該儀器采用相移式橫向剪切干涉技術(shù)，是一種數(shù)字波面測(cè)試技術(shù).其原理是將相干兩個(gè)剪切波面中的一個(gè)波面作階梯式或連續(xù)變化，從而使干涉場(chǎng)中的干涉條紋作階梯式或連續(xù)式掃描，用CCD相機(jī)獲取干涉場(chǎng)中各點(diǎn)的光強(qiáng)，利用圖像中各點(diǎn)光強(qiáng)的變化關(guān)系，求出被測(cè)波面的位相信息或波面面形.由于橫向剪切干涉技術(shù)是利用被測(cè)波面自身實(shí)現(xiàn)干涉的，不需要標(biāo)準(zhǔn)的參考面，測(cè)試裝置簡(jiǎn)單、測(cè)量速度快、測(cè)量精度高，且可以實(shí)時(shí)對(duì)剪切干涉圖進(jìn)行采集與處理，得到被測(cè)原始波面的信息.

由西安工業(yè)大學(xué)研制的該測(cè)量?jī)x器適合測(cè)量非球面度不高的光學(xué)非球面面形，如拋物面、橢球面、雙曲面等二次曲面或其他高次曲面的非球面鏡，克服了過去用刀口陰影檢驗(yàn)不能檢驗(yàn)高次曲面、只能定性不能定量及被檢工件中部有檢驗(yàn)盲區(qū)的不足，是國(guó)內(nèi)開發(fā)的首臺(tái)非球面面形檢測(cè)儀器.其主要技術(shù)指標(biāo)：①面形檢測(cè)精度0.1μm；②測(cè)量范圍，頂點(diǎn)曲率半徑凹面R：0～360mm，凸面R：0～100mm；③工件直徑：凹面0～190mm；凸面0～50mm.同時(shí)還可應(yīng)用于光學(xué)非球面元件生產(chǎn)線上快速測(cè)量非球面模具及非球面透鏡面形的重構(gòu).

該測(cè)量?jī)x器解決了部分光學(xué)非球面面形測(cè)量問題，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)在非球面測(cè)量?jī)x器領(lǐng)域的空白，為促進(jìn)光學(xué)非球面的發(fā)展提供了保證，對(duì)國(guó)內(nèi)整個(gè)光電技術(shù)的發(fā)展起著積極的推動(dòng)作用.光學(xué)非球面測(cè)試儀在兵器工業(yè)部205所已成功應(yīng)用于實(shí)際測(cè)量，同時(shí)還可以應(yīng)用于光學(xué)、光電儀器的設(shè)計(jì)、加工和研究等領(lǐng)域.