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        使用光刻法在金剛石臺面制備金屬薄膜電極①

        2012-01-24 12:33:00趙慶娟
        超硬材料工程 2012年2期
        關(guān)鍵詞:光刻臺面引線

        趙慶娟

        (青島雙瑞海洋環(huán)境工程股份有限公司,山東青島266101)

        壓力是獨(dú)立于溫度、組分之外調(diào)節(jié)材料性能的一個(gè)重要熱力學(xué)參數(shù),其顯著效應(yīng)表現(xiàn)為引起材料發(fā)生空間群和對稱性改變的晶體結(jié)構(gòu)相變,誘發(fā)材料發(fā)生從絕緣性或半導(dǎo)性到金屬性導(dǎo)電行為的電子學(xué)相變,使常壓下的非超導(dǎo)材料在足夠高的壓力下呈現(xiàn)超導(dǎo)電性。圖1是金剛石對頂砧[1,2,3]及其核心部分示意圖。給兩顆同軸對頂?shù)慕饎偸┮暂S向的作用力,相互擠壓中間的金屬封墊(Gasket),金屬封墊的中央有一個(gè)圓孔作為填充樣品和傳壓介質(zhì)的樣品室,通過測量紅寶石(Ruby)的熒光峰在壓力下的移動來標(biāo)定樣品室中的壓力。在電測量實(shí)驗(yàn)中,金屬封墊的表面要預(yù)壓一層絕緣材料在金屬封墊和金屬電極之間實(shí)現(xiàn)電絕緣。實(shí)驗(yàn)室常用的金屬封墊材料有不銹鋼,鎢(W),錸(Re)等硬度較高的金屬;常用的絕緣材料有立方氮化硼(c BN),氧化鎂(MgO),氧化鋁(Al2O3),以及金剛石等的高硬度粉末,確保不降低金屬封墊的硬度。得到的復(fù)合封墊(絕緣層/金屬)充分結(jié)合了金屬的高塑性變形性能和絕緣層的高硬度性能,可以承受極高的流體靜力學(xué)壓力,滿足不同的實(shí)驗(yàn)需求。圖2是在不銹鋼(型號SUS 301S)封墊表面預(yù)壓立方氮化硼絕緣層得到的復(fù)合封墊,所用的金剛石臺面直徑是800微米,臺面尺寸越小,可以產(chǎn)生的壓力極限越高。

        圖1 金剛石對頂砧及其核心部件示意圖Fig.1 Photograph of diamond anvil cell

        超導(dǎo)電性由于其巨大的應(yīng)用前景,一直是凝聚態(tài)物理領(lǐng)域和材料領(lǐng)域的一個(gè)研究熱點(diǎn)。超導(dǎo)材料的一個(gè)顯著特征是在臨界溫度以下電阻為零,高壓作用可以引起材料的能帶展寬,能隙變窄甚至閉合,增強(qiáng)材料的導(dǎo)電性,所以高壓條件下測量材料電阻率的溫度曲線是發(fā)現(xiàn)新型超導(dǎo)材料的一個(gè)重要技術(shù)手段。實(shí)驗(yàn)室通常采用四引線法測量高壓條件下材料電阻率的溫度曲線,如圖2所示,圖中的四個(gè)電極是用厚度為5微米的鉑金箔裁剪而成的,其中兩根較寬的電極用以給樣品通電流,中間兩根較細(xì)的電極用以測量電流引起的樣品中的電壓降,四個(gè)電極通過金屬導(dǎo)線和儀表連接。材料的電阻通過公式R=V/I得到,電阻率通過公式ρ=(R×A)/L得到,其中A是垂直于電流方向的樣品橫截面積,L是兩根電壓探針之間的樣品長度。

        圖2 復(fù)合絕緣封墊(立方氮化硼/SUS 310S)上制備的四引線電極Fig.2 Electrodes in four-probe configuration compacted on the insulating gasket(cBN/SUS 310S)

        圖2所示的電極構(gòu)造僅適用于采用固體傳壓介質(zhì)的實(shí)驗(yàn)方案,在采用液體或氣體傳壓介質(zhì)的實(shí)驗(yàn)方案中,需采用不同構(gòu)造的電極。如圖3所示,該四引線電極是用光刻法結(jié)合真空電弧等離子槍沉積在金剛石臺面上的鉑金薄膜電極,在金剛石臺面的中心位置,兩邊的兩根探針用以給樣品通電流,中間的兩根探針用以測量電流引起的樣品中的電壓降。該電極構(gòu)造還可用于測量薄膜樣品在高壓條件下的電阻率。同樣,光刻法還可以制備銅、銀、金等導(dǎo)電性良好的薄膜電極。制備過程中,通常先在金剛石臺面沉積一層鈦(Ti)膜作為過渡層,然后在鈦膜的表層沉積銅、銀、金、鉑等金屬薄膜。制備得到的金屬薄膜電極與金剛石臺面附著力較強(qiáng),硬度較高,可以承受很高的流體靜力學(xué)壓力而不致被損壞。

        圖3 光刻法在金剛石臺面制備的四引線電極Fig.3 Electrodes in four-probe configuration fabricated on the diamond culet by photolithography

        圖4 光刻法工藝流程Fig.4 The technological process of photolithography

        圖4是在(Al2O3/SUS 310S)復(fù)合絕緣封墊上制備的四引線電極,電極材料是厚度5微米的鉑金箔。所用的金剛石臺面直徑是500微米,直徑260微米的中心圓孔是樣品室,用于填充傳壓介質(zhì),封墊厚度(等于樣品室高度)為70微米。圖3中金剛石臺面上四根電極的扇形端部和圖4中的四根電極一一對應(yīng),互相搭接,加壓后可以實(shí)現(xiàn)良好的電接觸,從而和外部的儀表形成連接。

        圖5 復(fù)合絕緣封墊(Al2 O3/SUS 310S)上制備的四引線電極Fig.5 Electrodes in four-probe configuration compacted on the insulating gasket(Al2O3/SUS 310S)

        圖6是樣品室中填充液態(tài)氫傳壓介質(zhì)之后,加熱到室溫并加壓到20 GPa(1 GPa=1萬大氣壓)的情形,液態(tài)氫發(fā)生固化,形成透明的固態(tài)氫。由于氫的高壓縮率,壓力下樣品室直徑發(fā)生收縮。

        圖6 室溫20 GPa條件下樣品室中發(fā)生固化的液態(tài)氫Fig.6 Solidified H2 at room temperature and 20GPa

        [1] Bassett W A.Diamond anvil cell,50thbirthday[J].High Pressure Research,2009,29(2):163.

        [2] Mc Millan P F.Chemistry at high pressure[J].Chem.Soc.Rev.,2006,35:855.

        [3] Jayaraman A.Diamond anvil cell and high-pressure physical investigations[J].Rev.Mod.Phys.,1983,55(1):65.

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