李卓然,徐曉龍
(哈爾濱工業(yè)大學(xué)先進(jìn)焊接與連接國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,哈爾濱 150001)
隨著光學(xué)、信息技術(shù)、能源、航空航天技術(shù)、生物技術(shù)及生命科學(xué)等學(xué)科的迅速發(fā)展,光學(xué)玻璃由傳統(tǒng)意義上的光學(xué)儀器用成像介質(zhì)-透鏡逐漸向新的應(yīng)用領(lǐng)域發(fā)展。利用玻璃和光的相互作用改變光的極化態(tài)、頻率、相干性和單色性,以及產(chǎn)生光子和探測(cè)光子的新型光功能玻璃成為光學(xué)玻璃發(fā)展的主要方向[1-2]。
玻璃材料具有抗氧化、耐蝕、耐高溫、高硬耐磨等特點(diǎn),其應(yīng)用越來(lái)越廣泛;但玻璃本身的低延性和沖擊韌性缺點(diǎn)則妨礙了其在工程結(jié)構(gòu)中的廣泛應(yīng)用。玻璃與塑韌性高、抗沖擊能力強(qiáng)的金屬連接件已廣泛應(yīng)用與壓電傳感器制造,以復(fù)合連接體形式制成的壓力傳感器可應(yīng)用于嚴(yán)酷的工作環(huán)境[3]。
玻璃主要為硅氧四面體網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu),具有非常穩(wěn)定的電子配對(duì)和很強(qiáng)的化學(xué)穩(wěn)定性,與金屬在本質(zhì)上有不同,故兩者的連接存在較大困難。
首先,玻璃-金屬連接中存在熱應(yīng)力與殘余應(yīng)力。玻璃與金屬2種材料的熱膨脹系數(shù)差異較大(約為一個(gè)數(shù)量級(jí)),因而在連接過(guò)程的加熱和冷卻中,兩者的膨脹和收縮差別較大,會(huì)導(dǎo)致在接頭界面上產(chǎn)生較大的熱應(yīng)力;其次,玻璃表面很難潤(rùn)濕。潤(rùn)濕性反映了2種物質(zhì)之間的結(jié)合能力,若要獲得良好潤(rùn)濕,玻璃及金屬的前處理顯得尤為重要。金屬的處理包括清潔處理和熱處理,而玻璃處理方法為表面金屬化。
玻璃與金屬之間要實(shí)現(xiàn)冶金結(jié)合,就需要使連接界面形成過(guò)渡層,而二者在界面間存在著原子能級(jí)的差異;因此,2種材料間的界面反應(yīng)對(duì)接頭的形成和性能有極大的影響[4]。
隨著玻璃材料的發(fā)展及其在工業(yè)中應(yīng)用的擴(kuò)大,其連接技術(shù)得到不斷發(fā)展,出現(xiàn)了多種連接方法,目前研究較多的是匹配封接、陽(yáng)極鍵合和釬焊。此外還有激光輔助連接、超聲波摩擦焊、半固態(tài)連接等。
匹配封接在焊接前先對(duì)金屬進(jìn)行預(yù)氧化處理,使金屬焊接表面形成一層厚度適當(dāng)?shù)难趸^(guò)渡層匹配封接,然后再和玻璃封接。目前,匹配封接大都采用可伐合金和高硅硼硬玻璃,研究主要集中在對(duì)可伐合金的氧化方面。
Tsann-ShyiChern[5]對(duì)可伐合金在不同溫度和時(shí)間下預(yù)氧化,發(fā)現(xiàn)700℃,5~15 min時(shí),可形成厚度為4~7 μm的致密氧化膜(主要FeO),氧化膜具有良好的粘附性。潤(rùn)濕性實(shí)驗(yàn)表明,當(dāng)氧化處理溫度為700℃,時(shí)間為10 min時(shí),玻璃在可伐合金上的潤(rùn)濕角為26~29°;潤(rùn)濕試驗(yàn)溫度900℃,保溫時(shí)間15 min時(shí),F(xiàn)e的擴(kuò)散距離大約為28 μm,形成一個(gè)較寬的界面反應(yīng)層,玻璃金屬界面可分為4個(gè)區(qū):可伐合金基體區(qū)、貧鐵區(qū)、富鐵區(qū)、玻璃區(qū)。玻璃與可伐合金的反應(yīng)會(huì)導(dǎo)致可伐合金氧化膜的溶解,這可以有效地增加界面連接強(qiáng)度和接頭密封性。
羅大為等[6]采用座滴法研究硅硼玻璃在分別具有FeO和FeO+Fe3O4氧化膜的可伐合金表面在1000℃保溫不同時(shí)間的潤(rùn)濕規(guī)律。隨著潤(rùn)濕時(shí)間的延長(zhǎng),玻璃的潤(rùn)濕角不斷減小,最終穩(wěn)定在25°(FeO 氧化膜)和 23°(FeO+Fe3O4氧化膜)。研究認(rèn)為,潤(rùn)濕過(guò)程中熔融玻璃與氧化膜之間發(fā)生了溶解擴(kuò)散。試驗(yàn)發(fā)現(xiàn)在熔融玻璃周?chē)^察到2個(gè)暈圈,分析認(rèn)為是由于在熔融玻璃邊緣處局部的上方黏度變低,容易鋪展而形成暈圈I,由于在毛細(xì)作用力下,暈圈Ⅰ中的熔融玻璃沿著氧化膜表面的微小凹凸面和間隙向外擴(kuò)散,從而形成暈圈II(圖1)。
羅大為等[7]也研究了封接工藝,發(fā)現(xiàn)熔封氣氛的氧化性越強(qiáng),玻璃飛濺現(xiàn)象越嚴(yán)重。隨著熔封時(shí)間的延長(zhǎng)或者熔封溫度的升高,可伐合金引線(xiàn)與玻璃的結(jié)合強(qiáng)度增加,玻璃沿可伐合金引線(xiàn)的上升高度降低。優(yōu)化工藝條件為合金表面為單一FeO或者Fe3O4氧化膜,熔封氣氛為弱還原氣氛,熔封溫度在980℃左右,熔封時(shí)間為20~30 min。
圖1 玻璃在FeO+Fe3O4氧化膜表面潤(rùn)濕形貌(20 min)[6]Fig.1 Micrograph of glass on FeO+Fe3O4wetting for 20 min[6]
匹配封接法所形成的接頭具有良好的耐高溫性和氣密性,但是接頭力學(xué)性能不高。
陽(yáng)極鍵合是一個(gè)在電和熱共同作用下,玻璃是一個(gè)元素在電場(chǎng)作用下擴(kuò)散、陽(yáng)極材料氧化的過(guò)程。電場(chǎng)作用使玻璃內(nèi)的金屬陽(yáng)離子(Na+,K+)向陰極遷移極化,形成堿金屬元素的耗盡層,由于非橋接負(fù)氧離子相對(duì)固定,在陽(yáng)極玻璃側(cè)積聚大量的負(fù)氧離子。靜電吸附效應(yīng)引起陽(yáng)極材料在界面處的感應(yīng)正電荷。在靜電場(chǎng)力的作用下二者形成緊密結(jié)合,通過(guò)元素的互擴(kuò)散,在界面處發(fā)生氧化反應(yīng)和固相反應(yīng)而形成鍵合[8],其原理如圖2所示。該方法在電路基板、半導(dǎo)體芯片、太陽(yáng)能電池封裝、微傳感器方面有著廣泛的應(yīng)用。
目前,國(guó)內(nèi)外學(xué)者圍繞溫度、電場(chǎng)、壓力及材料表面質(zhì)量等因素,展開(kāi)了多方面的研究。
B.Schmidt[9]通過(guò)高能離子束定量分析了耗盡層中Na+、K+、Ca+、H+在不同溫度和電壓下的遷移,確定了飽和耗盡層厚度和Na+在250 V作用下的熱激活能Ea=(0.97±0.14)eV。作者通過(guò)NM譜圖并未發(fā)現(xiàn)玻璃中的非橋接O,但是分析觀察到了O-向界面的遷移,研究認(rèn)為O-并非來(lái)源于玻璃的非橋接O,而是來(lái)源于玻璃表面吸附的水分子。在電場(chǎng)作用下H2O分解為H+和OH-,在電場(chǎng)力作用下,H+也象Na+一樣同時(shí)向陰極方向移動(dòng),O-擴(kuò)散遷移并最終沉積在另一界面的邊緣,O-起連接鍵橋作用。
圖2 陽(yáng)極鍵合原理圖[8]Fig.2 Schematic diagram of anodic bonding[8]
Pawel Knapkiewicz等人利用p-Si作為中間層進(jìn)行玻璃與玻璃的連接。試驗(yàn)首先利用磁控濺射方式在玻璃1表面鍍厚度為100 nm的p-Si層,然后與該玻璃在T=300℃,U=750 V條件下進(jìn)行陽(yáng)極鍵合。最后將玻璃2與預(yù)鍍p-Si層玻璃1在T=450°C,U=1 kV條件下進(jìn)行陽(yáng)極鍵合。剪切試驗(yàn)表明,二者的結(jié)合強(qiáng)度超過(guò)40 MPa[10]。
Piotr Mrozek[11]研究了通過(guò)浮法玻璃表面真空蒸鍍納米級(jí)Ti膜來(lái)進(jìn)行陽(yáng)極焊。試驗(yàn)首先使Ti膜在某一溫度下進(jìn)行熱氧化,生成具有一定電阻率的氧化物,然后進(jìn)行陽(yáng)極焊。試驗(yàn)的最佳工藝參數(shù)為:d=80 nm,預(yù)氧化溫度為420℃,陽(yáng)極焊溫度530℃,電壓200 V,連接時(shí)間5 min,接頭剪切強(qiáng)度為25 MPa。
Gen Sasakil[12]研究證實(shí)了 Al/玻璃鍵合界面納米晶γ-Al2O3。當(dāng)溫度400℃、電壓500 V、連接時(shí)間11.4 ks時(shí),界面產(chǎn)生向玻璃內(nèi)部生長(zhǎng)的樹(shù)枝狀納米晶 γ-Al2O3,納米晶中存在孿晶、層錯(cuò)、位錯(cuò)及晶界等晶體缺陷(圖3)。納米晶γ-Al2O3形狀與大小主要由電壓、溫度和時(shí)間控制,當(dāng)電壓低、連接時(shí)間短時(shí),界面不生成納米樹(shù)枝晶 γ-Al2O3。此外,納米晶的生長(zhǎng)方向則是通過(guò)電場(chǎng)控制Al3+的擴(kuò)散來(lái)改變。在樹(shù)枝晶之間存在富鋁非晶層,而Al/γ-Al2O3界面不存在非晶層。
圖3 Al/玻璃界面γ-Al2O3形貌及晶體缺陷 (連接溫度400℃、電壓500 V、時(shí)間11.4 ks)[12]Fig.3 Interface morphology and crystal defects of Al/glass joint bonded at 400 ℃ (500 V)for 11.4 ks[12]
A.T.J.Helvoort[13]研究了 Al/Glass陽(yáng)極鍵合界面微觀組織,觀察到在Al/玻璃鍵合界面有納米級(jí)樹(shù)枝狀的晶體伸向了耗盡層,通過(guò)對(duì)這些樹(shù)枝晶進(jìn)行電子衍射圖像分析,可以確定該晶體是γ-Al2O3。γ-Al2O3有2種結(jié)構(gòu)形態(tài),其一為樹(shù)枝狀納米晶結(jié)構(gòu),其二為界面形成了的薄膜狀A(yù)l2O3。2種形態(tài)對(duì)界面強(qiáng)度均有貢獻(xiàn),樹(shù)枝狀結(jié)構(gòu)的納米晶可起到釘扎作用,而Al2O3薄膜則將2個(gè)界面“膠”粘結(jié)在一起,形成永久鍵合。
孟慶森[14]研究了硼硅玻璃與單晶Si和Al的陽(yáng)極鍵合主要工藝參數(shù)的影響及形成機(jī)理。連接區(qū)接頭結(jié)構(gòu)形式為:Si(Al)—過(guò)渡區(qū)氧化物—K4,過(guò)渡層為Si/Al、Na的復(fù)合氧化物結(jié)構(gòu)。焊接時(shí)間越長(zhǎng),過(guò)渡區(qū)越寬;電壓一定時(shí),溫度升高,接合率一般增加。電壓和溫度一定的條件下,外加壓力成為控制接合率的主要因素。外加壓力小于0.05 MPa或試件表面粗糙度較低時(shí),連接易產(chǎn)生孔洞串或虛焊點(diǎn),使連接強(qiáng)度顯著下降。一定的外壓力主要使被焊材料表面產(chǎn)生彈性變形并進(jìn)而緊密接觸,較小的界面電阻有利于提高靜電引力,使極化電流快速升高和加速離子的擴(kuò)散。各工藝參數(shù)對(duì)接頭剪切強(qiáng)度和結(jié)合率的影響如表1所示。
目前,國(guó)內(nèi)外學(xué)者針對(duì)金屬/玻璃陽(yáng)極鍵合的研究工作還比較零散,主要集中在工藝優(yōu)化方面,對(duì)鍵合對(duì)機(jī)制的認(rèn)識(shí)研究還不深入,一些問(wèn)題諸如Na+遷移,耗盡層形成動(dòng)力學(xué),玻璃表面結(jié)構(gòu)變化等和鍵合機(jī)理解釋等問(wèn)題還沒(méi)有形成共識(shí),有待進(jìn)一步研究。
表1 工藝參數(shù)對(duì)連接質(zhì)量的影響[14]Table 1 Influence of process parameters on bonding quality[14]
玻璃為非晶態(tài),且化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,與熔融釬料潤(rùn)濕性較差,直接釬焊較為困難?;钚遭F焊是通過(guò)添加少量活性元素(Ag、Ti、Ni等),促進(jìn)釬料在玻璃表面的浸潤(rùn),從而進(jìn)一步與玻璃側(cè)形成反應(yīng)層,形成冶金連接。在釬焊玻璃的釬料體系中較為常用的有 Ag-Cu-Ti、TiZrNiCu、Cu-Ti系列活性釬料,這些釬料釬焊接頭一般較高。
超聲波振動(dòng)輔助釬焊是利用超聲在液態(tài)釬料中產(chǎn)生的空化射流等作用以促進(jìn)釬料與母材之間的潤(rùn)濕,利用超聲還能增加玻璃表面斷鍵,增加機(jī)械嵌合作用,可以實(shí)現(xiàn)難潤(rùn)濕材料的連接,為實(shí)現(xiàn)玻璃的連接提供了一條新途徑[15]。
A.Guedes等[16]采用64Ag34.5Cu1.5Ti釬料釬焊TC4和氟硅酸鹽玻璃陶瓷,剪切強(qiáng)度在60 MPa左右。玻璃陶瓷側(cè),發(fā)現(xiàn)大量Ti的氧化物存在,經(jīng)過(guò)計(jì)算在850℃和930℃時(shí),反應(yīng)2Ti+SiO2→2TiO2+Si的自由能為負(fù)值,說(shuō)明該反應(yīng)是可以進(jìn)行的。研究認(rèn)為T(mén)C4側(cè)反應(yīng)層厚度以及中間層中Ag(s.s)的分布只受釬焊溫度影響。
劉多等[17]采用AgCuTi和TiZrNiCu釬料活性釬焊SiO2玻璃陶瓷與TC4鈦合金,接頭微觀組織形貌見(jiàn)圖4。研究發(fā)現(xiàn):當(dāng)釬焊溫度為880℃、保溫時(shí)間為5 min時(shí),接頭的最高抗剪強(qiáng)度為23 MPa;當(dāng)釬焊溫度為900℃、保溫時(shí)間為5 min時(shí),接頭的最高抗剪強(qiáng)度為27 MPa。
劉洪斌[18]采用 AgCuTi釬料對(duì) SiO2陶瓷和30Cr3高強(qiáng)鋼進(jìn)行了真空釬焊連接,接頭形貌如圖5所示,當(dāng)釬焊溫度950℃,保溫時(shí)間5 min時(shí),接頭剪切強(qiáng)度最大37 MPa。研究認(rèn)為釬料中Ti作為一種活性元素,與SiO2陶瓷側(cè)能夠發(fā)生如下反應(yīng):Ti+SiO2→ Ti4O7+TiSi2;與高強(qiáng)鋼側(cè)發(fā)生反應(yīng):Ti+Fe→ TiFe2,反應(yīng)產(chǎn)物具有金屬特性,各反應(yīng)層的形成促進(jìn)了SiO2陶瓷與30Cr3高強(qiáng)鋼的化學(xué)冶金結(jié)合。
圖4 TiZrNiCu釬料釬焊接頭SEM形貌[17]Fig.4 Morphology of SiO2ceramic/AgCuTi/TC4 joint[17]
圖5 連接溫度950℃,保溫時(shí)間5 min時(shí)界面SEM形貌[18]Fig.5 Interface of SiO2ceramic/AgCuTi/30Cr3 joint brazed at 950 ℃ for 5 min[18]
孫小磊[15]采用純Zn和純Sn釬料進(jìn)行玻璃/Al的超聲波釬焊。純Zn釬料接頭組織為α-Al(s.s)、Zn、Al共析和共晶組織。純 Sn釬料接頭組織為純 Al、Sn-Al共晶和 β-Sn(s.s)。2 種釬焊接頭玻璃側(cè)界面平直,沒(méi)有溶解擴(kuò)散現(xiàn)象(圖6)。工藝參數(shù)對(duì)剪切強(qiáng)度及斷裂位置的影響如表2所示。研究認(rèn)為,超聲波振動(dòng)促進(jìn)一方面能促進(jìn)釬料鉆縫,另一方面超聲的空化及射流作用使釬料以高溫高壓的狀態(tài)接觸到母材表面,改善母材與釬料的潤(rùn)濕性。此外,超聲的空化及射流作用形成的局部高溫高壓環(huán)境不僅增加了玻璃表面斷鍵數(shù)量,促使玻璃與金屬之間鍵合,同時(shí)增加了玻璃表面粗糙度,使二者形成致密的機(jī)械咬合,增加了連接強(qiáng)度。
德國(guó)學(xué)者 Matthias M.Koebel[19]利用含有活性金屬的Sn基料,在電場(chǎng)作用下進(jìn)行Al/玻璃的釬焊連接(ALTSAB法)。對(duì)2組試樣在真空度為5×10-4,溫度300℃進(jìn)行連接試驗(yàn),并和標(biāo)準(zhǔn)的陽(yáng)極焊Al/玻璃試樣對(duì)比。結(jié)果發(fā)現(xiàn),ALTSAB法所得試樣接頭界面良好,接頭剪切強(qiáng)度大于16 MPa,由于填充金屬為液態(tài),相比于標(biāo)準(zhǔn)的陽(yáng)極焊,ALTSAB法有更好的表面適應(yīng)性。SnAl0.6%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))合金釬料與玻璃有較好的潤(rùn)濕(圖7)。該方法焊前玻璃表面無(wú)須金屬化,也無(wú)需加壓力。通過(guò)SEM和EDS證實(shí)了連接界面處存在Al元素的富集。
玻璃/金屬釬焊法具有連接強(qiáng)度高、工藝簡(jiǎn)單、接頭形狀尺寸適應(yīng)性廣等優(yōu)點(diǎn),但是釬焊法所需溫度較高且需要真空施焊,限制了該方法的廣泛應(yīng)用。
圖6 純Zn釬料釬焊玻璃/Al接頭微觀形貌[15]Fig.6 Morphology of the interface of glass/Zn/Al joint[15]
表2 超聲波釬焊工藝參數(shù)及強(qiáng)度[15]Table 2 The process parameters of ultrasonic brazing and the shear strength of joint[15]
圖7 ALTSAB法和無(wú)電場(chǎng)輔助釬焊試樣接頭形貌[19]Fig.7 SEM micrograph of cross-section of glass/glass brazed joint[19]
季凌飛[20]根據(jù)可伐合金和玻璃2種材料對(duì)1.07 pm波長(zhǎng)的激光具有選擇吸收機(jī)制,然后利用兩者完全不同的熱力學(xué)參數(shù),使激光束直接作用金屬表面的氧化層,通過(guò)熱傳導(dǎo)及后續(xù)的激光能量輸入等物理化學(xué)機(jī)制,使玻璃和金屬發(fā)生一系列的反應(yīng),最終形成良好的接頭。由于激光聚焦后光斑功率密度非常高,可使加工表面溫度迅速上升,輻照結(jié)束溫度則又迅速下降,高溫急冷可致極小熱影響區(qū),從而減小封接處的應(yīng)力。
馬子文[21]利用激光與物質(zhì)相互作用的熱效應(yīng)實(shí)現(xiàn)微系統(tǒng)器件的局部加熱鍵合原理(圖8),提出了一種新的無(wú)需外壓力作用的Si/玻璃激光局部鍵合方法,其實(shí)質(zhì)是直接鍵合與局部鍵合的結(jié)合。在鍵合過(guò)程中既發(fā)生了高溫退火又發(fā)生了一部分材料的熔融。試驗(yàn)首先對(duì)Si和玻璃進(jìn)行親水性表面活化處理和預(yù)鍵合,然后選擇合適的激光參數(shù)及加工環(huán)境實(shí)現(xiàn)了兩者的連接。研究了激光功率、激光掃描速度、底板材料等的影響,發(fā)現(xiàn)激光功率越大,掃描速度越小,鍵合線(xiàn)的寬度就越大。該方法能有效減少鍵合片的殘余應(yīng)力,控制鍵合線(xiàn)寬,剪切強(qiáng)度可達(dá)6.5~6.8 MPa。
圖8 激光輔助鍵合原理圖[21]Fig.8 Schematic diagram of laser assisted bonding[21]
超聲波焊接具有焊件變形小、焊點(diǎn)強(qiáng)度高、易于自動(dòng)化等優(yōu)點(diǎn),在電子電器、航空航天及核能工業(yè)具有廣泛應(yīng)用,其原理是利用超聲頻率的機(jī)械振動(dòng)和靜壓力的作用下,實(shí)現(xiàn)同種或異種材料(金屬/陶瓷、塑料、半導(dǎo)體等)連接的方法[22]。
Martin Rauter等[23]研究 Al/硼硅酸鹽玻璃的超聲波焊接,研究認(rèn)為一定的能量輸入能夠使SiO2與Al達(dá)到原子尺度的相互作用,來(lái)獲得可靠的接頭。試驗(yàn)采用一定工藝獲得接頭的最大剪切強(qiáng)度達(dá)到20 MPa,但作者利用透射電鏡對(duì)試件界面進(jìn)行分析,沒(méi)有找到任何擴(kuò)散區(qū)域或過(guò)渡層。
Shinichi Matsuoka[24]對(duì)玻璃與金屬的超聲波焊接也進(jìn)行了研究,發(fā)現(xiàn)焊前在玻璃、陶瓷表面金屬化或在玻璃、利用低熔點(diǎn)活性金屬作為中間層均可以獲得性能優(yōu)良的接頭。作者采用對(duì)玻璃表面鍍銅處理實(shí)現(xiàn)了硅酸鹽玻璃/A1050H鋁合金的連接(圖9)。
圖9 玻璃表面鍍Cu的玻璃/Al超聲波焊接接頭[24]Fig.9 The interface of Al/glass(coated with Cu)ultrasonic welding joint[24]
張建華[25]發(fā)明了一種用于光電器件封裝的超聲波鍵合方法及專(zhuān)用超聲波焊機(jī)。在鍵合過(guò)程當(dāng)中,采用夾具對(duì)兩玻璃基片對(duì)位,然后通過(guò)超聲波焊機(jī)產(chǎn)生的高頻機(jī)械振動(dòng)傳至接合面上,接合面在施加的作用力和分子間的摩擦的雙重作用下,溫度升高到玻璃密封料的熔點(diǎn)(高于玻璃基板轉(zhuǎn)化溫度),停止鍵合后,玻璃粉冷卻并固化完成鍵合。在固化過(guò)程中,可以實(shí)現(xiàn)接合面熔融玻璃材料和鍵合作用表面的退火,可顯著減少應(yīng)力集中或應(yīng)力的不均勻分布情形。
超聲波焊機(jī)的“開(kāi)敞性”比較差,工件的伸入尺寸不能超過(guò)焊接系統(tǒng)所允許的范圍,接頭形式目前只限于搭接接頭。此外,焊點(diǎn)表面容易出高頻機(jī)械振動(dòng)而引起邊緣的疲勞破壞,對(duì)焊接硬而脆的材料不利[26]。
半固態(tài)連接是將金屬或合金在固相線(xiàn)與液相線(xiàn)溫度區(qū)間進(jìn)行連接的一種方法,該方法具有加工溫度較低、凝固收縮小、材料的變形量小及非枝晶的顯微組織使連接件的力學(xué)性能高等優(yōu)點(diǎn)。此外,半固態(tài)金屬的流動(dòng)性好,具有良好的幾何形狀的適應(yīng)性及良好的操作性易于實(shí)現(xiàn)異種材料的連接[27]。
M.Kiuchi等[28]根據(jù)半固態(tài)金屬所具有的良好地變形成型能力等特點(diǎn),采用半固態(tài)連接的方法進(jìn)行玻璃/A2011鋁合金的焊接。實(shí)驗(yàn)前,先將玻璃表面鍍一層陶瓷薄膜,將質(zhì)量分?jǐn)?shù)74%的鋁合金放入模具中,加熱至620℃達(dá)到半固態(tài),然后對(duì)二者施加20 MPa的壓力,快冷并保壓直至接頭冷卻。焊接過(guò)程中,呈半固態(tài)的鋁合金能夠很好地與母材表面接觸,從而形成化學(xué)冶金連接。從鋁合金和玻璃界面的顯微照片可以看到,界面的幾何形狀很不規(guī)則,這說(shuō)明在接近邊界的區(qū)域內(nèi)生成了某種化合物。連接過(guò)程示意圖及界面形貌如圖10、圖11所示。
圖10 玻璃/A2011半固態(tài)連接過(guò)程示意圖[28]Fig.10 Schematic diagram of semisolid joining of glass and A2011[28]
圖11 玻璃/A2011半固態(tài)連接接頭界面形貌[28]Fig.11 Interface morphology of glass/A2011 semisolid joint[28]
膠接是利用在聯(lián)接面上產(chǎn)生的機(jī)械結(jié)合力、物理吸附力和化學(xué)鍵合力而使2個(gè)膠接件起來(lái)的工藝方法。膠接具有對(duì)工藝、設(shè)備要求簡(jiǎn)單、連接溫度低、膠接件不易產(chǎn)生變形、接頭應(yīng)力分布均勻、接頭具有良好的密封性、電絕緣性和耐腐蝕性等優(yōu)點(diǎn)。膠接不僅適用于同種材料,也適用于異種材料。但膠接法接頭耐高溫性差、不耐腐蝕,易老化,大多數(shù)膠黏劑在受到某些溶劑、氧化劑或射線(xiàn)影響時(shí)容易發(fā)生變化,這極大地局限了玻璃與金屬的連接[29]。
M.Overend等[30]采用5種不同的膠黏劑進(jìn)行玻璃和鋼的連接試驗(yàn),通過(guò)剪切試驗(yàn)來(lái)選擇合適的膠黏劑。研究發(fā)現(xiàn),膠接接頭剪切強(qiáng)度與膠黏劑的厚度成反比。通過(guò)有限元模擬發(fā)現(xiàn),在應(yīng)力集中區(qū)以外,彈性模型和粘彈性模型的有限元模擬所得結(jié)果基本吻合,而解析法得出的應(yīng)力值偏低。在低載荷時(shí),解析法和有限元模擬結(jié)果相差不到10%,但載荷超過(guò)0.72 kN時(shí),二者相差很大。彈性模型和粘彈性模型隨著載荷增大,模擬結(jié)果偏差也增大(圖12)。
圖12 有機(jī)硅粘結(jié)劑接頭強(qiáng)度解析法及有限元模擬[30]Fig.12 Simulation of distribution of adhesive joint along the interface by analytical and finite element method[30]
全面地介紹了國(guó)內(nèi)外玻璃-金屬連接的一些方法,各種方法有各自特點(diǎn)及適用范圍;針對(duì)兩者連接的研究工作雖取得了較大進(jìn)步,但基本上仍處于實(shí)驗(yàn)室研究階段,距離工程實(shí)用化還有很大差距;許多理論及工藝方面的問(wèn)題有待解決,所連接的金屬材料也有待于豐富。如何選擇合適的低溫連接工藝來(lái)實(shí)現(xiàn)兩者的可靠連接是未來(lái)研究的重點(diǎn)。
[1]王耀祥.光學(xué)玻璃的發(fā)展及其應(yīng)用[J].應(yīng)用光學(xué),2005,26(5):61-65.
[2]王學(xué)鋒,趙修建,顧少軒,等.二階非線(xiàn)性光學(xué)玻璃的研究進(jìn)展[J].材料科學(xué)與工程學(xué)報(bào),2003,21(1):147-150.
[3]劉翠榮.玻璃(陶瓷)與金屬陽(yáng)極鍵合界面結(jié)構(gòu)及力學(xué)性能[D].太原:太原理工大學(xué),2008:88-130.
[4]聶琴.航天電連接器金屬-玻璃封接工藝設(shè)計(jì)與材料微觀組織的研究[D].沈陽(yáng):東北大學(xué),2008:1-9.
[5]Chern T S,Tsai H L.Wetting and sealing of interface between 7056 glass and Kovar alloy[J].Materials Chemistry and Physics,2007,104(2 -3):472 -478.
[6]羅大為,沈卓身.硅硼玻璃在可伐合金表面的潤(rùn)濕規(guī)律[J].材料工程,2009(11):80-87.
[7]羅大為,沈卓身.可伐合金與玻璃封接工藝的優(yōu)化[J].北京科技大學(xué)學(xué)報(bào),2009,31(1):62 -67.
[8]吳登峰,鄔玉亭,褚家如.陽(yáng)極鍵合工藝進(jìn)展及其在微傳感器中的應(yīng)用[J].傳感器技術(shù),2002,21(11):4-7.
[9]Schmidt B,Nitzsche P,Lange K,et al.In situ investigation of ion drift processes in glass during anodic bonding[J].Sensors and Actuators A:Physical,1998,67(1 -3):191 -198.
[10]Knapkiewicz P,Cichy B,Posadowski W,et al.Anodic bonding of glass-to-glass through magnetron spattered nanometric silicon layer[J].Procedia Engineering,2011,25:1629 - 1632.
[11]Mrozek P.Anodic bonding of glasses with interlayers for fully transparent device applications[J].Sensors and Actuators A:Physical,2009,151(1):77 -80.
[12]Xing Q F,Sasaki G.Nanostructured gamma-alumina formed during anodic bonding of Al/Glass[J].Solid State Ionics,2007,178(3-4):179-185.
[13]Helvoort A T J,Knowles K M,F(xiàn)ernie J A.Nanostructures at electrostatic bond interface[J].Journal of the American Ceramic Society,2003,86(10):1773 -1776.
[14]孟慶森,俞萍,張麗娜,等.金屬與硼硅玻璃場(chǎng)致擴(kuò)散連接形成機(jī)理[J].焊接學(xué)報(bào),2001,22(4):63-65.
[15]孫小磊.超聲波振動(dòng)輔助釬焊玻璃的工藝及連接機(jī)理[D].哈爾濱:哈爾濱工業(yè)大學(xué),2009:42-49.
[16]Guedes A,Pinto A,Vieira M,et al.The effect of brazing temperature on the titanium/glass-ceramic bonding[J].Journal of Materials Processing Technology,1999,92 -93:102 -106.
[17]劉多,張麗霞,何鵬,等.SiO2玻璃陶瓷與TC4鈦合金的活性釬焊[J].焊接學(xué)報(bào),2009,30(2):117-120.
[18]劉洪斌.SiO2陶瓷與30Cr3高強(qiáng)鋼及TC4鈦合金釬焊機(jī)理及工藝研究[D].哈爾濱:哈爾濱工業(yè)大學(xué),2007:20-23.
[19]Koebel M M,Hawi N E,Lu J,et al.Anodic bonding of activated tin solder alloys in the liquid state:A novel large-area hermetic glass sealing method[J].Solar Energy Materials and Solar Cells,2011,95(11):3001 -3008.
[20]北京工業(yè)大學(xué).一種玻璃-可伐合金激光焊接方法及其專(zhuān)用夾具:中國(guó),201010515828.2[P].2011 -4 -27.
[21]馬子文,湯自榮,廖廣蘭,等.無(wú)壓力輔助硅/玻璃激光局部鍵合[J].半導(dǎo)體學(xué)報(bào),2007,28(2):217-221.
[22]阮世勛,雷運(yùn)青.金屬超聲焊及應(yīng)用[J].新技術(shù)新工藝,2004(12):38-40.
[23]Rauter M,Roeder E,Nancy.Ultrasonic welding of glass and glass-ceramic to metal[J].Welding and Cutting,1993,4:26 -30.
[24]Matsuoka S.Ultrasonic welding of ceramics/metals using inserts[J].Journal of Materials Processing Technology,1998,75(1 -3):259-265.
[25]上海大學(xué).用于光電器件封裝的超聲波鍵合方法及專(zhuān)用超聲波焊機(jī):中國(guó),201110124988.9[P].2011 -10 -26.
[26]王宋.超`聲波金屬焊接機(jī)理及實(shí)驗(yàn)裝置研究[D].焦作:河南理工大學(xué)碩士論文,2009:9-11.
[27]劉洪偉,郭成,程羽.半固態(tài)技術(shù)在材料連接和復(fù)合材料制備中的應(yīng)用[J].焊接,2006(1):17-20.
[28]Sugiyama S,Kiuchi M,Yanagimoto J.Application of semisolid joining-part 4 glass/metal,plastic/metal,or wood/metal joining[J].Journal of Materials Processing Technology,2008,201(1 -3):623-628.
[29]邢婭,曹運(yùn)紅.現(xiàn)代膠接技術(shù)[J].飛航導(dǎo)彈,2002(5):58-61.
[30]Overend M,Jin Q,Watson J.The selection and performance of adhesives for a steel-glass connection[J].International Journal of Adhesion and Adhesives,2011,31(7):587 -597.