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        等離子體預(yù)處理對于太陽能電池性能的影響

        2014-02-19 19:20:30李小玄孫占峰王偉羅飛孫濤王寶磊
        科技創(chuàng)新與應(yīng)用 2014年6期

        李小玄 孫占峰 王偉 羅飛 孫濤 王寶磊

        摘 要:在這個研究中,我們驗證等離子體預(yù)處理對太陽能電池性能的影響,也就是SiNx:H層的性能。我們發(fā)現(xiàn)預(yù)處理的時間對于沉積物SiNx:H層影響比較小,較短的PECVD預(yù)處理時間,其鈍化作用相對于長時間預(yù)處理更加有效。同時,預(yù)處理時間在300秒范圍內(nèi)對于太陽能板的效率起著次要作用。

        關(guān)鍵詞:太陽能板;鈍化;PECVD;SiNx:H

        1 介紹

        表面鈍化對于提高太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率至關(guān)重要。很多絕緣層(電介質(zhì))被運用到表面鈍化的研究中,例如Al2O3[1-2], a-Si[3], SiC-H[4-5], SiO2[6]等等。SiNx:H 表層具有減反射和鈍化的作用[1],在優(yōu)化硅片表面已經(jīng)成為了現(xiàn)代光伏技術(shù)中非常重要的部分。

        SiNx:H薄膜不僅可以降低反射率減少光學(xué)損失,同時,因其含有大量的等離子體氫,降低了晶體硅表面雜質(zhì)和缺陷的電活性,起到了優(yōu)越的表面鈍化和體鈍化的作用[2]。SiNx:H目前可以通過等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積制做出來。因此大多數(shù)光伏生產(chǎn)商利用微波遠(yuǎn)程或者高頻直接式反應(yīng)器[3]。

        等離子預(yù)處理是大多數(shù)提高鈍化效果最普遍的一種處理方法。在太陽能電池等離子體預(yù)處理中,預(yù)處理氣體一般采用NH3,Ar,和H2。NH3等離子預(yù)處理可以影響界面態(tài)密度[4],其反應(yīng)機(jī)理尚未明確。在這個課題中,我們將驗證和討論,在沉積物之前采用NH3的等離子預(yù)處理對硅片表面的影響和它對氮化硅膜層以及電性能的影響。

        2 實驗

        用型號156mm×156mm,厚度200um和電阻率為1-3Ω·cm摻硼的P型多晶硅片。實驗硅片除了PECVD預(yù)處理的時間不同,其余都經(jīng)過一樣的處理過程。首先,硅片被HF和HNO3的混合溶液腐蝕形成絨面。第二步,制絨后的硅片在850度,在液態(tài)源POCl3下進(jìn)行擴(kuò)散。接著,經(jīng)過HF溶液蝕刻、清洗。清洗后,SiNx:H膜層就會通過等等離子體化學(xué)氣相沉積(PECVD - RF 40 KHz)沉積在晶片的前表面上,SiH4 和 NH3在450度下作為氣體源。在沉積SiNx:H層之前,其上表面被NH3作預(yù)處理,沉積SiNx:H 使用不同預(yù)處理時間。在膜層沉積之后,采用WT2000-PVN 測量少數(shù)載流子的壽命(圖)。同時,使用準(zhǔn)靜態(tài)光電導(dǎo)系統(tǒng)測量有效少數(shù)載流子壽命、開路電壓和飽和電流密度。通過測量結(jié)果研究SiNx:H膜層對硅片的鈍化特性。用光譜儀測量表面反射率,用橢偏儀測量SiNx:H膜層的厚度和折射率。前表面和背表面的金屬接觸通過網(wǎng)版印刷銀和鋁漿通過燒結(jié)爐進(jìn)行燒結(jié)。最后做成電池片。在光照AM1.5的條件測出電流電壓特性。

        3 實驗結(jié)果和討論

        首先,研究PECVD預(yù)處理對多晶硅電池轉(zhuǎn)換效率的影響。

        圖1

        圖1是在預(yù)處理時間300s以內(nèi)(取點20-280間隔20),隨著預(yù)處理時間的縮短電池轉(zhuǎn)換效率(△EFF)的變化趨勢。圖1 指出,最好的轉(zhuǎn)換效率在小于20秒的范圍內(nèi)得到,但是轉(zhuǎn)換效率變化較?。ā?.06%), 轉(zhuǎn)換效率差小于0.1%。所有的△EFF值從 20秒到280秒預(yù)處理時間對比300秒的基礎(chǔ)判定值來說,小于基礎(chǔ)判定值的能量轉(zhuǎn)換效率。這證明預(yù)處理時間(300秒范圍內(nèi))對電池的轉(zhuǎn)換效率影響不大。同時,較短的預(yù)處理時間可以縮短鍍膜過程。對比用300秒預(yù)處理時間,減少預(yù)處理時間最高可以節(jié)省總過程12%的時間。

        通過計算得出不同SiNx:H涂層的厚度和折射率變化的百分比,以預(yù)處理時間300秒作為基礎(chǔ)值。SiNx:H膜層的厚度和折射率通過激光橢偏儀測得。根據(jù)圖2可知,在預(yù)處理時間較短的時候,與300秒的預(yù)處理基礎(chǔ)值相比較氮化硅膜的厚度和折射率改變不明顯,波動在3% 和1%。它指出預(yù)處理時間對SiNx:H膜層的特性起較小影響。

        進(jìn)一步研究預(yù)處理時間對多晶硅片的影響,通過對鍍膜后硅片少子壽命的測試,圖3 顯示,增加預(yù)處理時間少數(shù)載流子壽命的變化趨勢。隨著預(yù)處理時間的縮短,少子壽命測試呈增大趨勢,特別是預(yù)處理時間20s的時候,少子壽命值最大,與圖1結(jié)論一致,即在預(yù)處理時間20s時,電池轉(zhuǎn)換效率最高。

        圖3

        我們通過WCT120測量不同時間的預(yù)處理時間制成的電池片的有效載流子的壽命、開路電壓和飽和電流密度,數(shù)據(jù)如表1所示。從表1可以看出,預(yù)處理時間短的電池片壽命比預(yù)處理時間長的壽命長,預(yù)處理時間短的飽和電流密度較小。因此,可以推斷出經(jīng)過較短時間預(yù)處理比長時間預(yù)處理對硅片的表面鈍化效果更好。這種結(jié)果可能是因為硅片在預(yù)處理過程中會經(jīng)受離子碰撞,而較短時間的預(yù)處理破壞性較小導(dǎo)致的[5],另外經(jīng)過較短時間預(yù)處理電池的開路電壓較大。因此較短的預(yù)處理時間可以縮短鍍膜時間以及形成較好的表面鈍化特性。

        表1 在不同時間長度的PECVD預(yù)處理下電池各性能數(shù)據(jù)

        4 結(jié)束語

        本文研究了PECVD預(yù)處理時間對硅太陽能電池的SiNx:H 膜層的結(jié)構(gòu)特性影響,經(jīng)過不同時間的預(yù)處理,我們通過測量有效少數(shù)載流子的壽命、開路電壓和飽和電流密度可以反應(yīng)出SiNx:H膜層的鈍化效果。從實驗結(jié)果可以看出,預(yù)處理時間對SiNx:H膜層結(jié)構(gòu)性質(zhì)影響不大,但是硅片表面的鈍化作用在較短的PECVD預(yù)處理時間下更加顯著,而它在300秒范圍內(nèi)的預(yù)處理時間里對電池的轉(zhuǎn)換效率起著影響不大。

        參考文獻(xiàn)

        [1]Alexander Hauser, Markus Spiegel, Peter Fath, Ernst Bucher, Influence of an ammonia activation prior to the PECVD SiN deposition on the solar cell performance Solar Energy Materials & Solar Cells 75 (2003) 357-362.

        [2]王曉泉.PECVD淀積氮化硅薄膜性質(zhì)研究[J].太陽能學(xué)報,2004,25(3):341-344

        [3]李瓊,陳永興.PECVD氮化硅薄膜的制備和研究[J].湖南大學(xué)學(xué)報,1996,23(1):42

        [4]Aberle AG. Surface passivation of crystalline silicon solar cells: a review. Progress in Photovoltaics: Research and Applications 8 (2000) 473-487.

        [5]Chen Z, Rohatgi A, Ruby D. Silicon surface and bulkdefect passivation by low temperature PECVD oxidesand nitrides. 1st World Conference on Photovoltaic Energy Conversion, Hawaii,1994,1331-1334.

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