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        MOCVD石墨盤熱可靠性分析

        2012-07-05 08:37:34甘志銀
        科技傳播 2012年3期
        關(guān)鍵詞:三區(qū)熱應(yīng)力加熱器

        沈 橋 ,甘志銀

        1.華中科技大學(xué)機(jī)械科學(xué)與工程學(xué)院,湖北武漢 430074

        2.廣東昭信半導(dǎo)體裝備制造有限公司,廣東佛山 528251

        0 引言

        石墨具備耐高溫,熱膨脹系數(shù)小,熱穩(wěn)定性好,高溫下強(qiáng)度好,易加工等各種優(yōu)點(diǎn),被廣泛運(yùn)用于各種加熱設(shè)備的加熱基座,但石墨材料耐磨損性較差,易產(chǎn)生石墨粉體,在真空下容易釋放吸附氣體,嚴(yán)重制約了石墨是使用,因此高溫真空下使用時(shí),必須對(duì)石墨基材進(jìn)行鍍膜處理。SiC涂層和石墨幾乎不發(fā)生界面反應(yīng),有很好的化學(xué)物理相容性,并且熱膨脹系數(shù)的差距較小(石墨為5E-6(1/K),SiC為3E-6(1/K)),容易在涂層與基體的界面處獲得良好的梯度過(guò)渡,是理想的改善石墨材料耐磨性和抗氧化性的涂層材料[1-3]。SiC涂層具有優(yōu)異的抗氧化性能、高溫力學(xué)性能、耐磨損、耐腐蝕性能以及良好的導(dǎo)熱性能,MOCVD等半導(dǎo)體行業(yè)的石墨盤的表面鍍膜廣泛采用SiC。

        LED產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,MOCVD設(shè)備單爐產(chǎn)量的擴(kuò)大,首先表現(xiàn)為石墨盤的尺寸擴(kuò)大,從而導(dǎo)致高溫下石墨盤破損失效的幾率陡升,MOCVD設(shè)備對(duì)石墨盤的熱穩(wěn)定的要求越來(lái)越高。本文結(jié)合石墨盤破損的實(shí)際例子,通過(guò)模擬仿真論證石墨盤破損的可能性,提出一種熱穩(wěn)定性更好的石墨盤結(jié)構(gòu),對(duì)MOCVD石墨盤的設(shè)計(jì)具有指導(dǎo)意義。

        1 石墨盤失效形式

        石磨盤的CTE約為5E-6(1/K),楊氏模量為11.8GPa,抗拉強(qiáng)度為29 MPa。CVD制備SiC涂層的CTE為3E-6(1/K),楊氏模量為490GPa,抗拉強(qiáng)度為170MPa。由于兩者力學(xué)性能的差異,高溫?zé)崤蛎浀南?,往往是由于SiC涂層先破損,然后導(dǎo)致石墨盤破損。在MOCVD設(shè)備中,石墨盤的失效形式有兩種:SiC涂層產(chǎn)生裂紋和石墨盤破裂。在MOCVD生長(zhǎng)工藝中,一旦SiC涂層破損,即使石墨盤尚未破損,由于石墨顆粒以及石墨吸附的氣體從SiC縫隙中擴(kuò)散到腔體中,污染工藝生長(zhǎng)環(huán)境,極大降低LED薄膜的質(zhì)量。石墨盤破裂則是石墨盤失效的最終形式,這種失效不僅直接導(dǎo)致本次工藝的失敗,而且加熱器熱邊界的突然變化,對(duì)加熱器產(chǎn)生動(dòng)載荷影響加熱器的穩(wěn)定性,石墨盤以及LED襯底(一般為藍(lán)寶石)破損產(chǎn)生的顆粒,對(duì)MOCVD設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行以及設(shè)備的絕緣性產(chǎn)生潛在威脅。

        圖1 裂紋失效

        圖2 破裂失效

        2 石墨盤結(jié)構(gòu)及模擬模型

        廣東昭信半導(dǎo)體裝備制造有限公司成功在國(guó)內(nèi)首先研制出生產(chǎn)型MOCVD(37X2’),具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的BDS 反應(yīng)腔體如圖3所示:

        圖3 BDS 反應(yīng)腔體示意圖

        本文仿真模型里主要包括:腔體壁面、石墨載片臺(tái)、石英支撐、石英整流罩、電阻片、加熱器反射板,并將中心三路入口簡(jiǎn)化為一路,將密集噴淋簡(jiǎn)化為噴淋面整體氣體入口。零件全部為軸對(duì)稱結(jié)構(gòu),且實(shí)際運(yùn)行過(guò)程中具有石墨盤旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),因此采用二維軸對(duì)稱模型計(jì)算。模型結(jié)構(gòu)如圖4 所示。其中石墨盤直徑D=400mm,石墨盤距噴淋高度11mm。

        圖4 幾何模型示意圖

        2.1 加熱器正常下的石墨盤熱應(yīng)力

        GaN的最高生長(zhǎng)溫度一般在1000℃~1100℃,MOCVD正常工作下,石墨盤上表面的徑向溫度分布如圖5,±1K溫差的有效區(qū)域達(dá)到石墨盤面積的88.6%。石墨表面在1000℃~1100℃下通過(guò)CVD工藝蒸鍍一層80μm~120μ m的SiC涂層[4-6],東洋碳素SiC工藝溫度一般為1000℃,模擬仿真時(shí)熱力應(yīng)力參考溫度設(shè)為1000℃[7]。正常工作下的石墨盤最大熱應(yīng)力如圖6,最大應(yīng)力出現(xiàn)在SiC涂層內(nèi),達(dá)到為81.67MPa,遠(yuǎn)小于CVD工藝SiC涂層170MPa的應(yīng)力極限。石墨材質(zhì)的最大熱應(yīng)力為2.77MPa,遠(yuǎn)低于石墨材質(zhì)30MPa的應(yīng)力極限。

        圖6 正常工作下石墨盤最大熱應(yīng)力

        2.2 A、B、C三區(qū)失效對(duì)比

        調(diào)整A、B、C三區(qū)加熱片的功率,分別模擬三區(qū)中某一區(qū)由于特定原因(例如電源故障,PLC控制失效)導(dǎo)致功率密度為零,這種意外情況下的石墨盤應(yīng)力。

        表1 熱應(yīng)力對(duì)比

        B區(qū)功率缺失 101K 8.47 175.6 C區(qū)功率缺失 210K 12.4 236.7

        三區(qū)加熱中,C區(qū)加熱片失效導(dǎo)致石墨盤溫差最大,石墨盤和SiC涂層的熱應(yīng)力也最大,SiC涂層的熱應(yīng)力達(dá)到236.7MPa,遠(yuǎn)大于CVD工藝SiC涂層170MPa的拉伸應(yīng)力極限。A區(qū)加熱片失效導(dǎo)致石墨盤溫差達(dá)到135K,內(nèi)部溫度梯度相對(duì)最小,熱應(yīng)力也最小僅為92.5MPa,沒(méi)有超過(guò)SiC涂層的應(yīng)力極限。B區(qū)電阻片失效,石墨盤溫差最低,但是相對(duì)于A區(qū)加熱片失效,石墨盤內(nèi)部溫度梯度約為A區(qū)加熱片失效的1.5倍~2倍,其熱應(yīng)力也遠(yuǎn)大于A區(qū)失效,SiC涂層最大應(yīng)力達(dá)到175.6MPa。

        2.3 升溫過(guò)程中的熱應(yīng)力

        圖7 加熱器升溫曲線

        MOCVD加熱器通過(guò)PID三區(qū)獨(dú)立控溫,一個(gè)典型的升溫曲線如圖7。可以看到,溫度曲線是收斂的,這說(shuō)明采用PID控制方法,在一定的時(shí)間內(nèi),可以使石墨盤表面的溫度達(dá)到設(shè)定值。另一方面,三區(qū)獨(dú)立控溫造成三區(qū)升溫不同步,某一時(shí)刻的最大溫差可以達(dá)到50℃,最大熱應(yīng)力達(dá)到70MPa左右,雖然沒(méi)有超過(guò)最大允許應(yīng)力,但是在反復(fù)的升降溫過(guò)程中,非常容易導(dǎo)致疲勞損壞,導(dǎo)致石墨盤產(chǎn)生裂紋而失效。

        2.4 石墨盤結(jié)構(gòu)對(duì)熱可靠性的影響

        MOCVD生產(chǎn)廠家中,一般采用如下兩種石墨盤結(jié)構(gòu),第一種以德國(guó)Aixtron和廣東昭信半導(dǎo)體裝備制造有限公司為代表,如圖8,第二種以美國(guó)VECCO為代表,如圖9。分別模擬兩種石墨盤結(jié)構(gòu)在正常溫差±1K情況下和C區(qū)加熱器失效的最大熱應(yīng)力情況下的應(yīng)力分布情況,兩種結(jié)構(gòu)最大外徑200mm,厚度9mm,模擬結(jié)果如表2。

        圖8 U型結(jié)構(gòu)石墨盤

        圖9 平板型結(jié)構(gòu)石墨盤

        比較兩種結(jié)構(gòu),可以看出,無(wú)論是正常溫差下還是最大熱應(yīng)力情況下,平板型結(jié)構(gòu)石墨盤 的熱應(yīng)力明顯小于U型結(jié)構(gòu)石墨盤,平板型結(jié)構(gòu)石墨盤的石墨盤即使在最大熱應(yīng)力情況下,熱應(yīng)力也沒(méi)有超過(guò)材料的應(yīng)力極限。平板型結(jié)構(gòu)石墨盤 的石墨盤在熱可靠性方面明顯由于U型結(jié)構(gòu)石墨盤,這主要是由于U型結(jié)構(gòu)石墨盤的石墨盤有相當(dāng)部分的結(jié)構(gòu)位于側(cè)面,這部分結(jié)構(gòu)的溫度遠(yuǎn)低于石墨盤有效區(qū)域的溫度,從而約束了石墨盤的熱脹冷縮,產(chǎn)生大量熱應(yīng)力。

        表2 兩種結(jié)構(gòu)的熱應(yīng)力對(duì)比

        平板型結(jié)構(gòu) 2K 0.3 9.73

        基于以上分析,平板型結(jié)構(gòu)石墨盤的石墨盤在熱可靠性方面明顯由于U型結(jié)構(gòu)石墨盤 ,下面分析平板型結(jié)構(gòu)石墨盤的兩個(gè)主要參數(shù)厚度h和半徑R對(duì)熱應(yīng)力的影響。

        2.5 石墨盤厚度對(duì)熱可靠性的影響

        假設(shè)石墨盤溫度為最大熱應(yīng)力工況,此時(shí)C區(qū)溫度失效,熱應(yīng)力最大。改變石墨盤的有效厚度,可以看出,石墨盤有效厚度從7mm增加到9mm,熱應(yīng)力從136.3MPa上升到138.6MPa,熱應(yīng)力略有上升,但都未超過(guò)材料的極限熱應(yīng)力。厚度對(duì)石墨盤的熱可靠性影響很小。

        圖10 石墨盤厚度對(duì)熱應(yīng)力的影響

        2.6 石墨盤直徑對(duì)熱可靠性的影響

        假設(shè)石墨盤溫度為最大熱應(yīng)力工況,此時(shí)C區(qū)溫度失效,熱應(yīng)力最大。在保證石墨盤內(nèi)部溫度梯度相同的情況下,改變石墨盤的有效半徑,可以看出,石墨盤有效半徑從150增加到250mm,熱應(yīng)力從118.7MPa迅速上升到166.8MPa,半徑250mm時(shí)都已經(jīng)接近材料的極限熱應(yīng)力。石墨盤半徑對(duì)石墨盤的熱可靠性影響很大,這也印證了隨著MOCVD單爐產(chǎn)量的越來(lái)越大,石墨盤裂紋失效和破損失效越來(lái)越頻繁的發(fā)生。

        3 結(jié)論

        1)概括了MOCVD設(shè)備石墨盤失效的兩種失效方式,即裂紋失效和破損失效;

        2)結(jié)合實(shí)際情況,模擬了正常工況下和三區(qū)中某一區(qū)加熱失效情況下的熱應(yīng)力,從理論上論述了C區(qū)加熱失效最容易導(dǎo)致石墨盤破損;

        3)加熱器三區(qū)獨(dú)立控溫,石墨盤升溫不同步,導(dǎo)致產(chǎn)生較大的熱應(yīng)力,在反復(fù)升降溫的過(guò)程中極易導(dǎo)致疲勞損壞,產(chǎn)生裂紋失效;

        4)對(duì)比兩種主流的石墨盤結(jié)構(gòu),平板型結(jié)構(gòu)石墨盤 在熱可靠性方面明顯優(yōu)于U型結(jié)構(gòu)石墨盤;

        5)分析影響平板型結(jié)構(gòu)石墨盤 熱可靠性的兩個(gè)主要因素,石墨盤的熱應(yīng)力隨著直徑的增大而明顯增大,但是熱應(yīng)力對(duì)石墨盤厚度的變化不敏感。

        圖11 直徑對(duì)熱應(yīng)力的影響

        [1]付志強(qiáng).SiC涂層對(duì)高溫氣冷堆用石墨摩擦磨損性能的影響[J].金屬熱處理,2005,30(9):13-16.

        [2]張玉娣,張長(zhǎng)瑞,劉榮軍,等.C/SiC復(fù)合材料與CVD SiC涂層的結(jié)合性能研究[J].航空材料學(xué)報(bào),2004,24(4):27-29.

        [3]張青,成來(lái)飛,張立同,等.界面相對(duì)3D一C/SIC復(fù)合材料熱膨脹性能的影響[J].航空學(xué)報(bào),2004,25(5):508-512.

        [4]Y.M.Lu,I.C.Leu Microstructural study of residual stress in chemically vapor deposited b-SiC [J].200,124,262-265.

        [5]劉榮軍,張長(zhǎng)瑞,周新貴,曹英斌,劉曉陽(yáng).CVD SiC致密表面涂層制備及表征[J].金屬熱處理,2002(12):3-6.

        [6]劉榮軍,張長(zhǎng)瑞,劉曉陽(yáng),周新貴,曹英斌.CVD過(guò)程中溫度對(duì)SiC涂層沉積速率及組織結(jié)構(gòu)的影響[J].航空材料學(xué)報(bào),2004,24(4):22-26.

        [7]Data in‘Carbon Graphite’.the catalogue of Toyo Tan So Co.

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