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        功率二極管反向恢復(fù)特性模擬研究

        2014-01-16 05:57:40彭進(jìn)
        電子設(shè)計(jì)工程 2014年13期
        關(guān)鍵詞:基區(qū)少子載流子

        彭進(jìn)

        (溫州大學(xué) 浙江 溫州 325035)

        二極管的反向恢復(fù)過程決定了二極管的許多重要性能,如二極管反向恢復(fù)時(shí)間決定了二極管的頻率特性;二極管的軟度因子決定了二極管的壽命等等。Benda.H[1]分析研究了不同基區(qū)類型Si功率二極管的反向恢復(fù)特性,探討了空間電荷區(qū)內(nèi)電場和載流子濃度的空間變化情況并通過實(shí)驗(yàn)得到驗(yàn)證;Bellone,S[2]提出了一種4H-SiC p-i-n二極管的反向恢復(fù)分析模型,得到基區(qū)載流子的分布、電流及電壓隨時(shí)間的變化情況,模擬結(jié)果與實(shí)驗(yàn)吻合。二極管的反向恢復(fù)分兩種:階躍反向恢復(fù)和線性反向恢復(fù),階躍反向恢復(fù)是在二極管電路中串聯(lián)電阻性負(fù)載;線性反向恢復(fù)是在二極管電路中串聯(lián)電感性負(fù)載。本文用線性反向恢復(fù)理論分析二極管的反向瞬態(tài)過程。線性反向恢復(fù)的基本過程是首先給二極管加正向?qū)妷?Vf,使它達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài),然后在電路中加反向電壓Vr,測出這一過程中電流-時(shí)間/電壓-時(shí)間關(guān)系圖,當(dāng)然也可以在未到達(dá)正向穩(wěn)態(tài)就使電壓變?yōu)?Vr,研究其反向恢復(fù)過程[3]。

        1 二極管反向恢復(fù)模型

        圖1為典型的二極管反向恢復(fù)電流電壓變化圖。如圖所示,將二極管反向過程劃分為3個(gè)不同的時(shí)間區(qū)間,不同區(qū)間的電流電壓表達(dá)式如(1)~(10)所示[4]。

        圖1 二極管反向恢復(fù)電流電壓變化示意圖Fig.1 The diagram of the current and the voltage for diode reverse recovery

        在 t0<t< t1時(shí)間段:

        在t1<t<t2時(shí)間段:

        在t2<t<t3時(shí)間段:

        由以上各式,在將trr和IrrM作為已知變量的條件下,根據(jù)表1所設(shè)參數(shù)得到二極管反向恢復(fù)電流變化如圖2所示。從圖2可以看出模擬結(jié)果與典型的二極管反向恢復(fù)電流電壓變化曲線吻合度較高。

        表1 Si p-i-n二極管電流電壓變化模擬參數(shù)Tab.1 The parameters of current and voltage for Si p-i-n diode

        圖2 二極管反向恢復(fù)電流電壓變化圖Fig.2 The diode reverse recovery current and voltage

        2 不同二極管參數(shù)對(duì)I D-t曲線的影響

        trr:反向恢復(fù)所用時(shí)間,包括存儲(chǔ)時(shí)間ts和恢復(fù)時(shí)間tr,trr=ts+tr,反向恢復(fù)時(shí)間是用來掃出存儲(chǔ)在基區(qū)的過剩少數(shù)載流子(簡稱少子)的,它取決于存儲(chǔ)在基區(qū)的少數(shù)載流子(空穴)的數(shù)量和少數(shù)載流子(空穴)被掃出的速度(當(dāng)少子所剩不多時(shí),復(fù)合速率決定了基區(qū)所剩少子的存儲(chǔ)時(shí)間),少子存儲(chǔ)量由正向電流If決定,少子掃出速度由反向電流Ir決定,關(guān)于trr的表達(dá)式,不同模型條件下表述不一,本文采用通過電荷控制計(jì)算法得到的trr的表達(dá)式[5],如式(11)。

        式中 τ:基區(qū)少子壽命;If:正向電流;Ir:反向電流。

        圖3,圖5分別為不同trra和trrb時(shí)二極管反向恢復(fù)電流的變化圖。圖3顯示隨著trrb的增大,曲線只向右移動(dòng),表明反向恢復(fù)最大電流IrrM跟trrb無關(guān);圖5顯示隨著trra的增大,曲線向右并且向下移動(dòng),表明反向恢復(fù)最大電流IrrM隨著trra增大而增大,不同的trra二極管反向恢復(fù)最大電流不同 。圖4是IrrM與trra、trrb的關(guān)系圖。從圖4可以很明顯的看出:IrrM與trra成線性增加關(guān)系,而不同trrb,IrrM保持一恒定值。從圖1可以看出IrrM出現(xiàn)在trra的最后時(shí)刻,在此之前Ir不斷增加,在此之后Ir不斷減小,t2時(shí)刻出現(xiàn)最大值,所以 trra越長 IrrM越大,IrrM與trrb無關(guān)。

        圖3 I D隨t rrb的變化圖Fig.3 The reverse recovery current for different t rrb

        圖 4 I rrM 與 t rra、t rrb的關(guān)系圖Fig.4 The most reverse recovery current vs t rra,t rrb

        圖5 I D隨t rra的變化圖Fig.5 The reverse recovery current for different t rra

        圖6 為不同If時(shí)二極管反向恢復(fù)電流的變化圖。圖6顯示隨著If的減小,IrrM與trra都減小。正向電流影響基區(qū)載流子存儲(chǔ)量,進(jìn)而影響基區(qū)載流子存儲(chǔ)時(shí)間,減小正向電流,基區(qū)載流子存儲(chǔ)量減小,掃出這些載流子所需時(shí)間減小,即trra減小。

        圖6 I D隨I f的變化圖Fig.6 The reverse recovery current for different I f

        IrrM:反向恢復(fù)電流最大值,當(dāng)對(duì)處于正向?qū)ǖ亩O管外加反向偏壓后,由于外電路中電感的存在,二極管的電流并不即刻變成反向而是從正向電流If開始以速率dIf/dt減小,過渡為零,然后反向以速率dIr/dt增大,只要基區(qū)存儲(chǔ)的少子能夠“支持”反向電流,反向電流就一直增大,能夠“支持”表示二極管還處于正偏,二極管耗盡層還未開始擴(kuò)展,隨著基區(qū)存儲(chǔ)少子的不斷減小,耗盡層開始擴(kuò)展,二極管回歸零偏,二極管電流以越來越小的增大速率dIr/dt增大,直到最大值IrrM,隨著基區(qū)存儲(chǔ)少子的不斷掃出,耗盡層不斷擴(kuò)展,二極管開始反偏,電壓逐漸反向增大,二極管電流逐漸反向減小。IrrM的表達(dá)式如式(13)所示[6]。

        式中 Vr:二極管反向最終電壓;S:軟度因子;L:外電路電感。

        圖7為不同t1時(shí)間段時(shí)二極管反向恢復(fù)電流的變化圖。圖7顯示隨著t1的增加,IrrM減小。t1越大,t0~t1時(shí)間段曲線斜率越小,即dIf/dt越小,根據(jù)(13)式IrrM越小。

        圖7 I D隨t1的變化圖Fig.7 The reverse recovery current for different t1

        3 二極管反向恢復(fù)損耗

        二極管反向恢復(fù)過程中有相對(duì)較大的損耗,其值可通過在整個(gè)時(shí)間段內(nèi)對(duì)電流電壓的積分計(jì)算得到,表達(dá)式如(14)

        圖8為 Woff與Vf、If的關(guān)系圖。隨著正向電壓Vf、正向電流If的增加,損耗增加。

        4 結(jié)論

        圖 8 W0ff與 V f、I f的關(guān)系圖Fig.8 The reverse recovery loss W off vs V f,I f

        本文通過一種二極管反向恢復(fù)模型模擬得到二極管反向恢復(fù)電流/電壓隨時(shí)間的變化關(guān)系圖,模擬結(jié)果與已有結(jié)果吻合。通過控制變量得到不同二極管參數(shù)對(duì)反向恢復(fù)電流的影響,反向恢復(fù)最大電流IrrM隨著trra增大而增大,跟trrb無關(guān);隨著If的減小,IrrM與trra都減?。徽螂娏魃仙俾蔰If/d t越小,IrrM越小。文中最后還計(jì)算了二極管反向恢復(fù)功率損耗,隨著正向電壓Vf、正向電流If的增加,損耗增加。

        [1]Benda H,Spenke E.Reverse recovery processes in silicon power rectifiers[J]Proceedings of the IEEE.1967,55(8):1331-1354.

        [2]Bellone S,Della Corte F G,Di Benedetto L,et al.An analytical model of the switching behavior of 4H-SiC p-n-n diodes from arbitrary injection conditions[J].Power Electronics,2012,27(3):1641-1652.

        [3]Pendharkar S P,Trivedi M,Shenai K.Dynamics of reverse recovery of high power P-i-N diodes[J].Electron Devices,1996,43(1):142-149.

        [4]Rajapakse A D,Gole A M,Wilson P L.Electromagnetic transients simulation models for accurate representation of switching losses and thermal performance in power electronic systems[J].IEEE Transactions on Power Delivery,2005,20(1):319-327.

        [5]楊勝榮.摻鉑超快恢復(fù)二極管制備技術(shù)及特性的研究[D].武漢華中科技大學(xué),2007.

        [6]王俊.局域鉑摻雜功率快恢復(fù)二極管的研究[D].北京 北京工業(yè)大學(xué),2004.

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