周雅文 提供

專利信息

周雅文 提供

Patent Information

太陽能電池基板的清洗方法和設(shè)備

Method and apparatus for cleaning substrates for solar cells：韓KR2010088202 [專]/ EM Power Ltd., S（Lim, Jong Hyeon; Jung, Yeong Cheol; Yoo, Yeong Jong; Kim, Yeong Gyun.）－2010.08.09. －9頁.－KR2009-7252（20090130）

本專利涉及用于制備太陽能電池板的薄片材料的清洗。包含以用于儲存臭氧水的水箱和一個控制薄片在水箱中保持水平的夾子。薄片能水平對齊并被清洗液洗滌。

交通工具清洗方法和裝置

Method and apparatus for cleaning vehicles：美US20100071717 [專]/ R. Lewis Technologies, Inc.（Lenhart, John G.）－2010.03.25. －15頁.－US2007-953461（20071210）

本專利提供一種洗車的方法和裝置。清潔方法包括用人工電磁輻射照射外表面。外表面污垢含多環(huán)芳香族碳?xì)浠衔?，至少有一些是化學(xué)結(jié)合到一起的。此方法將用人工電磁輻射的方法打開污垢的化學(xué)鍵，人工電磁輻射有預(yù)先設(shè)置的電磁波長，其能量足夠打開那些化學(xué)鍵。該方法還包括其他車輛的清洗。

改進(jìn)的清洗方法和裝置

An improved cleaning method and apparatus for use with the method：新西蘭NZ579091[專]/ Rolling Stone Cleaning Co Limited,（Clark, Graeme Henry.）－2010.02.26.－NZ2009-579091（20090814）

本專利涉及一種液體噴霧機(jī)清洗基板方法及裝置。步驟包括液體噴霧機(jī)與液體供應(yīng)的連接、噴霧器出口靈活的羊毛套筒接頭、將液體通過噴霧機(jī)出口噴射到基板上。

鋁網(wǎng)清洗裝置和方法

Method and apparatus for cleaning aluminum web：日J(rèn)P2010052939 [專]/ Fujifilm Cor.（Yamamoto, Takashi.）－2010.03.11.－11頁.－

JP2008-222815（20080829）

本專利提供鋁網(wǎng)清洗技術(shù)，鋁網(wǎng)通過彈性材料或金屬材料形成的輸送輥支撐。輥從上下兩面支撐鋁網(wǎng)。清洗液被供應(yīng)到一個輸送輥的表面，或在輥和鋁網(wǎng)間形成清洗液池。

洗衣店處理設(shè)備

Laundry treatment machine：韓KR2012026376 [專]/ LG Electronics, Inc.（Lim, Min Gyu; Kim, Ji Maeng）－2012.03.19.－KR2010-88556（20100909）

本專利洗衣店處理設(shè)備包含一個給水閥組件。給水閥組件包含閥組合件和給水閥，進(jìn)水管引入口，送水到洗滌劑盒的出口管道口，和連接進(jìn)水管口與出水管口的長連接管。長連接管當(dāng)干擾閥組合件或出口管口時(shí)一定間隔可以隔離開使用。長連接管很容易插入和拔出而且制造簡單。

基于延長表面活性劑鏈長降低堿性的洗衣房用洗滌劑

Reduced caustic laundry detergents based on extended chain surfactants：美WO2012036703 [專]/ Ecolab USA Inc.（Man, Victor Fuk-Pong; Denoma, Michael Charles; Killeen, Yvonne Marie; Lentsch, Steven Eugene）－2012.03.22.－66頁.－WO2010-US49338 （20100917）

本發(fā)明專利涉及表面活性劑和洗滌劑組分的協(xié)同作用。在某些程度上代表一個表面活性劑系統(tǒng)，其中包括增長烷基鏈的陰離子表面活性劑，表面活性劑連接基團(tuán)和多電荷陽離子的組成部分。該系統(tǒng)形成乳狀液，可消除油膩和油性污漬，甚至除去由非反式脂肪酸組成的污垢。另一個特點(diǎn)是陰離子表面活性劑與溶劑和氧化胺相結(jié)合可除去防曬污漬。該配方可以單獨(dú)使用，也可以作為其他預(yù)處理劑或作為軟或硬表面處理添加劑使用。

清潔牙刷的方法和裝置

Method and apparatus for cleaning a toothbrush：美US20120042906 [專]/ Meerzoumen, Raya.－2012.02.23－6頁.－US2010-806794（20100823）

本發(fā)明提供的方法和裝置用于容易有效地清潔牙刷。刷牙是睡前人們從事復(fù)雜或技術(shù)活動時(shí)做不愿意做的事情。因此，消費(fèi)者需要非繁瑣的簡易方法清洗牙刷。本創(chuàng)造性的發(fā)明方法包括一放置清洗液的噴霧瓶用于清洗牙刷。這個方法簡單易行，并可以方便地調(diào)整為最佳角度或牙刷清潔所需的強(qiáng)度。盡管它很簡單但它是講究的，因?yàn)樗捎脩糁苯涌刂疲虼丝梢杂捎脩魟討B(tài)調(diào)整牙刷的朝向、氣味、或在給定時(shí)刻的感覺。

W/O乳液型漂白液體洗滌劑

Water-in-oil-type emulsion liquid bleaching detergents：日J(rèn)P4732166 [專]/ Kao Corp. （Maki, Masataka; Tase, Yuichiro; Ishizuka, Hitoshi; Yamaguchi, Nobuyoshi.）－2011.07.27－16頁.－JP2005-379146 （20051228）

本專利涉及一種液體洗滌劑，含（a）過氧化氫或產(chǎn)生過氧化氫的化合物，（b）0.1-10 %的漂白活化劑，（c）45-80 %的非離子表面活性劑，（d）水，（e）硼酸、硼砂、硼酸鹽中至少一個化合物，（f）多元醇化合物，使溶液20o時(shí)pH值在4 -7。本專利還涉及一種含過氧化氫的液體漂白洗滌劑，其W/O乳液液滴均勻地分散在表面活性劑形成的連續(xù)相里。

基板表面清洗方法和裝置

Method and apparatus for cleaning substrate surface：日J(rèn)P2012044082 [專]/ Seiko Epson Corp.（Inoue, Hiroyuki）－2012.03.01－14頁.－JP2010-185844（20100823）

本專利方法涉及在含氫氟酸的清洗液中浸泡基板底物，并將基板傳送到下一階段，其中在清洗和轉(zhuǎn)移過程中，空間區(qū)域的相對濕度大于 60%和小于100%。該方法可以防止待清洗的表面在此空間內(nèi)干燥，因此可以均勻分散清洗液和便于清潔表面。

清洗質(zhì)譜儀離子源表面的方法和裝置

Method and apparatus for cleaning surface of ion source of mass spectrometer：英WO2012017190 [專]/ Kratos Analytical Limited. (Allison, John).－2012.02.09－45頁.－WO2011-GB1139（20110728）

本發(fā)明涉及清洗質(zhì)譜儀離子源表面的方法和裝置，例如基質(zhì)輔助激光解吸電離離子源。該方法包括釋放UV 光到材料表面以解吸污染物。UV光源可以是一種激光和移動的反射表面，它可以直接將光反射到表面上。

碳化硅半導(dǎo)體的清洗方法和裝置

Method and apparatus for cleaning silicon carbide semiconductors：日J(rèn)P2012004272 [專]/ Sumitomo Electric Industries, Ltd. (Miyazaki, Tomihito; Wada, Keiji; Hiyoshi, Toru.).－2012.01.05－18頁.－JP2010-136869（20100616）

本專利技術(shù)設(shè)計(jì)用形成氧化物層清洗碳化硅半導(dǎo)體，例如用氧等離子體然后用鹵素或氫等離子體清除氧化層。該裝置的執(zhí)行過程包括形成氧化層的部分和除去氧化層部分。此裝置可以將半導(dǎo)體表面清理干凈。

用浸在里面的洗滌液清洗孔的方法和裝置

Method and apparatus for cleaning holed works by their immersion in cleaning liquids：日J(rèn)P2012000598[專]/ Hitachi Plant Technologies Co., Ltd. (Masaki, H.; Sahara, T.; Tsumaki, N.). －2012.01.05－12頁.－JP2010-140228（20100621）

本專利涉及用保留在孔中液體清洗孔的工作。該專利使用密封罐中清洗液，罐抽真空用于除去液體中的空氣，罐通過一種在水中溶解度比空氣小的氣體加壓，例如氫氣，真空和加壓步驟不斷重復(fù)操作以取代孔中的空氣。清洗孔裝置包括密封罐、真空泵和使氣體進(jìn)入密封罐的設(shè)備?？變?nèi)剩余的空氣通過幾乎不溶氣體加壓很容易除去。

一種清洗方法和裝置

Method and apparatus for cleaning：日J(rèn)P2011243762[專]/ Shibaura Mechatronics Corporation. (Koyama, H.; Abe, M.; Hirose, H..). －2011.12.01－15頁.－JP2010-114945 （20100519）

本專利涉及一種清洗如半導(dǎo)體板的方法，包括形成溶解一定氣體的洗滌液，將待洗物浸入洗滌液中，蒸發(fā)溶解氣體以形成氣泡。同時(shí)，專利還涉及如何使用設(shè)備。

液體洗滌劑配方

Liquid detergent composition：韓KR2011123982 [專]/ Aekyung Industrial Co., Ltd., S. (Cho, In Sik; Ku, Hyeong Seo; Nam, Gi Cheon; Yoo, Gyeong Min.). －2011.11.16－11頁.－KR2010-43498（20100510）

本專利提供一液體洗滌劑配方，其配方包含非離子表面活化劑R1-O-(EO)x-H(R1 = C10-16線性或支鏈烷基或烯基; EO =乙氧基；x=5-20個乙氧基數(shù)目)，脂肪酸鹽和陽離子聚合物。此洗滌劑具有對各種各樣污染物有較高的清潔能力，具有易漂洗的特征和在低溫下的良好穩(wěn)定性，適用于滾筒式洗衣機(jī)用洗滌劑。

含螯合酸的堿性洗盤機(jī)用洗滌劑

Caustic dishwashing detergents containing chelating acids：美WO2011138719 [專]/ Ecolab USA Inc. (Miralles, Altony.).－2011.11.10.－49頁.－WO2011-IB51910（20110429）

本專利提供一個用于清洗洗盤機(jī)用的洗滌劑和漂洗溶液配方。洗滌劑包括堿金屬的氫氧化物、緩蝕劑和表面活性劑。洗滌劑包括不大于1%堿性金屬的碳酸鹽。沖洗液包括水和螯合酸。

洗碗機(jī)和紡織洗燙用定量洗衣粉盒

dishwashing and textile laundering process using dosing cartridge：德WO2011138165[專]/ Henkel AG & Co. KGaA, (Nitsch, Christian; Bastigkeit, Thorsten; Sendor-Mueller, Dorota; Eiting, Thomas; Kessler, Arnd; Benda, Konstantin.). －2011.11.10.－53頁.－WO2011-EP56231（20110419）

本專利提供一個洗碗機(jī)和紡織洗燙用定量洗衣粉盒和洗滌劑組分。其組分含（a）填料；(b)氧漂白劑。一典型的清潔劑配方含EDDS 0-20wt.%，磷酸鹽0.5-20wt.%，碳酸鹽或碳酸氫鹽 0-20wt.%，堿性氫氧化物0-22 wt.%，陰離子聚合物0-30 wt.%，水30-80 wt.%和其他添加劑。

可溶性鋰鹽、鋁鹽和硅酸鹽在餐具洗滌劑中作為玻璃腐蝕抑制劑的應(yīng)用

Use of soluble lithium salts, aluminum salts, and silicate salts as a glass etching inhibitors in dishwashing detergents：美WO2011138720 [專]/ Ecolab USA Inc. (Miralles, Altony.). －2011.11.10.－44頁.－WO2011-IB51913（20110429）

本專利提供餐具洗滌劑配方含酒精、腐蝕抑制劑和任意清洗劑。玻璃腐蝕抑制劑為鋰鹽、鋁鹽和硅酸鹽中的至少一種。洗滌劑的pH至少為8。

帶磨料顆粒的液體洗滌劑

Liquid detergent composition with abrasive particles：美EP2431451 [專]/ The Procter & Gamble Company（Perez-Prat Vinuesa, Eva Maria; Gonzales, Denis Alfred; Asmanidou, Anna; Fernandez Prieto, Susana）－2012.03.21－32頁.－EP2011-178626（20110824）

本發(fā)明涉及一種洗碗機(jī)配方，含磨料顆粒和懸浮助劑，其懸浮助劑選自蠟結(jié)晶、纖維素微纖絲、氨基凝膠劑、二芐基多羥基二乙醇衍生物的一種或混合物。另外，本發(fā)明設(shè)計(jì)其加工方法和使用。

對干尿漬具有強(qiáng)去污力的馬桶清潔洗滌劑

Detergents for toilet bowl cleaning with high detergency against dried urine stains：日J(rèn)P2011225762 [專]/ Lion Corp. (Nakazawa, Kaoru; Yajima, Kazumi.). －2011.11.10.－11頁.－JP2010-98542（20100422）

本專利提供的洗滌劑p H為6.5-7.5，包括(a) 兩性表面活性劑R1CONHR2N+R3R4(R5COO-) [R1= C8-20線性或分支的烷基（烯基）; R2= C1-5線性或分支的亞烷基; R3、R4= H， C1-3線性或分支的烷基; R5= C1-5線性或分支的亞烷基，或者R6R7N+ (R8COO-) [R6= C8-18線性或分支的烷基（烯基）; R7= C1-4線性或分支的烷基（烯基）; R8= C1-6線性或分支的(羥)亞烷基] 0.3-3%;(b)乙醇15-25%；(c)乙二胺四乙酸(鹽) 0.7-2.2%和 (d) 適量MgSO4。因此，洗滌劑配方包括Enagicol L 30B(月桂基酰胺丙基甜菜堿)，乙醇和Dissolvine Z (乙二胺四乙酸)和適量的硫酸鎂，洗滌劑酸堿度為7.0。

對金屬顆粒有良好清洗效果的磁盤基片洗滌劑

Detergents for magnetic disk substrates showing good cleaning effect on metal ion-derived particles：日J(rèn)P2011227984 [專]/ Sanyo Chemical Industries, Ltd. (Tanioka, Hiroaki; Suzuki, Kazumichi; Terakawa, Yasuko). －2011.11.10.－18頁.－JP2011-78612（20110331）

本專利洗滌劑對基體有適當(dāng)?shù)奈g刻作用但不會降低表面平滑性，其組成包含(A)羥基羧酸；(B) 除A之外螯合劑并對Fe (III)離子具有令人滿意的螯合穩(wěn)定效果；(C) 烷醇酰胺。洗滌劑包含陰離子或者陰離子/非離子表面活性劑，并且可以清洗磁盤基板。此洗滌劑具有高效清洗效率并避免微粒的再沉淀。