭,ZnO薄膜以其原料廉價易得,生長溫度相對低,成膜質量高,較易實現(xiàn)摻雜,成為了應用廣泛的透明導電薄膜。自1997年發(fā)現(xiàn)ZnO薄膜具有紫外受激發(fā)射的特性以來,此后在室溫下觀測到具有納米結構的微晶薄膜光泵激光發(fā)射,因其激子結合能(60meV)比同是寬禁帶材料的ZnSe(20meV)、GaN(28meV)高出許多,能有效工作于室溫(26mev)及更高溫度,且制備溫度比GaN和其他II-VI族半導體寬禁帶材料的制備溫度低很多,使得薄膜與襯底原子的互擴散得到了大大降低。ZnO成為繼GaN之后新的短波長半導體材料的研究熱點。ZnO薄膜在可見光范圍內透過率高達90%,可以應用于優(yōu)質的太陽能電池透明電極。在紫外和紅外光譜范圍內具有強烈的吸收作用,可做為相應光譜區(qū)的阻擋層。目前ZnO薄膜在表面聲波器件和壓電傳感器領域已投入應用,隨電阻率變化的氣敏元件正在研發(fā)中,但從實驗室研究向大生產轉化還需時日。
3.1 摻雜和PN結的制作
純ZnO由于載流子濃度較低,電阻率較高,可以通過摻雜改變其性能。目前n型ZnO研究較多的是鋁摻雜氧化鋅(AZO),但由于Al原子半徑比Zn原子半徑大,摻雜中晶格畸變較大,會影響到薄膜的光電特性,而且Al較活潑,易被氧化。因此AZO在高溫下氧缺位會因Al的氧化而消失,從而抑制了Al的摻雜效率,使薄膜的電阻率升高,影響薄膜的穩(wěn)定性。但在溫度相對低的情況,Al的摻雜提高其電導率,又不影響光的透過率。AZO薄膜在活性氫和氫等離子體環(huán)境中穩(wěn)定性高,不易降低太陽能電池材料的活性,且廉價易得,在太陽能電池、平板顯示器、半導體器件領域應用廣泛??梢姄诫s是ZnO薄膜改性的手段,不同物質和條件下的摻雜使ZnO薄膜具備不同的特性。
ZnO薄膜作為一種光電半導體材料,制作出p-n 結是實現(xiàn)應用的關鍵。制備出穩(wěn)定的可重復的高性能的p型ZnO薄膜異常困難,大多存在著高電阻率、低遷移率、低載流子濃度和不穩(wěn)定等問題。其原因一是ZnO中氧空位、鋅間隙及生長中引入的H雜質等大量施主缺陷,對摻雜的受主缺陷的補償。二是ZnO中受主能級較深,室溫狀態(tài)離化產生空穴太難。三是一些受主雜質元素在薄膜中的固溶度低,難以提高載流子濃度。目前Minegishi等已經制備出了p型摻雜的ZnO薄膜,但其少子密度較低,且遠低于實現(xiàn)pn結所需要的濃度。高質量、低電阻、穩(wěn)定的p型ZnO薄膜仍亟待研究。
制備出高濃度p型摻雜的ZnO從而制作出pn結是目前學者們的努力方向。除了努力實現(xiàn)高濃度p型摻雜之外,由于GaN和ZnO晶格匹配性較好,且p-GaN已經實現(xiàn),因此利用p- GaN和n-ZnO來制作pn結相對容易實現(xiàn)。
3.2 應用前景
ZnO薄膜在光電、晶格、氣敏、壓敏、壓電等方面性能優(yōu)異且熱穩(wěn)定性高,目前,ZnO薄膜的應用主要有:制作紫外光器件、制作表面聲波器件、LED(發(fā)光二極管)、液晶顯示、LD(激光二極管)、氣敏和壓敏器件、可與GaN互作緩沖層、用于光電器件的單片集成,納米ZnO薄膜以其無毒穩(wěn)定且廉價易得的特性,有替代太陽能電池材料ITO(氧化銦錫)和二氧化錫等透明導電薄膜的趨勢,推動了廉價太陽電池的發(fā)展。還可做為玻璃窗的熱反射涂層,提高建筑物的熱量利用率。用作紫外光阻擋層有效妨害紫外線輻射等。endprint
4 ZnO薄膜的制備方法
有射頻磁控濺射、分子束外延(MBE)、溶膠凝膠(Sol-gel)、金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)、脈沖激光沉積(PLD)等。脈沖激光沉積由于其工藝參數(shù)易于控制,沉積溫度相對低,沉積薄膜的成分更接近于靶材,即使是多種成份的合金靶也可以用此方法獲得,且成膜質量高,薄膜與襯底粘結度高。采用激光器做光源,避免了污染等優(yōu)點。此法已廣泛應用于制備高質量的ZnO薄膜。
5 結論
納米ZnO薄膜性能優(yōu)異、應用廣泛、價格低廉,且其制備方法相對簡單多樣、易于實現(xiàn)摻雜且與硅IC兼容,利于實現(xiàn)電子元器件的集成,這些元器件已成為各類光學器件的重要組成部分,是極具開發(fā)前景的光電薄膜材料之一。隨著研究的不斷開展,ZnO薄膜的技術及應用必將更廣泛地影響到人們的生產和生活。
參考文獻
[1]Takata S, Minani T, Nanto H. DC EL in annealed thin films of sputtered ZnO [J]. Jpn J Appl Phys, 1981, 20(9):1759-1760.
[2]Vanheusden K, Seager C H, Warren W L, Tallant D R, Caruso J, Hampden -Smith M J, Kodas T T. Correlation between photoluminescence and oxygen vacancies in ZnO photophors[J]. Appl Phys Lett, 1996, 68(3): 403-405.
[3]Jin B J, Im S, Lee S Y. Violet and UV luminescence emitted from ZnO thin films grown on by pulsed laser deposition [J]. Thin Solid Film, 2000, 36: 107 - 110.
[4]Studenikin S A, Golego N, Cocivera M. Fabrication of green and orange photoluminescent, undoped ZnO films using spray pyrolysis. Appl Phys. 1998, (4):2287 - 2294.
[5]Minamit, Nantoh, Takatas. UV emission from sputtered zinc oxide thin films. Thin Solid Film, 1983, 109(4):379-384.
[6]Liu M, Kitai A H, Mascher P. Point defects and luminescence centers in zinc oxide and zinc oxide doped with manganese. J Luminescence, 1992 (54): 35-42.
[7]Y.M. Sun, Ph.D. thesis, University of Science and Technology of China, July, 2000.
作者簡介
陳雪嬌(1984-),女,遼寧鞍山人,中級職稱,碩士研究生,研究方向:納米薄膜材料。endprint
4 ZnO薄膜的制備方法
有射頻磁控濺射、分子束外延(MBE)、溶膠凝膠(Sol-gel)、金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)、脈沖激光沉積(PLD)等。脈沖激光沉積由于其工藝參數(shù)易于控制,沉積溫度相對低,沉積薄膜的成分更接近于靶材,即使是多種成份的合金靶也可以用此方法獲得,且成膜質量高,薄膜與襯底粘結度高。采用激光器做光源,避免了污染等優(yōu)點。此法已廣泛應用于制備高質量的ZnO薄膜。
5 結論
納米ZnO薄膜性能優(yōu)異、應用廣泛、價格低廉,且其制備方法相對簡單多樣、易于實現(xiàn)摻雜且與硅IC兼容,利于實現(xiàn)電子元器件的集成,這些元器件已成為各類光學器件的重要組成部分,是極具開發(fā)前景的光電薄膜材料之一。隨著研究的不斷開展,ZnO薄膜的技術及應用必將更廣泛地影響到人們的生產和生活。
參考文獻
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[2]Vanheusden K, Seager C H, Warren W L, Tallant D R, Caruso J, Hampden -Smith M J, Kodas T T. Correlation between photoluminescence and oxygen vacancies in ZnO photophors[J]. Appl Phys Lett, 1996, 68(3): 403-405.
[3]Jin B J, Im S, Lee S Y. Violet and UV luminescence emitted from ZnO thin films grown on by pulsed laser deposition [J]. Thin Solid Film, 2000, 36: 107 - 110.
[4]Studenikin S A, Golego N, Cocivera M. Fabrication of green and orange photoluminescent, undoped ZnO films using spray pyrolysis. Appl Phys. 1998, (4):2287 - 2294.
[5]Minamit, Nantoh, Takatas. UV emission from sputtered zinc oxide thin films. Thin Solid Film, 1983, 109(4):379-384.
[6]Liu M, Kitai A H, Mascher P. Point defects and luminescence centers in zinc oxide and zinc oxide doped with manganese. J Luminescence, 1992 (54): 35-42.
[7]Y.M. Sun, Ph.D. thesis, University of Science and Technology of China, July, 2000.
作者簡介
陳雪嬌(1984-),女,遼寧鞍山人,中級職稱,碩士研究生,研究方向:納米薄膜材料。endprint
4 ZnO薄膜的制備方法
有射頻磁控濺射、分子束外延(MBE)、溶膠凝膠(Sol-gel)、金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)、脈沖激光沉積(PLD)等。脈沖激光沉積由于其工藝參數(shù)易于控制,沉積溫度相對低,沉積薄膜的成分更接近于靶材,即使是多種成份的合金靶也可以用此方法獲得,且成膜質量高,薄膜與襯底粘結度高。采用激光器做光源,避免了污染等優(yōu)點。此法已廣泛應用于制備高質量的ZnO薄膜。
5 結論
納米ZnO薄膜性能優(yōu)異、應用廣泛、價格低廉,且其制備方法相對簡單多樣、易于實現(xiàn)摻雜且與硅IC兼容,利于實現(xiàn)電子元器件的集成,這些元器件已成為各類光學器件的重要組成部分,是極具開發(fā)前景的光電薄膜材料之一。隨著研究的不斷開展,ZnO薄膜的技術及應用必將更廣泛地影響到人們的生產和生活。
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[3]Jin B J, Im S, Lee S Y. Violet and UV luminescence emitted from ZnO thin films grown on by pulsed laser deposition [J]. Thin Solid Film, 2000, 36: 107 - 110.
[4]Studenikin S A, Golego N, Cocivera M. Fabrication of green and orange photoluminescent, undoped ZnO films using spray pyrolysis. Appl Phys. 1998, (4):2287 - 2294.
[5]Minamit, Nantoh, Takatas. UV emission from sputtered zinc oxide thin films. Thin Solid Film, 1983, 109(4):379-384.
[6]Liu M, Kitai A H, Mascher P. Point defects and luminescence centers in zinc oxide and zinc oxide doped with manganese. J Luminescence, 1992 (54): 35-42.
[7]Y.M. Sun, Ph.D. thesis, University of Science and Technology of China, July, 2000.
作者簡介
陳雪嬌(1984-),女,遼寧鞍山人,中級職稱,碩士研究生,研究方向:納米薄膜材料。endprint