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        超薄Ga InP/Ga InAs/Ge太陽電池研究

        2014-04-23 02:22:38王保民
        電源技術(shù) 2014年6期
        關(guān)鍵詞:太陽電池外延襯底

        高 偉, 張 寶, 薛 超, 高 鵬, 王保民

        (中國電子科技集團(tuán)公司第十八研究所,天津 300384)

        現(xiàn)代航天工程的發(fā)展對電源系統(tǒng)的要求越來越高,一方面要求高功率,另一方面又要求盡量減小電源系統(tǒng)的質(zhì)量、體積,同時(shí)要降低成本[1]。自20世紀(jì)90年代中期以來,以砷化鎵電池為基礎(chǔ)的高效率多結(jié)太陽電池得到大力發(fā)展,但是由于使用的工藝設(shè)備、原材料等原因,電池的質(zhì)量比功率因剛性襯底的引入難以大幅度地降低。鑒于Ⅲ-Ⅴ族太陽電池的光電轉(zhuǎn)換效率高、抗輻照性能好、溫度特性優(yōu)越等優(yōu)點(diǎn),各國科研人員都在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上進(jìn)行著超薄或柔性Ⅲ-Ⅴ族太陽電池研究。

        近年來,GaInP/GaInAs/Ge結(jié)構(gòu)的砷化鎵太陽電池作為主要的電源被廣泛地應(yīng)用于各種航天器。這種結(jié)構(gòu)的太陽電池是在Ge襯底上通過MOCVD工藝進(jìn)行生長GaInP結(jié)的頂電池和GaInAs結(jié)的中間電池與擴(kuò)散形成的Ge結(jié)的底電池串聯(lián)成三結(jié)太陽電池,其中Ge材料既是襯底又是電池的重要組成部分。三結(jié)太陽電池外延層僅有6μm厚左右,電池的質(zhì)量主要集中在Ge襯底上面,目前國內(nèi)制作三結(jié)太陽電池所使用的Ge襯底一般為175μm厚,國外主要采用145μm厚。雖然襯底厚度超過140μm,但是作為Ge結(jié)使用僅僅為10μm左右。在保持光電轉(zhuǎn)換效率不變的情況下,使襯底變薄或使用超薄襯底制作三結(jié)太陽電池就可大幅度減輕電池的質(zhì)量,從而使衛(wèi)星可搭載更多的設(shè)備,降低發(fā)射成本。

        1 實(shí)驗(yàn)

        實(shí)驗(yàn)采用德國生產(chǎn)的AIXTRON 2800型行星方式旋轉(zhuǎn)反應(yīng)室的MOCVD設(shè)備進(jìn)行外延生長。采用三級(jí)純化的H2作為載氣。原材料使用高純度的金屬有機(jī)物為III族源,包含三甲基鎵(TMGa)、三甲基鋁(TMA l)、三甲基銦(TMIn)等。氣體V族氫化物為AsH3、PH3,n型摻雜源為H2稀釋的硅烷 (SiH4),p型摻雜源為金屬有機(jī)物二甲基鋅(DMZn)。生長溫度為600~700℃之間。采用雙晶衍射儀進(jìn)行測試,確定外延層的晶格匹配。電池性能參數(shù)測試設(shè)備為微機(jī)控制光譜響應(yīng)測試儀、太陽模擬器及數(shù)字化數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)。外延結(jié)構(gòu)如圖1所示。

        圖1 三結(jié)太陽電池

        實(shí)驗(yàn)使用175和80μm兩種厚度的襯底進(jìn)行生長外延結(jié)構(gòu)。由于80μm的襯底很薄,在生長前裝襯底的過程中要格外小心,以免造成碎裂。在外延的生長過程中,由于在高溫的環(huán)境下進(jìn)行生長,生長材料的熱膨脹系數(shù)不同,會(huì)使得襯底發(fā)生變形,造成外延片破裂。我們通過延長升降溫的時(shí)間,避免溫度的突變,使材料的之間應(yīng)力慢慢地釋放。在生長關(guān)鍵外延薄層的過程中,改變生長速率實(shí)現(xiàn)晶體質(zhì)量最優(yōu),一般情況下,GaAs的生長溫度低于700℃,在650~700℃間,能獲得性能優(yōu)異的GaAs晶體材料。采用間斷等生長方法,使得層與層之間具有非常陡峭的界面,使載流子濃度應(yīng)有利于形成較高接觸電勢差的突變pn結(jié),以提高電池開路電壓,也實(shí)現(xiàn)了組分穩(wěn)定。減少外延片的破裂。

        三結(jié)電池約10%的光電轉(zhuǎn)換來自由Ge結(jié)構(gòu)成的底電池的貢獻(xiàn),由于考慮到后續(xù)要對厚的襯底進(jìn)行減薄,在減薄的過程中可能會(huì)對Ge結(jié)造成影響,從而影響到整體電池的性能,所以在外延生長過程中,通過控制外延層的施主雜質(zhì)向p型Ge襯底內(nèi)的擴(kuò)散占主導(dǎo)地位,在Ge襯底上表面內(nèi)形成具有良好特性的p-n結(jié)。

        在三結(jié)太陽電池中隧穿結(jié)是極為關(guān)鍵的,隧穿結(jié)用于相鄰兩級(jí)電池之間的“無壓降”歐姆連接,是兩端式整體級(jí)聯(lián)電池的關(guān)鍵技術(shù)之一。通常制作隧穿結(jié)要生長十幾納米高摻雜的外延層。通過優(yōu)化隧穿結(jié)減少襯底減薄對電池的影響。大部分采用兩個(gè)異質(zhì)材料結(jié)構(gòu)的隧穿結(jié),隧穿結(jié)外層由較里層低摻雜濃度的高禁帶寬度的化合物材料組成,隧穿結(jié)內(nèi)部高摻雜低禁帶寬度的材料組成,原理在于,外隧穿結(jié)稍低的摻雜濃度可使隧穿電流得到保證,同時(shí)作為WINDOWS層和背場阻止高摻雜濃度層向低濃度層擴(kuò)散,減少復(fù)合的發(fā)生。

        因此在設(shè)計(jì)生長隧穿結(jié),要考慮材料、高摻雜、p/n的摻雜、外延條件等??梢蕴岣咚泶┙Y(jié)的電流、無電壓降的有效方法是高摻雜、減少厚度。一般,制作幾十納米厚的隧穿結(jié)。較寬的禁帶寬度材料(AlGaAs、GaInP等)隧穿結(jié),少吸收光,因此各子電池更好地吸收光。三種GaAs/GaAs AlGaAs/GaAs A l-GaAs/GaInP制作的隧穿結(jié)做比較,A lGaAs/GaInP有更大的隧穿電流,可以使電流順利通過。為了進(jìn)一步降低隧穿結(jié)結(jié)構(gòu)給GaInAs電池帶來的影響,需要盡可能提高隧穿結(jié)結(jié)構(gòu)的禁帶寬度,以減少隧穿結(jié)材料對有效光子的吸收,使用GaInP結(jié)構(gòu)來代替原有的GaAs,可實(shí)現(xiàn)這樣的目的。由于GaInP材料對有效光子的吸收遠(yuǎn)低于GaAs,因此這種結(jié)構(gòu)的隧穿結(jié)能夠更好地透射光子進(jìn)入GaInAs子電池,能夠提高GaInAs子電池的光電轉(zhuǎn)換效率,進(jìn)而提高級(jí)聯(lián)太陽電池的光電轉(zhuǎn)換效率。經(jīng)過大量的實(shí)驗(yàn)研究,采用了特殊的生長工藝,實(shí)現(xiàn)了GaInP材料的n型高摻雜,濃度達(dá)到1×1019/cm3以上。

        通過一系列的努力生長出來的外延片,對其進(jìn)行雙晶衍射儀進(jìn)行測試,兩種襯底的晶格匹配測試結(jié)果基本相同,見圖2。

        圖2 雙晶衍射測試圖

        兩種厚度的外延片分別進(jìn)行器件工藝制作,175μm厚的外延片首先要進(jìn)行襯底的減薄,減薄的方式有兩種,一種是通過機(jī)械研磨的方法進(jìn)行減薄,另外一種是通過化學(xué)腐蝕的方法進(jìn)行減薄。第一種方法容易對電池的外延結(jié)構(gòu)產(chǎn)生破壞,所以我們采用第二種方法,將外延層先鍵合到新的襯底上,然后通過腐蝕原始襯底,實(shí)現(xiàn)外延片的減薄。通過腐蝕掉一定厚度的襯底,實(shí)現(xiàn)了對外延片的減薄,由于所用的腐蝕液具有選擇性,并不會(huì)破壞外延層,用這種方法能較好地實(shí)現(xiàn)外延片的減薄。把襯底從175μm減薄到80μm,兩種外延片經(jīng)過如圖3方式進(jìn)行器件工藝制作,制作結(jié)果基本相同如圖4。

        圖3 器件工藝流程圖

        圖4 器件制作后電池

        經(jīng)過劃片,制作了尺寸為40mm×60mm的電池,電池表面蒸鍍雙層減反射膜,此電池具有一定柔性,在外力下可適當(dāng)彎曲,如圖5。

        圖5 80μm三結(jié)太陽電池

        2 結(jié)果與討論

        采用外延優(yōu)化后的工藝和特殊的器件工藝制作的GaInP/GaInAs/Ge結(jié)構(gòu)三結(jié)砷化鎵太陽電池,80μm厚襯底直接生長的三結(jié)太陽電池編號(hào)為3J001,175μm襯底減薄到80μm制作的電池編號(hào)為3J002,對其進(jìn)行光譜響應(yīng)測試,測試結(jié)果見圖6。

        圖6 電池光譜響應(yīng)

        圖6中紅色曲線為3J001測試結(jié)果,另外一條為3J002。從圖6可見,兩片電池在頂電池和中間電池的光譜響應(yīng)基本相同,在Ge結(jié)的底電池有些區(qū)別。經(jīng)過減薄的電池對Ge結(jié)有一定的損傷,會(huì)對電流吸收有些影響,但是由于Ge結(jié)吸收的光譜很寬,雖然有些影響,不會(huì)影響整體電池的電流匹配。

        用太陽模擬器在AM0的光譜下,對兩片三結(jié)太陽電池進(jìn)行了電性能測試,電性能參數(shù)見表1,I-V曲線見圖7、圖8。

        表1 兩片太陽申池申性能參數(shù)

        圖7 3J001電池I-V曲線

        圖8 3J002電池I-V曲線

        目前制作成功的這種超薄的三結(jié)砷化鎵太陽電池質(zhì)量是目前大量生產(chǎn)三結(jié)砷化鎵太陽電池的一半。將測試樣品用物理分析天平進(jìn)行稱重,進(jìn)行功率、質(zhì)量比計(jì)算,與正常厚度的三結(jié)太陽電池進(jìn)行比較,不難發(fā)現(xiàn)其比功率大幅度提高,如表2所示。

        不難算出,薄的太陽電池質(zhì)量比功率分別是正常電池的2.14倍和1.99倍,其作為空間電源的優(yōu)勢已經(jīng)明顯顯現(xiàn)出來。

        表2 太陽電池的質(zhì)量比功率

        質(zhì)量減輕主要是由于襯底變薄了造成的,這就意味著同樣一根Ge單晶棒可切出更多的襯底片,節(jié)約了購買襯底的成本,同樣也使得空間飛行器可攜帶更多的設(shè)備。不管是通過化學(xué)方法使電池減薄還是直接用80μm厚襯底直接生長的三結(jié)太陽,襯底變薄也給器件工藝帶來了挑戰(zhàn),因?yàn)橐r底變薄后與正常175μm襯底制作的正常三結(jié)太陽電池相比,電池更加易碎,提高了器件工藝的破損率。由于很薄,外延片是彎曲的,給光刻也帶來不小的麻煩,使得光刻的圖形不理想。在腐蝕的過程中,我們發(fā)現(xiàn)側(cè)向腐蝕很嚴(yán)重,腐蝕液從電池的側(cè)面進(jìn)入破壞了邊緣的外延層,使得表面的缺陷態(tài)增加,復(fù)合電流會(huì)增大,甚至?xí)谶吘壧幊霈F(xiàn)局部微短路使電池性能下降。如果不解決這些問題襯底變薄帶來的成本降低會(huì)被器件工藝上所增加成本抵消掉。通過研制合理有效的專用工具和提高工人的熟練程度來降低破損率,努力消除光刻帶來的不良影響,通過改進(jìn)腐蝕工藝和對晶片側(cè)面的保護(hù),盡可能的減少腐蝕液從側(cè)面腐蝕外延片,從而得到滿意的外延片。

        目前國際上德國的AZUR SPACE公司開展了相關(guān)的研究,制作的太陽電池在AM0的光譜下,光電轉(zhuǎn)換效率接近30%,按照目前我們制作電池的質(zhì)量來計(jì)算,質(zhì)量比功率可達(dá)到791.2W/kg。AZUR SPACE公司接下來研究20μm厚的三結(jié)太陽電池,進(jìn)一步提高質(zhì)量比功率。我們通過對外延工藝和器件工藝的優(yōu)化和改進(jìn),實(shí)現(xiàn)電池性能的進(jìn)一步提高。

        3 結(jié)論

        通過實(shí)驗(yàn)證明,采用優(yōu)化后的外延工藝和特殊的器件工藝,可在薄的襯底和正常厚度的襯底制作出具有一定柔性的GaInP/GaInAs/Ge結(jié)構(gòu)的超薄砷化鎵太陽電池,在保證效率的同時(shí),可以大幅度地減輕質(zhì)量,有效地提高衛(wèi)星的發(fā)射質(zhì)量,節(jié)約發(fā)射成本,同時(shí)可降低襯底的成本,由于具有一定柔性,可應(yīng)用得更加廣泛。

        [1]SENFT D C.Opportunities in photovoltaic for space power generation[C]//IEEE Photovoltaic Specialists Conference.Florida,USA:IEEEPiscataway,2005:536-541.

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