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        ABS塑料電鍍銅工藝的研究

        2013-12-05 09:17:54陳爾躍韓成利
        電鍍與精飾 2013年5期
        關(guān)鍵詞:鍍銅鍍液鍍層

        陳爾躍, 楊 子, 韓成利

        (齊齊哈爾大學(xué)化學(xué)與化學(xué)工程學(xué)院,黑龍江齊齊哈爾 161006)

        引 言

        塑料電鍍制品質(zhì)地輕巧、造型優(yōu)美、光彩奪目,加上更新?lián)Q代快,又兼具工藝美術(shù)性等優(yōu)點,在產(chǎn)品美化和翻新上起了重要作用。在汽車內(nèi)外部件、儀表零件與外殼、五金器具、建筑配件、工藝美術(shù)品、燈具、樂器和珠寶裝飾等方面都獲得了廣泛的應(yīng)用,在國內(nèi)外愈來愈受到人們的重視[1]??镄轮\等[2-3]研究了在 ABS 塑料上鍍銅工藝,以乙二醛取代甲醛作為化學(xué)鍍銅的還原劑。但研究中采用堿性化學(xué)鍍銅后在酸性鍍銅溶液中電鍍銅,這種酸性鍍銅液對本來就不太致密的化學(xué)鍍銅層產(chǎn)生損傷,出現(xiàn)退鍍等現(xiàn)象。本文采用堿性電鍍銅溶液在化學(xué)鍍銅層上鍍銅,避免了酸性電鍍液對化學(xué)鍍銅層基底的腐蝕與破壞,在電鍍過程中有效保護了化學(xué)鍍銅層。

        1 實驗

        1.1 試劑與儀器

        實驗材料為3cm×3cm ABS塑料(佛山市龍江鎮(zhèn)鴻耀手板廠),試劑為氫氧化鈉、硝酸銀、鉻酐、硫酸銅、酒石酸氫鉀、2-巰基苯并噻唑、乙二醛、堿式碳酸銅、檸檬酸(均為分析純)及磷銅(蘇州特魯利材料公司)。

        實驗儀器為 CS101-IEB電熱鼓風(fēng)干燥、LW3Z10D直流穩(wěn)壓電源、pHS-25型精密酸度計、D8-FOCUS X-射線衍射儀(德國布魯克公司)、S-4300掃描電子顯微鏡(日本HITACHI公司)、數(shù)字pH酸度計(深圳市柯迪達電子有限公司)。

        1.2 實驗步驟

        1.2.1 工藝流程

        塑料電鍍工藝流程為:

        去應(yīng)力→應(yīng)力檢查→化學(xué)除油→粗化→還原→敏化→活化→二次還原→化學(xué)鍍銅→電鍍銅→檢驗。

        1.2.2 各工序操作要點

        1)去應(yīng)力。將試樣置于80℃恒溫箱中處理8h。

        2)應(yīng)力檢查。將試樣放人冰醋酸中浸3min,清洗表面,晾干。在40倍金相顯微鏡下觀察表面,確保無裂紋。

        3)化學(xué)除油。5g/L氫氧化鈉,20g/L碳酸鈉,20g/L磷酸鈉,1g/L十二烷基磺酸鈉,θ為60~65℃,t為30min。

        4)粗化。400g/L鉻酐,400g/L濃硫酸,θ為70~75℃,t為25~30min。

        5)還原。50g/L氫氧化鈉,室溫,t為5min。

        6)敏化。10g/L氯化亞錫,70mL/L濃鹽酸,室溫,t為 3min。

        7)活化。2g/L硝酸銀,150mL/L氨水,室溫,t為5min。

        8)二次還原。1g/L氫氧化鈉,1g/L硼氫化鉀,室溫,t為2min。

        9)化學(xué)鍍銅。甲液∶8g/L硫酸銅,27g/L酒石酸氫鉀,23g/L氫氧化鈉,0.3g/L 2-巰基苯并噻唑,4g/L氯化銨;乙液∶V(乙二醛)∶V(水)=1∶4。V(甲液)∶V(乙液)=3∶1,室溫,t為 30min,pH=10.9。

        10)電鍍銅。50g/L堿式碳酸銅,250g/L檸檬酸,30g/L酒石酸鉀鈉,10g/L碳酸氫鈉,pH=8。陽極為磷銅板,Jк為 1.0A/dm2,室溫,t為 30min。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 化學(xué)鍍銅還原劑的選擇

        目前在工業(yè)上應(yīng)用較為普遍的化學(xué)鍍銅方法仍是以甲醛(HCHO)為還原劑,EDTA和酒石酸鉀鈉為絡(luò)合劑。然而,甲醛對人體具有明顯的危害,已被世界衛(wèi)生組織確定為致癌和致畸形物質(zhì),也是潛在的強致突變物之一,同時易造成環(huán)境污染,因此采用非甲醛還原劑是化學(xué)鍍銅的研究熱點[2],匡新謀等[3]以乙二醛取代甲醛作為化學(xué)鍍銅的還原劑,研究了化學(xué)鍍銅工藝中還原劑用量及pH對銅沉積速率、鍍液穩(wěn)定性及鍍層結(jié)構(gòu)的影響。與甲醛相比,乙二醛毒性低,且在同等工件條件下,乙二醛用量少,成本比甲醛低。本文化學(xué)鍍銅溶液的配方、工藝選擇及各組分的影響參見文獻[3]。

        2.2 電鍍銅工藝的選擇

        由于化學(xué)鍍銅是在堿性條件下完成的,酸性電鍍銅液會對化學(xué)鍍銅層產(chǎn)生腐蝕。經(jīng)過大量文獻篩選[4-11],采用了以堿式碳酸銅為主鹽的堿性鍍液,電鍍后鍍層質(zhì)量符合電鍍標(biāo)準(zhǔn)。電鍍銅溶液組成及操作條件為∶50g/L堿式碳酸銅,250g/L檸檬酸,30g/L酒石酸鉀鈉,10g/L碳酸氫鈉,以磷銅板為陽極。Jк為 1.0A/dm2,室溫,t為 30min,pH=8.5 ~9.2

        2.2.1 pH對銅沉積速率及鍍層質(zhì)量的影響

        在主鹽、絡(luò)合劑以及其他助劑質(zhì)量濃度不改變的情況下,用0.1mol/L NaOH溶液調(diào)節(jié)鍍銅溶液的pH,用數(shù)字pH酸度計測得。改變鍍銅溶液的pH直接影響檸檬酸鹽-酒石酸鹽對銅的配位形式及配位能力。通常pH升高,配位能力提高,鍍層晶粒變細,結(jié)合力也相應(yīng)提高。pH對鍍銅層質(zhì)量的影響見表1。由表1可以看出,當(dāng)pH﹥10.2時,光亮區(qū)減小、易燒焦,陽極區(qū)易產(chǎn)生Cu(OH)2沉淀,故最佳pH為8.5 ~9.2。

        表1 pH對銅鍍層質(zhì)量的影響

        2.2.2 堿式碳酸銅對鍍層的影響

        鍍液中主鹽堿式碳酸銅的質(zhì)量濃度必須在47.5~54.5g/L范圍內(nèi),在其它條件不變時,主鹽質(zhì)量濃度增加或減少,都會對電沉積過程及鍍層組織有影響。當(dāng)主鹽質(zhì)量濃度升高時,電流效率提高,金屬沉積速度加快,但鍍層晶粒較粗,溶液分散能力下降。主鹽質(zhì)量濃度過低時,陰極附近溶液中主鹽質(zhì)量濃度很低,電流稍大,放電后即缺乏金屬離子,H+易乘機放電。另外,鍍液本體的主鹽質(zhì)量濃度低,擴散與電遷移速度都下降,陰極附近溶液中金屬離子的補充速度也低,濃差極化過大。

        2.2.3 檸檬酸對鍍層的影響

        檸檬酸的質(zhì)量濃度直接影響配離子的形式和穩(wěn)定性。當(dāng)銅的質(zhì)量濃度為30g/L時,檸檬酸的最佳質(zhì)量濃度為250~280g/L。檸檬酸低于此值會降低陰極極化,鍍層結(jié)合力下降。質(zhì)量濃度過高,鍍液粘度增加,影響鍍液導(dǎo)電能力。

        2.2.4 酒石酸鉀鈉對銅沉積速率的影響

        實驗中發(fā)現(xiàn),當(dāng)酒石酸鉀鈉加入后,可明顯增大光亮區(qū)和電流密度范圍,這是因為酒石酸鉀鈉有較強的螯合作用,而且在陰極上有明顯的吸附作用。其質(zhì)量濃度控制在30g/L左右,過高會使銅層硬度增加,延展性變差。

        2.3 鍍層檢查

        用電子掃描電鏡(SEM)觀察ABS塑料、化學(xué)鍍銅層和電鍍銅層表面形貌如圖1所示。

        圖1 SEM照片

        由圖1可以看到,ABS塑料、化學(xué)鍍銅和電鍍銅層表面之間的差別。

        從液相析出固體時由于界面化學(xué)的因素固體以球體形狀析出,這是由于相對于其他形狀而言球體比表面積最小,所以其比表面自由能也最低。在ABS表面進行化學(xué)鍍銅的過程中,金屬銅以半徑約為0.1μm的球形顆粒在ABS表面上無序沉積[見圖1(b)]。ABS的表面雖然被銅所覆蓋,使其表面具有良好的導(dǎo)電性能,但是化學(xué)鍍銅層結(jié)構(gòu)疏松、界面粗糙。同時,ABS表面沉積的銅顆粒半徑很小,這種尺寸的銅顆粒的界面相對于單質(zhì)銅晶體的界面而言具有很高的比表面自由能,換言之,這種小顆粒的銅由于比表面積大而比單質(zhì)銅晶體具有更高的反應(yīng)活性。因此,實驗中發(fā)現(xiàn)在酸性電鍍銅溶液中化學(xué)鍍銅層很容易發(fā)生腐蝕的現(xiàn)象,為了在二次鍍銅過程中保護化學(xué)鍍銅層,由酸性鍍銅溶液改用堿性鍍液。

        在化學(xué)鍍銅后的電鍍銅的過程中,銅在電場的作用下定向有序沉積。電鍍銅后,鍍層結(jié)晶細致、均勻[圖1(c)],有金屬光澤。從外觀上看,所得鍍層表面沒有起泡、麻點、粗糙、開裂、漏鍍、污物或變色,鍍銅層表面光滑,有光澤。

        對ABS塑料、化學(xué)鍍銅和電鍍銅層表面進行XRD分析,如圖2所示,通過 JADE5.0軟件檢索ABS 塑料化學(xué)鍍銅后在二倍角(2θ)42.7°和 50.7°出現(xiàn)單質(zhì)銅的特征衍射峰,但是在74.0°時沒有出現(xiàn)特征衍射峰,化學(xué)鍍銅層電鍍銅后在 43.2°、50.7°和 74.0°均出現(xiàn)單質(zhì)銅晶體的特征衍射峰,表明電鍍銅后鍍層表面基本具備單質(zhì)銅的晶體特征。

        圖2 XRD譜圖

        對所得鍍件進行熱震試驗,在烘箱中經(jīng)過85、20和-20℃恒溫1h,循環(huán)4次,目視檢查樣品無起泡、起皺、裂紋和脫落等現(xiàn)象,符合國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T12600-2005。

        3 結(jié)論

        在ABS塑料表面進行化學(xué)鍍銅的過程中,金屬銅以半徑約為0.1μm的球形顆粒在ABS表面上無序沉積。這種小顆粒的銅由于比表面積大而比單質(zhì)銅晶體具有更高的反應(yīng)活性,酸性電鍍銅液會對化學(xué)鍍銅層產(chǎn)生腐蝕等損傷。堿性電鍍銅液能夠有效保護化學(xué)鍍銅的基底,化學(xué)鍍銅層上電鍍銅其鍍層均勻致密,能夠達到國家標(biāo)準(zhǔn)GB12333-90電鍍銅的要求。

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