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        E2 PROM失效故障分析

        2013-04-25 07:28:32孫愛(ài)中
        電子科技 2013年9期
        關(guān)鍵詞:工藝故障

        劉 冰,孫愛(ài)中,謝 濤

        (中國(guó)航空計(jì)算技術(shù)研究所 第6研究室,陜西 西安710068)

        在使用中發(fā)現(xiàn)有個(gè)別模塊出現(xiàn)數(shù)據(jù)丟失問(wèn)題,經(jīng)分析該E2PROM(電可擦寫存儲(chǔ)器)出現(xiàn)失效的主要原因是由于PCM(過(guò)程控制監(jiān)視)工藝參數(shù)RRPOLY3.6V波動(dòng)較大,導(dǎo)致部分芯片的冗余范圍變小,且偏差超過(guò)10 %會(huì)引起復(fù)位判斷閾值變化,造成上電復(fù)位異常,并容易在寫控制電路中引起誤寫操作。因此在E2PROM篩選中增加非易失性測(cè)試,可發(fā)現(xiàn)芯片早期失效問(wèn)題。

        1 故障定位及原因分析

        用戶在使用中,發(fā)現(xiàn)E2PROM數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器存在數(shù)據(jù)丟失的題,導(dǎo)致計(jì)算機(jī)無(wú)法正常工作。利用讀出程序通過(guò)開(kāi)發(fā)系統(tǒng)讀出故障件上E2PROM內(nèi)的程序內(nèi)容,用UE自帶的文件比較功能和正確的加載程序進(jìn)行比對(duì),發(fā)現(xiàn)故障件部分地址單元數(shù)據(jù)被改寫,數(shù)據(jù)“0”被改寫為“1”。重新加載程序,故障件工作正常,再反復(fù)上下電后,卻又出現(xiàn)工作異常。數(shù)據(jù)被改寫的地址并無(wú)規(guī)律,確定E2PROM存在數(shù)據(jù)丟失的問(wèn)題。根據(jù)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)分析,建立了CPU模塊上E2PROM數(shù)據(jù)丟失的故障樹(shù),如圖1所示。

        從圖1可看出,導(dǎo)致E2PROM芯片數(shù)據(jù)丟失有5個(gè):元器件虛焊、印制板斷線、測(cè)試程序錯(cuò)誤、芯片硬件使用環(huán)境問(wèn)題和E2PROM芯片失效。

        (1)元器件虛焊排查。對(duì)故障模塊進(jìn)行了5DX檢查,并未發(fā)現(xiàn)虛焊、短路等焊接工藝問(wèn)題,因此可排除因元器件虛焊造成的E2PROM數(shù)據(jù)丟失。

        (2)印制板斷線排查。用萬(wàn)用表量印制板上E2PROM所在位置附近所有印制板連線,測(cè)量靜態(tài)電阻滿足仲裁檢驗(yàn):每25 mm的電路電阻應(yīng)<0.1Ω的要求。結(jié)果顯示,連接正常,可排除因印制板斷線所造成的數(shù)據(jù)丟失。

        (3)測(cè)試程序錯(cuò)誤排查。在排查過(guò)程中,首先對(duì)測(cè)試程序進(jìn)行排查,觀察軟件數(shù)據(jù)保護(hù)是否工作。

        依據(jù)手冊(cè)說(shuō)明,解除/啟用軟件數(shù)據(jù)保護(hù)需按照一定的序列在特定的地址單元寫入特定的數(shù)據(jù)方能生效,程序中有解除/啟用軟件數(shù)據(jù)保護(hù)。

        現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行試驗(yàn)驗(yàn)證:程序中不執(zhí)行解保護(hù)功能代碼,則無(wú)法完成寫操作;反之,程序中執(zhí)行解保護(hù)功能代碼,則可正常實(shí)現(xiàn)寫操作,同時(shí)在使用過(guò)程中,可啟動(dòng)數(shù)據(jù)保護(hù)。

        圖1 故障樹(shù)

        再查看測(cè)試程序,觀察是否有異常寫操作。

        在保護(hù)未啟動(dòng)和異常寫操作同時(shí)發(fā)生的情況下,才會(huì)導(dǎo)致數(shù)據(jù)丟失,依此得出結(jié)論:測(cè)試程序按照手冊(cè)要求進(jìn)行編寫,保護(hù)有啟動(dòng)且無(wú)異常寫操作,其使用正常。因此可排除測(cè)試程序錯(cuò)誤。

        (4)芯片硬件使用環(huán)境問(wèn)題排查。芯片硬件使用環(huán)境問(wèn)題有4個(gè)因素:電源異常、時(shí)序設(shè)計(jì)問(wèn)題、上電信號(hào)抖動(dòng)干擾和I/O電平出錯(cuò)。先排查電源異常,如圖2所示,用示波器測(cè)量,1通道為電源電壓,在CPU模塊測(cè)試時(shí)使用穩(wěn)壓直流電源供電,電壓+5 V,未見(jiàn)異常,可排除電源異常情況。再排除時(shí)序設(shè)計(jì)問(wèn)題,在上電和運(yùn)行過(guò)程中只有讀操作,所以主要看讀時(shí)序的設(shè)計(jì)。

        圖2 上電時(shí)控制信號(hào)波形

        圖3 讀周期時(shí)序圖

        表1 E2PROM讀時(shí)序參數(shù)表

        圖4 實(shí)測(cè)讀周期時(shí)序

        從圖5可看出,片選和讀寬度為300 ns。芯片參數(shù)表上,讀周期為120 ns,能滿足芯片手冊(cè)的要求。

        圖5 實(shí)測(cè)讀周期時(shí)序數(shù)據(jù)標(biāo)示

        其次要排除上電信號(hào)的抖動(dòng)干擾,圖2是上電時(shí)抓到的電源(1)、CS(2)、OE(3)、WE(4)的波形。從波形上可看出,設(shè)計(jì)滿足各芯片手冊(cè)要求,E2PROM芯片手冊(cè)要求芯片工作電壓5 V(允許誤差±10 %),設(shè)計(jì)保證了在供電電壓達(dá)到4.5 V,信號(hào)狀態(tài)穩(wěn)定時(shí),滿足手冊(cè)要求;上電時(shí)間接近8 ms,而E2PROM芯片手冊(cè)對(duì)上電時(shí)間未要求。

        正常電壓下的信號(hào)未發(fā)現(xiàn)異常,檢測(cè)控制、地址、數(shù)據(jù)信號(hào)未出現(xiàn)異常抖動(dòng)。故排除上電過(guò)程中信號(hào)的抖動(dòng)干擾。

        最后看I/O電平是否出錯(cuò),芯片的I/O電平異常一般表現(xiàn)為:芯片I/O管腳在板上短路或開(kāi)路和芯片I/O電平上出現(xiàn)異常干擾或信號(hào)反射紋波。

        通過(guò)采用萬(wàn)用表檢測(cè)模塊,芯片I/O管腳連接正確,未出現(xiàn)短路或開(kāi)路。同時(shí),采用示波器監(jiān)控I/O信號(hào),工作過(guò)程中均未發(fā)現(xiàn)異常干擾信號(hào),可排除I/O電平出錯(cuò)。

        綜上所述,排除芯片硬件使用環(huán)境問(wèn)題。

        (5)E2PROM芯片失效排查。經(jīng)設(shè)計(jì)復(fù)查,以及該芯片在其他方面的設(shè)計(jì)使用,可確認(rèn)模塊設(shè)計(jì)完全符合器件手冊(cè)上的要求。根據(jù)E2PROM數(shù)據(jù)丟失故障樹(shù)的分析以及部分分支的分析與排除,可確定芯片問(wèn)題,E2PROM失效導(dǎo)致數(shù)據(jù)丟失,致使模塊工作異常。

        2 機(jī)理分析

        通過(guò)DPA分析,進(jìn)一步確認(rèn)是E2PROM芯片失效。E2PROM器件存在芯片某流片生產(chǎn)批次工藝參數(shù)RRPOLY3.6電阻參數(shù)偏差較大(超過(guò)10 %),工藝線參數(shù)存在一定的非線性偏差,降低了設(shè)計(jì)中保留的冗余度,導(dǎo)致該產(chǎn)品抗干擾能力降低,易受外部干擾的影響;若在外部電源上電過(guò)程中出現(xiàn)毛刺或紋波干擾,引起復(fù)位判斷閾值變化,有可能造成復(fù)位信號(hào)提前產(chǎn)生翻轉(zhuǎn),此時(shí)電源電壓尚未達(dá)到最低工作電壓,后級(jí)邏輯電路即不能正常完成初始化操作,在后面的連鎖效應(yīng)情況下,最終可能導(dǎo)致寫控制電路中引起誤寫操作,使得E2PROM單元被誤寫。

        3 改進(jìn)措施

        完善工藝參數(shù)的控制標(biāo)準(zhǔn),增加工藝參數(shù)的統(tǒng)計(jì)控制。在4個(gè)關(guān)鍵工藝參數(shù)(N管、P管的閾值電壓與飽和電流)統(tǒng)計(jì)的基礎(chǔ)上,增加對(duì)該E2PROM工藝電阻參數(shù)的一致性進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析的控制。對(duì)工藝參數(shù)的控制范圍應(yīng)根據(jù)產(chǎn)品特性要求制定,E2PROM工藝的RRPOLY3.6電阻參數(shù)的控制范圍由原本的±20 %縮小至±10 %。

        在E2PROM篩選中增加非易失性的測(cè)試,在所有測(cè)試環(huán)節(jié)中先進(jìn)行讀測(cè)試,再進(jìn)行先寫后讀的測(cè)試驗(yàn)證。

        4 結(jié)束語(yǔ)

        E2PROM存在芯片工藝參數(shù)RRPOLY3.6電阻參數(shù)偏差較大,影響上電復(fù)位電路的工作狀態(tài),造成部分芯片在上電過(guò)程中出現(xiàn)失效問(wèn)題;后期加強(qiáng)PCM參數(shù)控制,可將本次產(chǎn)品的質(zhì)量問(wèn)題徹底解決,同時(shí)可杜絕發(fā)生類似問(wèn)題。另外在E2PROM篩選中增加非易失性的測(cè)試,可及時(shí)發(fā)現(xiàn)E2PROM早期失效問(wèn)題。

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