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        金鹽利用率提高之研究

        2014-07-31 07:19:26張桂艷邸桂娟
        印制電路信息 2014年5期
        關(guān)鍵詞:工藝

        張桂艷 王 剛 邸桂娟 劉 喆 韓 旭

        (阿濱儀器(天津)有限公司,天津 300250)

        (天津普林電路股份有限公司,天津 300250)

        1 前言

        在世界工業(yè)化過(guò)程中,雖然經(jīng)濟(jì)一度快速增長(zhǎng),但由于自然資源的過(guò)度開(kāi)發(fā)與消耗,污染物質(zhì)的大量排放,導(dǎo)致出現(xiàn)了全球性的資源短缺、環(huán)境污染和生態(tài)破壞等諸多問(wèn)題。我國(guó)在發(fā)展的過(guò)程中也出現(xiàn)了環(huán)境污染等現(xiàn)象,堅(jiān)持節(jié)約資源和保護(hù)環(huán)境業(yè)已成為我國(guó)的基本國(guó)策。

        PCB的生產(chǎn)制程復(fù)雜,產(chǎn)品從設(shè)計(jì)制作到最終的成品入庫(kù),少則三四十道流程,多則達(dá)到七、八十道流程;所用材料類(lèi)別至上千種之多。而這其中,資源投入最大的有兩種:第一種是板材,占到整個(gè)PCB加工成本的30%~40%的水平;其次是貴金屬—黃金(圖1中“by production area”是按照使用這種表面處理的生產(chǎn)面積;另一種“by process cost” 則是將生產(chǎn)面積乘上單位面積成本,也就是使用這種表面處理的總費(fèi)用,HASL僅包含flux與oil不含金屬,而ENIG/ENEPIG則是不含“金鹽”的費(fèi)用;市場(chǎng)的趨勢(shì):ENIG/ENEPIG與HSAL持續(xù)減少,ImAg 持平,ImSn逐漸增加,而OSP增加最多。),占到整個(gè)PCB加工成本的20%以上;整個(gè)PCB產(chǎn)業(yè),每年估計(jì)要消耗6000 kg~7000 kg的黃金,其中有10%~15%的黃金是因帶出而白白順著地溝流失掉了,還有10%~20%的黃金消耗到工藝設(shè)計(jì)邊上等等;本文圍繞如何合理消耗黃金來(lái)加以分析論述。

        2 背景介紹

        黃金主要以氰化亞金鉀[KAu(CN)2]的形式用于PCB表面處理中的沉鎳浸金(ENIG)及電鍍鎳金工藝(PNG);氰化亞金鉀又稱(chēng)“金鹽”,是電鍍金的主鹽,主要應(yīng)用在電路板、連接線(xiàn)、引線(xiàn)框架等各類(lèi)電子零件以及通訊、軍事和科學(xué)儀器等鍍金方面,也可作為裝飾電鍍。

        PCB行業(yè)表面工藝,常見(jiàn)的是熱風(fēng)整平(有鉛/無(wú)鉛之分)、有機(jī)保護(hù)膜(OSP)、化學(xué)沉鎳浸金、浸銀和浸錫這五種(圖1)。其它表面處理工藝是化學(xué)鎳鈀金和電鍍鎳金工藝。

        正常情況下,電鍍金焊接時(shí)存在變脆的問(wèn)題;化學(xué)沉鎳金工藝因?yàn)榻鸷鼙。?.05 mm ~ 0.1 mm)且均勻性好,變脆的現(xiàn)象很少發(fā)生;同時(shí),沉鎳金有較長(zhǎng)的存儲(chǔ)期,并在長(zhǎng)期使用過(guò)程中保持良好的電性能,具有其它表面工藝所不具備的的對(duì)環(huán)境的忍耐性;其加工成本也是PCB表面處理工藝中最高的,其成本的組成是:藥液部分占30%,金鹽占到70%。

        圖1 PCB表面工藝分布比例

        3 化學(xué)鎳金反應(yīng)原理

        3.1 化學(xué)鎳

        主成分:

        (1)硫酸鎳——提供鎳離子

        (2)次磷酸二氫鈉——還原劑,使鎳離子還原為金屬鎳

        (3)錯(cuò)合劑——形成鎳錯(cuò)離子,防止氫氧化鎳及亞磷酸鎳生成,增加鍍液的穩(wěn)定性,緩沖pH值變動(dòng)

        (4)pH調(diào)整劑——維持適當(dāng)pH

        (5)安定劑——防止鎳在膠體離子或其他微離子上還原

        (6)添加劑——增加被鍍物表面的負(fù)電位,使啟鍍?nèi)菀准霸黾舆€原效率。

        功能:(1)在活化后的銅面鍍上一層Ni/P合金,作為阻絕金與銅之間遷移(Migration)或擴(kuò)散(Diffusion)的障蔽層。

        3.2 浸金

        主成分:(1)氰化亞金鉀KAu(CN)2,(2)有機(jī)酸,(3)螯合劑。

        功能:(1)提供Au(CN)2—錯(cuò)離子來(lái)源,在鎳面置換(離子化趨勢(shì)Ni>Au)沉積出金屬,(2)防止鎳表面產(chǎn)生鈍態(tài)并與溶出的Ni2+結(jié)合成錯(cuò)離子,(3)抑制金屬污染物(減少游離態(tài)的Ni2+,Cu2+等)。

        主反應(yīng):

        4 浸金的收支平衡

        生產(chǎn)線(xiàn)體,通常采用人工手動(dòng)的方式進(jìn)行金鹽的添加:在產(chǎn)品從金槽藥液中提起后,將金鹽直接倒進(jìn)藥液中,因?yàn)?0 ℃以上的工作溫度足以使金鹽快速溶解完全。實(shí)驗(yàn)室每天對(duì)金槽藥液進(jìn)行原子吸收分析,給出金鹽添加量;金鹽的添加量到底合理嗎?金鹽的投入和產(chǎn)出平衡嗎?懷揣著這些疑問(wèn),我們進(jìn)行了實(shí)際的生產(chǎn)過(guò)程測(cè)試。

        分析、觀(guān)察印制電路板在金槽的進(jìn)出生產(chǎn);總結(jié)出,金鹽的消耗不外乎三個(gè)方面:(1)沉積到最終發(fā)貨的客戶(hù)圖形上;(2)沉積到印制電路板的工藝設(shè)計(jì)板邊上;(3)隨印制電路板上殘留的金槽藥液被帶出。實(shí)驗(yàn)測(cè)試如下:

        建立起金鹽的支出數(shù)據(jù):

        (1)建立起客戶(hù)圖形的金鹽消耗:

        (2)建立起非客戶(hù)圖形,即工藝設(shè)計(jì)邊的金鹽消耗:

        我們是圖形電鍍,堿性蝕刻工藝,四個(gè)工藝邊都有銅金屬被沉積上鎳金,寬度都是10 mm;消耗金鹽:

        (3)建立起板子從金槽帶出的金鹽消耗:

        為盡可能模擬出生產(chǎn)時(shí),板子上實(shí)際帶出的金槽藥液情況;我們選取已經(jīng)沉完鎳金,下線(xiàn)報(bào)廢的板子;并在金槽不生產(chǎn)時(shí),藥液溫度在50 ℃以下;目的是減少板子繼續(xù)被沉積上金,也為了減少板子對(duì)金槽藥液的污染。測(cè)試過(guò)程如下:

        ①清洗烘干測(cè)試板,稱(chēng)重為W1。

        ②干燥的籃筐,稱(chēng)重為W2。

        ③包裹測(cè)試板和籃筐用塑料袋重量,稱(chēng)重為W3。

        ④上板到籃筐內(nèi),在水洗槽潤(rùn)濕后,吊起到金槽降落1 min后提起,靜置滴水30 s后,用塑料袋將整個(gè)籃筐及籃筐內(nèi)的板子包裹嚴(yán)實(shí),取下稱(chēng)重為W4。

        ⑤ 測(cè)量當(dāng)時(shí)條件下,金槽藥液密度為ρ。

        ⑥ 測(cè)量當(dāng)時(shí)條件下,金槽藥液中的金濃度C。

        ⑦ 計(jì)算出,籃筐內(nèi)測(cè)試板的坯板面積S。

        從而計(jì)算出單平米坯板所帶出的金鹽量:

        小結(jié):統(tǒng)計(jì)上一日添加金鹽后,到當(dāng)日添加金鹽前,所加工的產(chǎn)品及產(chǎn)量M;根據(jù)上述公式計(jì)算得出這一時(shí)間段金鹽的支出量:(X+Y+Z×M)克。

        建立起金鹽的投入數(shù)據(jù):

        (1)統(tǒng)計(jì)線(xiàn)體每天實(shí)際金鹽的添加量M1。

        固定化驗(yàn)室每天早晨8點(diǎn)30分取樣化驗(yàn)金濃度,無(wú)論生產(chǎn)與否。

        (2)統(tǒng)計(jì)線(xiàn)體金槽內(nèi)每天金鹽的落差量M2。

        小結(jié):

        統(tǒng)計(jì)上一日金鹽的實(shí)際添加量,再加上當(dāng)日金槽內(nèi)的濃度差所投入的金鹽量,即是這個(gè)時(shí)間段內(nèi)金鹽的投入總量:(M1+M2)克。

        這樣,用生產(chǎn)線(xiàn)體加工產(chǎn)品支出的金鹽量,減去線(xiàn)體實(shí)際添加的金鹽量,根據(jù)這個(gè)差值來(lái)判定我們的金鹽支出與投入是否平衡;詳見(jiàn)表1的測(cè)試數(shù)據(jù)。

        得出的結(jié)論是:

        (1)客戶(hù)圖形上沉積消耗的金鹽所占比例為71.31%。

        (2)板邊圖形上沉積消耗的金鹽所占比例為18.10%。

        (3)籃筐與板子帶出消耗的金鹽所占比例為10.58%。

        5 金鹽利用率的提高

        搞清楚了金鹽的收支平衡關(guān)系,為我們提高金鹽的利用率打下了良好的基礎(chǔ)。

        5.1 降低客戶(hù)圖形的金鹽消耗

        因?yàn)榭蛻?hù)的圖形面積減少不了,所以需要從沉積到客戶(hù)圖形上的金厚度方面來(lái)著手。行業(yè)上通常執(zhí)行0.05 mm ~ 0.1 mm的金厚度標(biāo)準(zhǔn)。生產(chǎn)中,如何將金厚度控制在接近客戶(hù)下限值要求,而又不超出控制范圍呢?首先,我們用mintab分析現(xiàn)有Y水平(Y定義為沉鎳金的金厚度,且Y≥0.05mm。)(圖2數(shù)據(jù)源是2013.01~2013.05)

        表1 沉鎳金工序金鹽收支平衡表

        圖2 金厚度分布

        數(shù)據(jù)分析:現(xiàn)有Y水平(沉金厚度)為0.0616 mm,已低于0.075 mm的中線(xiàn)值,且距離0.05 mm的下限值較近;在每天人工手動(dòng)添加金鹽的方式下,對(duì)于連續(xù)生產(chǎn)的線(xiàn)體,通過(guò)金濃度、溫度的調(diào)整來(lái)降低金厚度,便存在低下限的隱患;這相對(duì)于質(zhì)量來(lái)說(shuō)就得不償失了。若誤差max(10%,0.015 mm),這樣的精度來(lái)調(diào)整,難度不?。粸楸WC線(xiàn)體的穩(wěn)定生產(chǎn),我們快速將工作重點(diǎn)轉(zhuǎn)移到非客戶(hù)的金鹽消耗方面。

        5.2 降低工藝邊的金鹽消耗

        我公司采用的是圖形電鍍工藝,堿蝕后在坯板的四邊上各留有10 mm寬的銅邊;這10 mm寬的銅是裸露著轉(zhuǎn)到下道工序——沉鎳金,這部分必然被沉積上鎳金而增加金鹽的消耗;如何來(lái)解決這一問(wèn)題呢?當(dāng)然,如果采取負(fù)相酸性蝕刻工藝,坯板四邊肯定是沒(méi)有銅的殘留了,但我公司酸蝕設(shè)備產(chǎn)能不足,只有內(nèi)層產(chǎn)品才能走酸蝕;所以這條路行不通。

        通過(guò)對(duì)生產(chǎn)加工流程和加工能力的仔細(xì)分析,我們大膽提出改進(jìn)方案:將10 mm的坯板四邊用銑床銑掉的方法,但會(huì)保留字符V槽銑床的定位孔以及熱風(fēng)掛具孔等下游工序需要的工藝孔(圖3);舉例:對(duì)于一塊610 mm×457 mm(24″×18″)的板子。

        更改前,坯板四邊的裸銅面積:

        更改后,坯板四邊的裸銅面積:

        改進(jìn)后工藝邊的裸銅面積下降88.2%;經(jīng)過(guò)樣品、小批量、批量的跟蹤生產(chǎn),此設(shè)計(jì)方案在沒(méi)有影響字符、V槽、銑床正常生產(chǎn)操作的前提下,加工產(chǎn)品質(zhì)量沒(méi)有降低的前提下,達(dá)到了節(jié)約沉鎳藥液和金鹽,節(jié)約熱風(fēng)整平錫條的效果。

        圖3 坯板四邊改進(jìn)(A處是下沉定位孔,B處是定位孔,C、D兩處是保留的金相測(cè)試孔)

        5.3 降低板材和籃筐帶出的金鹽消耗

        我公司是垂直掛藍(lán)沉鎳金線(xiàn)體,要降低金鹽帶出:需要(1)減少籃筐的表面積;(2)減少坯板有效面積;(3)延長(zhǎng)籃筐從金槽出來(lái)后的滴水時(shí)間。

        現(xiàn)實(shí)是:籃筐是用耐酸堿、耐高溫的綠膠包裹,板間使用聚四氟繩隔離;坯板尺寸也是由工程設(shè)計(jì)到最好的拼板利用率;沉金后的滴水時(shí)間也已經(jīng)是30 s了。所以降低帶出的空間已經(jīng)很小。41.92 ml/m2的帶出量已經(jīng)控制到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)[(50~100)ml/m2]的下限值了,是比較合理的了。下面的工作,就是我們?nèi)绾伟堰@個(gè)合理的帶出量盡可能的收回來(lái)了。為此,我們調(diào)研了貴金屬回收行業(yè)。

        目前,市場(chǎng)上有兩種金回收技術(shù):(1)離子樹(shù)脂交換吸附的回收技術(shù);(2)直流電解的回收技術(shù)。兩種技術(shù)的優(yōu)劣對(duì)比見(jiàn)表2。

        表2

        綜合考慮后,我們選取了電解+樹(shù)脂吸附的方式,這樣的工藝設(shè)計(jì)更全面,更合理;在金槽后的回收槽安裝在線(xiàn)電解裝置,在回收槽后的水洗槽安裝在線(xiàn)樹(shù)脂吸附裝置(圖4、圖5)。

        圖4 金回收槽安裝在線(xiàn)回收裝置

        圖5 在線(xiàn)回收裝置實(shí)物圖

        我們將電解出來(lái)的金子進(jìn)行測(cè)試,金純度達(dá)到99%以上。

        對(duì)回收槽安裝電解裝置前后金濃度的測(cè)試,可以看到:安裝后的回收槽金濃度由原來(lái)的(0.2~0.3)g/L的水平,降低并保持在0.05 g/L的水平,即回收槽內(nèi)保持在17 g金的水平;我們也統(tǒng)計(jì)了帶出的回收情況:自2013-05-28至2013-09-23,生產(chǎn)線(xiàn)回收電解金1873.3 g,折合成金鹽量為2750.8 g,期間添加金鹽量為18950 g;回收的金鹽量占到添加量的14.52%,這也證明了在上述浸金的收支平衡部分稱(chēng)重測(cè)量的10%的帶出損失數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性與合理性。

        在線(xiàn)電解回收裝置,在使用中也總結(jié)出三點(diǎn)注意事項(xiàng):

        因緊鄰85 ℃的沉金槽,回收槽的溫度基本上在35 ℃ ~ 45 ℃范圍,非常容易長(zhǎng)菌;所以,建議每月將回收槽藥液導(dǎo)入到離線(xiàn)的樹(shù)脂處理系統(tǒng)中,并對(duì)回收槽進(jìn)行徹底清洗換水,以免菌類(lèi)的生長(zhǎng)影響正常的電解;在測(cè)算回收槽內(nèi)金含量達(dá)到10 g的水平時(shí)再繼續(xù)電解,以免擊糊陰極鈦網(wǎng)。

        離線(xiàn)樹(shù)脂吸附金系統(tǒng),對(duì)于0.1 g/L的回收金液,一般48 h就吸附干凈了;若長(zhǎng)時(shí)間吸附會(huì)發(fā)現(xiàn)沉金藥液變成紫色的,這是因?yàn)樗幰褐泻墟囯x子的體現(xiàn)。

        建議測(cè)算電解金量達(dá)到1 kg以上就可以更換新的鈦網(wǎng)了,因?yàn)殁伨W(wǎng)上的網(wǎng)眼也是用來(lái)藥液流通的,若電解時(shí)間太長(zhǎng),網(wǎng)眼都會(huì)密封了,會(huì)降低電解回收效率。

        6 金鹽利用率提高的進(jìn)一步研究

        在完成“5.2降低工藝邊的金鹽消耗”和“5.3降低板材和籃筐帶出的金鹽消耗”這兩項(xiàng)工作后,我們又將工作中心轉(zhuǎn)移到“5.1降低客戶(hù)圖形的金鹽消耗”中來(lái)。

        針對(duì)0.0616 mm的現(xiàn)有Y水平(沉金厚度),只有通過(guò)使組間散布降到最低,使整體散布與組內(nèi)散布盡量保持一致,再將中心值向左偏移。為了達(dá)到樣本均值為0.055 mm的目標(biāo),假設(shè)消除組間散布,即組間的標(biāo)準(zhǔn)差為0,則整體的標(biāo)準(zhǔn)差與組內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)差相同,均為0.00327。

        查找潛在因子見(jiàn)圖6因果圖。

        (1)CNX區(qū)分—C(Constant)(表3)。

        (2) CNX區(qū)分—N(Noise)(表4)。

        (3)CNX區(qū)分—X(Variable)(表5)。

        圖6 影響沉金厚度因果圖

        表3

        表4

        表5

        (4)對(duì)C因子的Quick-win。對(duì)線(xiàn)體操作人員、金厚測(cè)量人員進(jìn)行相關(guān)培訓(xùn),規(guī)范操作動(dòng)作,正確選擇測(cè)量程序及保證輸入無(wú)誤等,將人為因素對(duì)于沉鎳金金厚的影響降到最低。

        (5)對(duì)X因子的分析。制作實(shí)驗(yàn)板(圖7),設(shè)計(jì)無(wú)導(dǎo)線(xiàn)大中小盤(pán)和有導(dǎo)線(xiàn)大中小盤(pán),在每天0:00、8:00、16:00進(jìn)行沉鎳金,并在相同時(shí)間測(cè)量金槽藥液的金含量和pH值,分析其中的關(guān)系。

        圖7 實(shí)驗(yàn)板

        通過(guò)測(cè)量實(shí)驗(yàn)板的厚度(測(cè)上中下、左中右共9個(gè)位置,每個(gè)位置測(cè)有導(dǎo)線(xiàn)大中小盤(pán)和無(wú)導(dǎo)線(xiàn)大中小盤(pán)6個(gè)點(diǎn),每板測(cè)54個(gè)點(diǎn));使用minitab軟件分析金厚度與大小盤(pán)以及與位置的關(guān)系。P值結(jié)果如表6所示。

        表6

        由minitab分析結(jié)果可知,金盤(pán)厚度與大小盤(pán)及有無(wú)導(dǎo)線(xiàn)無(wú)關(guān),與位置有較大相關(guān)性。

        沉金槽在槽體底部安裝有分流板,并有循環(huán)流量控制。金槽循環(huán)量控制在30 L/min,達(dá)4TO/H。

        (6)對(duì)X因子的分析。加入時(shí)間別的分析結(jié)果,即加入金濃度、pH分析相關(guān)性。由結(jié)果可見(jiàn)(圖8),當(dāng)加入時(shí)間別的因素時(shí),位置別的相關(guān)系數(shù)變化為0.089(較此前變大),說(shuō)明對(duì)于金厚度的影響,既有位置影響,又有時(shí)間影響(金濃度的影響),并且時(shí)間別要大于位置別的影響。

        圖8 加入金濃度相關(guān)性

        (7)整理核心因子。通過(guò)minitab分析可知,對(duì)于金厚度的影響,主要因素有兩點(diǎn)。

        ①時(shí)間影響。主要體現(xiàn)在不同時(shí)間的金濃度的變化。

        ②位置影響。主要體現(xiàn)在金槽中不同位置金濃度不同。

        可見(jiàn)保證不同時(shí)間、金槽中不同位置金濃度的穩(wěn)定成為降低金厚度散布的關(guān)鍵;配制金鹽自動(dòng)添加設(shè)備,使金鹽的濃度保持最小的波動(dòng),使不同生產(chǎn)板之間的金厚度差別最小,即組間散布達(dá)到最小。

        針對(duì)金鹽自動(dòng)添加設(shè)備,我們也進(jìn)行了一定的市場(chǎng)調(diào)研,大部分PCB企業(yè)是沒(méi)有安裝的;主要是基于安全因素考慮,以及過(guò)程存在結(jié)晶等可操作性問(wèn)題。和設(shè)備、藥液供應(yīng)商進(jìn)行溝通,給出的結(jié)論是:不會(huì)提高金鹽的利用率;對(duì)此,我持懷疑態(tài)度,并將其列為下一步重點(diǎn)推動(dòng)的工作。

        7 結(jié)語(yǔ)

        通過(guò)PCB工藝邊的設(shè)計(jì)改進(jìn),通過(guò)在線(xiàn)/離線(xiàn)回收裝置的配備;我們很好地提高了金鹽利用率,金鹽的投入量減少了20%;這是勇于創(chuàng)新的結(jié)果。創(chuàng)新在為企業(yè)創(chuàng)造價(jià)值的同時(shí),也更好的實(shí)現(xiàn)了資源的循環(huán)再利用和可持續(xù)發(fā)展;使我們生活的天空更藍(lán),水更清,地更綠。

        [1]Gold as gold. Eric Stafstrom, PC Fabrication Asid.1997, 5,6.

        [2]國(guó)家機(jī)械工業(yè)委員會(huì)統(tǒng)編. 高級(jí)電鍍工藝學(xué)[M].機(jī)械工業(yè)出版社, 1988.

        [3]上村化學(xué)(上海)有限公司. 化學(xué)鎳金資料.

        [4]天津大學(xué)無(wú)機(jī)化學(xué)研究室. 無(wú)機(jī)化學(xué)(下冊(cè))[M].高等教育出版社, 1992:2

        [5]印制電路板專(zhuān)業(yè)委員會(huì)等. 印制電路工藝[M]. 2000.

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