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        高壓發(fā)光二極管的研制及產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用

        2013-08-24 02:15:08鄭建森
        科技傳播 2013年4期
        關(guān)鍵詞:晶片制程溝槽

        鄭建森

        廈門(mén)市三安光電科技有限公司,福建廈門(mén) 361009

        0 引言

        發(fā)光二極管是利用半導(dǎo)體的P-N 結(jié)電致發(fā)光原理制成的半導(dǎo)體發(fā)光器件,具有無(wú)污染、亮度高、功耗小、壽命長(zhǎng)、工作電壓低、易小型化等優(yōu)點(diǎn)。隨著研究不斷深入,其發(fā)光亮度也不斷提高,應(yīng)用領(lǐng)域也越來(lái)越廣[1]。近年來(lái),隨著 LED 在材料選取、晶粒制程、封裝架構(gòu)設(shè)計(jì)技術(shù)等方面的研究不斷進(jìn)步,新型的高壓發(fā)光二極管(HV-LED)技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生,有利推動(dòng)了 LED 照明技術(shù)的實(shí)用化[2]。

        目前,Cree 仍是照明LED 技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者,并已推出160lm/W 產(chǎn)品,但價(jià)格相對(duì)偏高。歐司朗、日亞、晶電、璨圓也先后推出發(fā)光效率分別達(dá)136lm/W 、133lm/W、110lm/W 和100lm/W 的高壓HV-LED 芯片。此外,武漢迪源也研發(fā)出高壓芯片,并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

        1 新型HV-LED 與傳統(tǒng)DC-LED 的特點(diǎn)對(duì)比

        傳統(tǒng)DC-LED 芯片是在大電流低電壓下工作,為提升使用電壓,一般在封裝端采用多顆芯片串并聯(lián),而新型HV-LED直接在芯片端便實(shí)現(xiàn)了晶粒間的串并聯(lián),使其在低電流高電壓下工作,大大減少了芯片固晶、鍵合數(shù)量,封裝成本降低。

        HV-LED 芯片是在單位面積內(nèi)形成多顆微晶粒集成,而COB 是采用若干個(gè)HV-LED 芯片集成,避免各芯片間同波段內(nèi)如波長(zhǎng)、電壓、亮度跨度帶來(lái)的一致性問(wèn)題; HV-LED 芯片自身工作電壓高,易通過(guò)串并聯(lián)實(shí)現(xiàn)封裝成品工作電壓接近市電,提高驅(qū)動(dòng)電源的轉(zhuǎn)換效率;由于工作電流低,線(xiàn)路損耗也將明顯低于傳統(tǒng)的 DC 功率LED 芯片。

        2 HV-LED 的工藝技術(shù)關(guān)鍵點(diǎn)

        集成式HV-LED 與傳統(tǒng)DC-LED 的制作工藝比較相似,區(qū)別是需外加三步關(guān)鍵工藝,其中每步工藝都對(duì)器件的光電特性、良品率等有重要影響。

        1)蝕刻隔離溝槽。隔離目的在于將晶片上每個(gè)單元內(nèi)的若干顆的晶胞獨(dú)立開(kāi)來(lái),實(shí)現(xiàn)電學(xué)隔開(kāi),因此隔離溝槽需要足夠地深,直至絕緣襯底,其深度一般在5um~10um,隔離溝槽寬度則無(wú)固定限制,但隔離溝槽太寬代表著有效發(fā)光區(qū)域的減少,會(huì)降低光效,因此需要開(kāi)發(fā)高深寬比的制程技術(shù),縮小制程線(xiàn)寬以增加發(fā)光效率;

        2)沉積絕緣層,若絕緣層不具備良好的絕緣特性,將使整個(gè)設(shè)計(jì)失敗,其難點(diǎn)在于必須在高深寬比的溝槽上披覆包覆性良好、膜質(zhì)緊密及絕緣性佳的膜層,即所選的膜層材料除了要有非常好的絕緣性能,也需要有非常好的階梯覆蓋保形能力,讓晶片每個(gè)單元的側(cè)壁上都能沉積優(yōu)質(zhì)均勻的薄膜;

        3)晶片間金屬導(dǎo)線(xiàn)互聯(lián)。良好的連接是導(dǎo)線(xiàn)在跨接時(shí)需要相對(duì)平坦的表面,深邃的階梯狀結(jié)構(gòu)將使得導(dǎo)線(xiàn)結(jié)構(gòu)薄弱,在高電壓、高電流驅(qū)動(dòng)下易產(chǎn)生毀損,造成晶片失效,因此平坦化制程的開(kāi)發(fā)非常重要。理想狀態(tài)是在做絕緣層時(shí),能同時(shí)將深邃的溝槽予以平坦化,使互連導(dǎo)線(xiàn)得以平順連接,如圖1所示。

        圖1 HV-LED 晶片間的金屬導(dǎo)線(xiàn)互聯(lián)SEM 圖

        3 HV-LED 芯片的制作與應(yīng)用

        GaN 基藍(lán)光LED 電壓在3.0V~3.2V,HV-LED 主要用于封裝成球泡燈、射燈、落地面板燈等。以5W 球泡燈為例,介紹HV-LED 的制作與應(yīng)用。為了球泡燈能在家用電壓下正常工作,同時(shí)考慮實(shí)際應(yīng)用中串入恒流IC 以及兼顧性能、良率、成本等因素,將23*45mil 芯片設(shè)計(jì)成單顆18V 的HV-LED,單顆芯片上需要形成6 顆獨(dú)立且串聯(lián)在一起的微晶粒組,簡(jiǎn)稱(chēng)HV-6。23*45mil HV-LED 的電流驅(qū)動(dòng)設(shè)定為20mA,單顆HVLED 的電功率消耗估算值約為0.36W,為了制作5W 球泡燈,采用15 串HV-6 串聯(lián),并接入簡(jiǎn)單的驅(qū)動(dòng)電路以實(shí)現(xiàn) HVLED 在A(yíng)C220V 下正常工作。

        圖2 為集成式HV-LED 芯片在20mA 電流下的光場(chǎng)分布圖,可以看出,點(diǎn)亮后芯片表面無(wú)明顯暗區(qū),這說(shuō)明每顆微晶粒都是正常工作的,電流的分布大致均勻,具有良好的電流擴(kuò)展性。

        圖2 HV-LED 的光場(chǎng)分布圖

        為比較HV-LED 與傳統(tǒng)DC-LED 光電特性,同時(shí)設(shè)計(jì)并制作10*23mil DC-LED 芯片,其外延片選用和HV-LED 同爐同圈,芯片工藝流程一致,驅(qū)動(dòng)電流是20mA,工作電壓約為3.1V,對(duì)應(yīng)的電功率消耗約為0.062W,采用90 顆10*23mil DC-LED 芯片以COB 封裝形式用于5W 球泡燈,這樣保證90顆傳統(tǒng)10*23mil DC-LED 芯片與15 顆23*45mil HV-LED 的電功率消耗相當(dāng)。

        采用LED 光色電測(cè)試系統(tǒng)對(duì)5W 球泡燈(測(cè)試電流為20mA)進(jìn)行測(cè)試,結(jié)果如表1 所示。

        表1 HV-LED 與常規(guī)DC-LED用于封5W 球泡燈的光電特性比較表

        從表1 看出,23*45mil HV-LED 的芯片光效平均值約為115lm/W,較傳統(tǒng)10*23mil DC-LED 高出約8%,這說(shuō)明HVLED 結(jié)構(gòu)較DC-LED 光效萃取地更多,更適合用于封球泡燈。

        4 結(jié)論

        本文通過(guò)對(duì)圖形化藍(lán)寶石襯底外延生長(zhǎng)、芯片晶粒間隔離及晶粒間金屬互聯(lián)等多種工藝技術(shù)的優(yōu)化,成功開(kāi)發(fā)出集成式高壓氮化鎵基發(fā)光二極管,其產(chǎn)業(yè)化光效超過(guò)110lm/W;20mA 下光場(chǎng)分布圖,顯現(xiàn)出良好的電流擴(kuò)展性;與傳統(tǒng)DCLED 相比,封5W 球泡燈時(shí),HV-LED 芯片光效超過(guò)115lm/W,高出約8%,達(dá)到同類(lèi)產(chǎn)品先進(jìn)水平。三安光電已開(kāi)發(fā)系列化高壓HV-LED,主要有HV-4、HV-6、HV-15 等多種尺寸不同電壓的芯片產(chǎn)品,并實(shí)現(xiàn)客制化。

        [1]羅毅,張賢鵬,韓彥軍,等.半導(dǎo)體照明關(guān)鍵技術(shù)研究[J].激光與光電子學(xué)進(jìn)展,2007,44(3):17-28.

        [2]Zhou S J,Cao B,Liu S.Optimized ICP etching process for fabrication of oblique GaN sidewall and its application in LED[J].Appl.Phys.A-Mater.,2011,105(2):369-377.

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