顏 燕,帥
(中國電子科技集團公司第58研究所,江蘇 無錫 214035)
從集成電路(IC)的誕生開始,不斷提升產(chǎn)品使用壽命一直是IC設(shè)計、制程研究開發(fā)和產(chǎn)品生產(chǎn)中的一個重要部分。在系統(tǒng)集成的電子信息時代,幾乎所有電子產(chǎn)品都由眾多不同種類的IC整合而成,任何一塊IC的質(zhì)量和可使用時間都影響到整個系統(tǒng)的穩(wěn)定性,甚至對系統(tǒng)造成毀滅性的后果,而使其他原本完好的電路也變成廢品。因此,集成電路的使用壽命是產(chǎn)品可靠性最重要的量化特征,體現(xiàn)了IC生產(chǎn)商的核心競爭力。
通常用于評價集成電路長期使用壽命的指標為MTTF(Mean Time To Failure,平均無故障時間),另一個常見的單位為FIT(Failure in Time),用于表征集成電路長期失效率,定義為每109元器件-小時(device-hour)所發(fā)生的失效數(shù)。二者互為反比關(guān)系,公式為MTTF=109/FIT。
自20世紀90年代初期亞微米的工藝制程,乃至2000年0.18μm的深亞微米工藝,集成電路不僅在面積上縮小了50倍以上,性能和應(yīng)用范圍也得到大幅提升,尤其是可靠性壽命也提升了一個量級,由數(shù)十個FIT達到了數(shù)個FIT。
圖1 集成電路預(yù)計壽命發(fā)展圖
集成電路的失效率與時間的關(guān)系可以用一條浴盆曲線(Bathtub Curve)來表示,見圖2。
圖2 集成電路失效“浴盆曲線”
大體上,集成電路的失效率分三個階段呈現(xiàn)不同特征。
這個階段產(chǎn)品的總體失效率相對偏高并快速下降,造成失效的原因在于IC設(shè)計和生產(chǎn)過程中的缺陷,比如離子沾污等,一般用PPM(Parts Per Million,百萬分之一)表示,該階段器件的失效率與時間的關(guān)系符合韋伯分布(Weibull Distribution)。
這個階段產(chǎn)品的失效率保持穩(wěn)定,失效的原因往往是隨機的,比如靜電放電(ESD)、電過載(EOS)或氧化層缺陷等,一般用FIT表示。該階段器件的失效率與時間的關(guān)系符合指數(shù)分布(Exponential Distribution)。
在這個階段失效率會快速升高,失效的原因是產(chǎn)品的長期使用所造成的老化等,失效機理包括電遷移(EM)、熱載流子注入(HCI)等。一般以年為單位,并要求十年以上的損耗期。該階段器件的失效率與時間的關(guān)系符合對數(shù)正態(tài)分布(Lognormal Distribution)。
結(jié)合以上典型集成電路產(chǎn)品的生命周期,可見加速壽命試驗重點要解決的問題是:
(1)將處于早期失效期的產(chǎn)品去除,并估算產(chǎn)品良率;
(2)預(yù)計產(chǎn)品的使用壽命期限,查找失效原因,尤其是工藝、封裝、存儲等方面的失效原因。
針對上述兩點,主要進行兩項加速壽命試驗,包括老煉(Burn in)試驗、穩(wěn)態(tài)壽命(High Temperature Operating,簡稱HTOL)試驗,見圖2。
老煉試驗有時也被稱為早期失效試驗(Early Fail Test,簡稱EFT),在國軍標GJB548B-2005《微電子器件試驗方法和程序》方法1015中對專用產(chǎn)品的試驗要求做了詳細規(guī)定。
老煉試驗的目的是評估工藝的穩(wěn)定性,加速缺陷失效速率。老煉試驗要求至少125℃、160h,并加偏壓的條件下對產(chǎn)品進行測試。測試結(jié)束后剔除由于先天原因引起的早期失效產(chǎn)品,并可供計算PPM。
穩(wěn)態(tài)壽命試驗是評估器件長期使用失效率的方法,在國軍標GJB548B-2005方法1005中對專用產(chǎn)品的試驗要求做了詳細規(guī)定。另外MIL-PRF-38535規(guī)定,對每種晶圓工藝,從每季度生產(chǎn)的產(chǎn)品中抽取樣品進行至少125℃下進行1 000h或等效條件的測試,失效判據(jù)為45(0),見表1。
一般而言,通過125℃、1 000h試驗的產(chǎn)品可以保證持續(xù)使用4年,通過2 000h試驗的可保證持續(xù)使用8年;通過150℃、1 000h試驗的產(chǎn)品可以保證持續(xù)使用8年,通過2 000h試驗的可保證持續(xù)使用28年。當(dāng)然,這僅僅是對電性能而言,在儲存期較長且非真空包裝的情況下,更多需要考慮的還包括如何防止電路吸潮、引腳銹蝕等。
表1 穩(wěn)態(tài)壽命試驗等效試驗條件表
[1]謝國華. IC產(chǎn)品可靠度簡介[J].電子與材料,2002, 8.
[2]微電子器件試驗方法和程序[R]. GJB548B-2005.
[3]MIL-PRF-38535H. PERFORMANCE SPECIFICATION:INTEGRATED CIRCUITS(MICROCIRCUITS)MANUFACTURING[A]. United States Department of Defense. 2007.