江 山 康廣生
(河南工業(yè)大學(xué) 理學(xué)院,河南 鄭州 450001)
涂層材料通常需要采用擴(kuò)散退火的方法在涂層與基體界面上形成一定厚度的擴(kuò)散過(guò)渡層,以此獲得牢固的冶金結(jié)合。有很多國(guó)外研究報(bào)道了電沉積納米晶鎳在加熱情況下鍍層內(nèi)部晶界擴(kuò)散情況,而對(duì)于鍍層與基體界面的擴(kuò)散情況卻少有報(bào)道。本工作在較低溫度范圍(500℃以下)對(duì)電沉積納米晶鎳鍍層與基體進(jìn)行擴(kuò)散退火,研究了涂層與基體界面的擴(kuò)散及過(guò)渡層的形成情況。
采用脈沖噴射電沉積方法在低碳鋼基體上電沉積納米晶鎳鍍層。涂層厚度約16μm,平均晶粒尺寸約為 15.6nm,(111)織構(gòu)。對(duì)樣品(涂層連同基體)進(jìn)行低溫退火熱處理,退火溫度和時(shí)間為:150℃(10h),200℃(6h),250℃(5h),300℃(3h),400℃(3h),500℃(3h)。對(duì)退火后的樣品進(jìn)行取樣、鑲嵌、磨光、拋光,制成截面觀察試樣,用掃描電子顯微鏡(SEM)的背散射電子像(BSE)觀察樣品界面的相結(jié)構(gòu)變化,用能量色散譜(EDS)探測(cè)涂層與基體界面上原子擴(kuò)散情況。
圖1 不同溫度退火后樣品的截面背散射電子(BSE)像(a) 250℃;(b)400℃;(c)500℃
對(duì)不同溫度下退火樣品的界面做掃描電鏡(SEM)觀察和電子探針?lè)治?,結(jié)果表明在200℃及以下溫度較長(zhǎng)時(shí)間退火后,鎳鐵界面上都沒(méi)有明顯原子擴(kuò)散發(fā)生,亦無(wú)明顯的過(guò)渡層形成。250℃、400℃和500℃退火樣品的截面背散射電子像(BSE)見(jiàn)圖1。從圖1中可以看到,400℃和500℃退火后的樣品中涂層與基體界面上形成了較明顯的過(guò)渡層,且在過(guò)渡層中形成了新的相結(jié)構(gòu),它們?cè)贐SE照片中顯示為暗色的條帶。暗色條帶的寬度不均勻,說(shuō)明界面上不同位置原子擴(kuò)散進(jìn)行的程度不同。圖2給出了250℃退火樣品的界面上3個(gè)不同位置(已標(biāo)記在圖1(a)中)的能量色散譜(EDS),圖中數(shù)據(jù)是 Fe、Ni的原子百分比。數(shù)據(jù)表明,界面上已有較顯著的Fe、Ni原子的互擴(kuò)散發(fā)生。
圖1還表明,500℃退火樣品中的條帶寬度明顯大于4000℃退火樣品,表明過(guò)渡層的寬度隨退火溫度的增加而增大。界面擴(kuò)散過(guò)程可以視為是一個(gè)受原子擴(kuò)散控制的固態(tài)相變過(guò)程。退火溫度越高,原子擴(kuò)散就越快越顯著,因而過(guò)渡層越厚。
圖2 250℃退火樣品界面上3個(gè)不同位置處的EDS譜
在不同溫度下對(duì)電沉積納米晶鎳鍍層與低碳鋼基體進(jìn)行低溫?cái)U(kuò)散退火。250℃及以上溫度下的擴(kuò)散退火能有效促使涂層與基體界面上原子的擴(kuò)散,在界面上形成了新的相結(jié)構(gòu)和擴(kuò)散過(guò)渡層。溫度越高擴(kuò)散越顯著,過(guò)渡層越寬。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,低溫?cái)U(kuò)散退火為納米晶涂層材料界面熱處理提供了一條可行途徑。
[1]林化春,蘭德喜,等.鎳基合金-碳化鉻復(fù)合涂層材料的界面擴(kuò)散系數(shù)[J].鋼鐵研究學(xué)報(bào),1999,11(4):30-34.
[2]KOLOBOV YR and GRABOVETSKAYA GP.Grain boundary diffusion characteristics of nanostructured nickel[J].Scripa Mater,2001,44:873-878.
[3]MARTE C and KIRCHHEIM R.Hydrogen diffusion in nanocrystalline nickel indicating a structural change within the grain boundaries after annealing[J].Scripa Mater,1997,37:1171-1175.
[4]江山,潘勇,唐甜,等.用脈沖噴射電沉積法制備納米晶鎳鍍層 [J].材料保護(hù),2007,40(3):49-51.