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        碳納米涂層材料的二次電子發(fā)射系數(shù)及工藝研究

        2012-04-12 00:00:00楊晶崔萬(wàn)照賀永寧
        現(xiàn)代電子技術(shù) 2012年20期

        摘要:采用電泳沉積制備薄膜的方法,在鋁合金鍍銀片上均勻的涂覆納米碳涂層。研究了不同的電泳電壓及電泳時(shí)間對(duì)涂層形貌結(jié)構(gòu)的影響。掃描電子顯微鏡(SEM)、二次電子發(fā)射系數(shù)(SEY)測(cè)試結(jié)果表明,保持陰陽(yáng)極間距為1cm,在30 V的直流電壓下電泳15min所獲得的樣片涂層均勻、連續(xù)、致密且具有明顯的陷阱結(jié)構(gòu)。實(shí)驗(yàn)表明,其SEY最大值σmax 達(dá)到2.03,對(duì)應(yīng)的入射能量為500eV,E1能量點(diǎn)在60eV。使用Ar離子轟擊清洗表面10min后,樣片的SEY最大值σmax 達(dá)到1.76,對(duì)應(yīng)的入射能量Emax為400 eV,E1能量點(diǎn)在80 eV。

        關(guān)鍵詞:納米碳涂層; 電泳沉積; 薄膜; 二次電子發(fā)射; SEY

        中圖分類號(hào):TN710-34文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A

        文章編號(hào):1004-373X(2012)20-0143-03

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