黃丹宇
(沈陽職業(yè)技術(shù)學(xué)院,沈陽 110045)
ZnO是一種六方晶系結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體,它具有很寬的禁帶,室溫帶隙為3.37 ev,且束縛激子能高達60 mV,這使它在表面聲波導(dǎo)[1],太陽能電池[2],紫外激光器[4]等方面具有潛在的應(yīng)用價值。ZnO納米線由于表面積巨大,產(chǎn)生了其本體塊狀材料所不具備的表面效應(yīng)、小尺寸效應(yīng)和宏觀量子隧道效應(yīng)等[5]。因此,ZnO納米線在磁、光、電、化學(xué)和物理學(xué)等方面具有無法比擬的特殊性能和新用途[6],成為了眾多領(lǐng)域研究的熱點。半導(dǎo)體一維納米結(jié)構(gòu)體系,其大的表面/體積比能增大對太陽光的吸收能力,而且這些納米結(jié)構(gòu)中的原子具有定向的有序生長,使電子可以在其中做定向運動[7];另外,一維結(jié)構(gòu)還提高了材料的結(jié)晶質(zhì)量,有效減少了其中的缺陷態(tài)密度,使在其中做定向移動的載流子受到散射和被俘獲的幾率降低[8]。一維結(jié)構(gòu)材料既可以作為太陽電池的光吸收層,又可以單獨作為制備太陽電池的材料[9]。因此半導(dǎo)體的納米結(jié)構(gòu)在提高太陽能電池光電轉(zhuǎn)換效率方面被人們寄予厚望[10]。本研究組采用化學(xué)氣象沉積方法分別在硅片表面制備面積垂直排列和非規(guī)則排列ZnO納米線陣列,這些陣列具有非常優(yōu)異的減反射性能,利用這些ZnO納米線陣列設(shè)計和制作了Si基ZnO納米棒陣列光伏電池。
采用兩步法,首先用溶膠甩膜法在p型Si襯底上生長一層氧化鋅納米晶薄膜,然后通過化學(xué)氣相沉積的方法制備了一維ZnO納米結(jié)構(gòu)。室溫下,將二水合乙酸鋅溶解在乙二醇甲醚溶液中,然后加入與Zn2+等摩爾濃度的乙醇胺。在60℃條件下形成Zn2+濃度0.7 mol.L-1的透明、均一的溶膠。將制得的膠體旋涂與Si基底上,放入360℃高溫爐中,在空氣中加熱30 min取出。由此得到ZnO納米晶薄膜。ZnO納米棒的制備在在高溫管式爐中進行。
將生長在p-Si襯底上的ZnO納米幫樣品放入勻膠機在ZnO納米線薄膜上旋涂光刻膠,以填充ZnO納米線之間的空隙,嚴格控制膠的粘度及甩膠的轉(zhuǎn)速,以使光刻膠涂層的厚度與納米線的高度相當,進而在經(jīng)過150℃的堅膜后,用真空鍍膜機在PVA薄膜上蒸鍍Au做上電極,在Si上蒸鍍Al做背電極。
圖1是不同反應(yīng)溫度下所得到的ZnO納米結(jié)構(gòu)的SEM形貌。從圖1(a)和圖我們可以看到樣品表面為Zn0微米柱+納米針的復(fù)合結(jié)構(gòu)。圖1(b)樣品表面開始生成大面積的納米線結(jié)構(gòu),納米線的直徑和長度也相對變大,其直徑大約在40-50 nm。圖1(c)是我們得到定向的Zn0納米棒結(jié)構(gòu)。端呈現(xiàn)的正六邊形結(jié)構(gòu),并且垂直于襯底。圖2(d)是在不同形貌下得到的ZnO納米結(jié)構(gòu)的XRD譜圖。圖中只出現(xiàn)了典型的纖鋅礦Zn0的峰譜,表明制備得到的Zn0為典型的六角纖鋅礦結(jié)構(gòu)。說明在上述兩種條件下得到的樣品都具有沿(002)擇優(yōu)取向并且高度垂直于襯底的特點。隨著溫度的升高,樣品的衍射峰相對強度逐漸增加,也就是說樣品的結(jié)晶程度逐漸隨生長溫度的升高而增加。分別將圖1三種形貌的ZnO納米結(jié)構(gòu)的樣品定義為樣品A、樣品B和樣品C。
圖1 不同生長溫度下ZnO納米結(jié)構(gòu)SEM和對應(yīng)的XRD圖譜
圖2為不同ZnO納米形貌下器件的暗電流曲線??梢钥闯?,在沒有光照時,器件呈現(xiàn)出了好的整流特性??梢钥闯鰣D1(c)形貌下的器件表現(xiàn)出較好的整流特性,在正向電壓為1V的時電流為0.189mA,反向電壓為-1V時,電流為4.6×10-4mA。
圖3為器件在光照下的J-V曲線圖,從圖中可知樣C表現(xiàn)出最好的光伏特性。由圖可以得到樣品C的開路電壓VOC為0.78V,短路JSC電流為6.22 mA/cm2。對應(yīng)的填充因子為45%,光伏器件的效率為2.6%??梢钥闯銎骷男阅芘c納米棒尺寸,排列取向有關(guān),樣品a,b的納米結(jié)構(gòu)取向雜亂,沒有按照同一方向規(guī)則排列。這會降低其電導(dǎo)和遷移率。這種光伏器件的光電性能與載流子遷移率,電荷傳輸性能有很大關(guān)系。而電荷傳輸能力的高低與納米材料的排列結(jié)構(gòu)關(guān)系密切。制備出規(guī)則有序排列的ZnO一維納米陣列結(jié)構(gòu)材料有利于載流子輸運和光伏器件光電轉(zhuǎn)換能力的提高。
因為ZnO和Si的禁帶寬度分別為3.37eV和1.1eV,在ZnO與Si的接觸區(qū)形成不對稱的能帶結(jié)構(gòu),產(chǎn)生大的能帶勢壘。所以在ZnO結(jié)這一側(cè)電子的擴散和與空穴的復(fù)合變得困難。所以在Si表面定向生長寬禁帶半導(dǎo)體納米陣列可以在結(jié)區(qū)減少漏電流的產(chǎn)生。當光照射器件的表面時,若光子的能量大于Si的能隙而小于ZnO的能隙時,則在Si的一側(cè),價帶上的電子吸收光子能量后,被激發(fā)到導(dǎo)帶,產(chǎn)生光生電子和空穴。在ZnO/Si異質(zhì)結(jié)勢壘區(qū)產(chǎn)生的光生電子和空穴,在異質(zhì)結(jié)電場作用下被分離到ZnO一側(cè)和Si的體內(nèi),距離異質(zhì)結(jié)邊界幾個擴散長度范圍內(nèi)的光生載流子,當它們擴散到異質(zhì)結(jié)邊界時,在異質(zhì)結(jié)電場作用下,也被勢壘電場所分離。這兩種運動的結(jié)果在ZnO /Si異質(zhì)結(jié)兩邊形成光生載流的積累,從而產(chǎn)生光電壓。
圖2 暗態(tài)下樣品 I–V特性曲線;
圖3 光照下樣品的J–V 特性曲線
圖4 ZnO納米線陣列與原始硅片的反射光譜對比
圖4是Si兩種不同形貌ZnO納米結(jié)構(gòu)與原始硅片反射光譜的對比,在200-900nm波長范圍內(nèi),樣品C平均反射率約為5%,樣品B平均反射率約為8%,均大大優(yōu)于普通拋光硅片大于25%的平均反射率。樣品B減反射性能略低于樣品C的原因可能在于測試時入射光是垂直硅片表面人射的,相對于垂直陣列,不規(guī)則納米結(jié)構(gòu)頂部區(qū)域會使得更多的光被反射出去。
采用化學(xué)氣相沉積的方法在p型硅片表面制備出垂直排列和不規(guī)則排列的ZnO納米線陣列,并在此基礎(chǔ)上制備n-ZnO納米線/p-Si光伏器件。試驗測得性能最好的器件的開路電壓VOC為0.78V,短路JSC電流為6.22 mA/cm2,效率為2.6%。同時,一維結(jié)構(gòu)的ZnO納米陣列具有非常優(yōu)異的減反射性能,利用這些ZnO納米線陣列設(shè)計和制作了新型異質(zhì)結(jié)納米陣列太陽電池,其在200-900nm波長范圍內(nèi),反射率約為5%。遠低于原始Si片25%的反射率。
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