方 磊,緒 梅,韓志勇
(1.防化學(xué)院,北京 102205;2.93501部隊(duì),北京 101114)
HEMP環(huán)境下屏蔽箱體對(duì)貫通導(dǎo)線(xiàn)感應(yīng)電流的影響
方 磊1,緒 梅1,韓志勇2
(1.防化學(xué)院,北京 102205;2.93501部隊(duì),北京 101114)
屏蔽箱體上的貫通導(dǎo)線(xiàn)可以使箱體內(nèi)部電路上的HEMP感應(yīng)電流顯著增加,研究表明這是由HEMP直接與導(dǎo)線(xiàn)及其周?chē)鷮?dǎo)體耦合作用的結(jié)果,輻射耦合對(duì)其影響很小。此研究對(duì)電子裝備的設(shè)計(jì)和安裝有一定的指導(dǎo)意義。
高空核電磁脈沖;導(dǎo)線(xiàn);耦合;屏蔽;感應(yīng)電流
隨著微電子技術(shù)的快速發(fā)展,很多電路、電子、電器元件的工作頻率不斷提高,而工作電壓卻逐漸降低,因此電子設(shè)備對(duì)電磁脈沖(EMP)的敏感性和易損性也不斷增加。高空核電磁脈沖(HEMP)具有場(chǎng)強(qiáng)高、頻譜寬、作用范圍廣等特點(diǎn),對(duì)破壞計(jì)算機(jī)、無(wú)線(xiàn)電設(shè)備和雷達(dá)的部件、組件及電子、電器元件有著相當(dāng)高的效能。故研究HEMP對(duì)電子設(shè)備的干擾、破壞機(jī)理,并在此基礎(chǔ)上研究有效的防護(hù)方法尤為重要。
很多電子設(shè)備外都有箱體對(duì)其屏蔽,然而箱體內(nèi)的電子設(shè)備經(jīng)常需要和外部資源(如電源,天線(xiàn),打印機(jī)等)進(jìn)行信息傳遞,均需要導(dǎo)線(xiàn)對(duì)屏蔽箱體的不接觸貫穿來(lái)完成。這樣,HEMP可以通過(guò)對(duì)貫通導(dǎo)線(xiàn)的直接耦合,將能量傳遞到屏蔽箱體內(nèi)的電子設(shè)備,屏蔽箱體對(duì)貫通導(dǎo)線(xiàn)感應(yīng)電流的影響自然便是人們關(guān)注的焦點(diǎn)。然而目前,中國(guó)雖然在HEMP對(duì)線(xiàn)纜效應(yīng)的研究方面有眾多成果,但對(duì)貫通導(dǎo)線(xiàn)及其終端負(fù)載感應(yīng)電流的研究很少涉及。文獻(xiàn)[1]運(yùn)用時(shí)域有限差分(FDTD)方法研究了HEMP環(huán)境下屏蔽機(jī)箱上的貫通導(dǎo)線(xiàn),結(jié)果表明,機(jī)箱內(nèi)與貫通導(dǎo)線(xiàn)直接相連或不相連電路上的HEMP耦合電流顯著增強(qiáng),其認(rèn)為這是由于屏蔽機(jī)箱外殼產(chǎn)生的散射場(chǎng)與貫通導(dǎo)線(xiàn)耦合作用的結(jié)果。筆者在實(shí)驗(yàn)中發(fā)現(xiàn),屏蔽機(jī)箱外殼產(chǎn)生的散射場(chǎng)對(duì)貫通導(dǎo)線(xiàn)感應(yīng)電流的影響很小,HEMP直接與導(dǎo)線(xiàn)及其周?chē)鷮?dǎo)體耦合作用是機(jī)箱內(nèi)電路上的HEMP耦合電流顯著增強(qiáng)的主要原因。
簡(jiǎn)化的計(jì)算模型如圖1所示,本文抽象地使用外露集總元件R1代表箱體外部相連電路的阻抗,內(nèi)部集總元件R2代表內(nèi)部電路的阻抗,求解R2上電流的時(shí)域波形,以此研究屏蔽箱體對(duì)貫通導(dǎo)線(xiàn)感應(yīng)電流的影響,具體設(shè)置如下。
屏蔽箱體的結(jié)構(gòu)尺寸:a×b×c,本文中取a=b=c=60 mm;
導(dǎo)線(xiàn)和屏蔽箱體的材料:PEC(所以電磁波不會(huì)通過(guò)屏蔽層進(jìn)入箱體內(nèi)部);
HEMP的波形:E(t)=1.3×5×104×(e-4×107t-e-6×108t),V/m;
孔縫的幾何中心位于屏蔽箱體上表面的正中央,其尺寸為10 mm×4 mm;
圖1 簡(jiǎn)化的計(jì)算模型
電阻的阻值:R1=R2=50Ω;屏蔽箱體外的導(dǎo)線(xiàn)長(zhǎng)度為P0P1;屏蔽箱體內(nèi)的導(dǎo)線(xiàn)長(zhǎng)度為P2P3;屏蔽箱體的厚度為P1P2=2 mm;導(dǎo)線(xiàn)的半徑為r=0.5 mm。
在有些情況下,內(nèi)部電路電阻R2直接與箱體接觸,即圖1中的P3點(diǎn)在箱體上(P2P3=56 mm)。圖2給出了入射HEMP電場(chǎng)方向與導(dǎo)線(xiàn)軸向(Z軸)平行,導(dǎo)線(xiàn)取不同設(shè)置情況下,R2上感應(yīng)電流的時(shí)域波形。
1)對(duì)比圖2a)和圖2c)可知,HEMP通過(guò)貫通導(dǎo)線(xiàn)將更多的能量耦合到屏蔽箱體內(nèi),而且感應(yīng)電流高達(dá)數(shù)百毫安,對(duì)后續(xù)電路構(gòu)成嚴(yán)重的威脅。
2)對(duì)比圖2b)和圖2c)可知,由于屏蔽箱體的存在,使得更多的電磁能量被耦合到導(dǎo)線(xiàn)上。表明屏蔽箱體能夠收集電磁能量,影響周?chē)碾娐贰?/p>
3)對(duì)比圖2c)和圖2d)可知,即使切斷了線(xiàn)纜的連接,聚集在箱體外導(dǎo)體上的大量能量仍可以通過(guò)輻射傳導(dǎo)的途徑進(jìn)入箱體內(nèi)部電路。
4)由圖2e)和圖2f)可以看出,R2上的電流峰值與貫通導(dǎo)線(xiàn)的外露長(zhǎng)度基本成線(xiàn)性正比關(guān)系。
圖2 入射電場(chǎng)方向與導(dǎo)線(xiàn)軸向平行時(shí)箱體內(nèi)電路上的感應(yīng)電流
改變?nèi)肷銱EMP的入射方向,圖3給出了脈沖沿-Z方向入射,電場(chǎng)極化方向與孔縫的短邊平行,P0P3全段存在,P0P1=20 mm時(shí),R2上感應(yīng)電流的時(shí)域波形。圖3中的計(jì)算結(jié)果與文獻(xiàn)[2]基本一致,說(shuō)明在平面波電場(chǎng)與導(dǎo)線(xiàn)垂直時(shí),通過(guò)貫通導(dǎo)線(xiàn)耦合的能量相對(duì)較小。
由文獻(xiàn)[3]可知,當(dāng)電磁脈沖垂直于開(kāi)口平面入射時(shí),耦合進(jìn)箱體內(nèi)的電磁脈沖場(chǎng)最強(qiáng)。因此可以說(shuō)明在本文的案例中,HEMP通過(guò)孔縫直接耦合到箱體內(nèi)部的能量對(duì)R2上感應(yīng)電流的影響很小,這是由于本案例模型中通過(guò)孔縫耦合進(jìn)入箱體的電場(chǎng)在導(dǎo)線(xiàn)軸向的分量很少。
當(dāng)內(nèi)部電路R2不與箱體接觸時(shí),這里以P2P3=55 mm,P0P1=20 mm為例。圖4給出了在入射HEMP電場(chǎng)方向與導(dǎo)線(xiàn)軸向平行情況下,R2上感應(yīng)電流的時(shí)域波形。
對(duì)比圖2a)和圖4a)、圖2c)和圖4b)可知,在本文案例中內(nèi)部電路與箱體接觸時(shí)電路上的感應(yīng)電流是不接觸時(shí)的3~4倍。因此,屏蔽箱體收集到的電磁能量主要是通過(guò)傳導(dǎo)耦合進(jìn)入屏蔽箱體內(nèi)部電路的。
由上述實(shí)驗(yàn)可知:當(dāng)導(dǎo)線(xiàn)與周?chē)膶?dǎo)體相接觸時(shí),周?chē)鷮?dǎo)體收集到的電磁能量便可傳遞到導(dǎo)線(xiàn),使得導(dǎo)線(xiàn)上的感應(yīng)電流大大增加。圖5給出了入射HEMP電場(chǎng)方向與導(dǎo)線(xiàn)軸向平行時(shí),長(zhǎng)度為80 mm的導(dǎo)線(xiàn)與不同面積的導(dǎo)體板連接時(shí)導(dǎo)線(xiàn)上感應(yīng)電流的時(shí)域波形。對(duì)比圖2b)、圖5a)、圖5b)進(jìn)一步證明了上述結(jié)論的正確性,同時(shí)也說(shuō)明導(dǎo)體面積越大,導(dǎo)線(xiàn)上的感應(yīng)電流就越大。
圖3 入射電場(chǎng)方向與導(dǎo)線(xiàn)軸向垂直時(shí)箱體內(nèi)電路上的感應(yīng)電流
圖4 內(nèi)部電路與箱體不接觸時(shí)箱體內(nèi)電路上的感應(yīng)電流
圖5 導(dǎo)線(xiàn)與導(dǎo)體板直接接觸時(shí)的感應(yīng)電流
屏蔽箱體上的貫通導(dǎo)線(xiàn)可以將箱體外的HEMP能量耦合到箱體內(nèi)部電路,并產(chǎn)生較大的感應(yīng)電流,對(duì)其構(gòu)成嚴(yán)重的威脅,通過(guò)本文的實(shí)驗(yàn)研究表明該感應(yīng)電流主要受以下幾個(gè)因素的影響:1)貫穿導(dǎo)線(xiàn)暴露在箱體外部分的長(zhǎng)度越長(zhǎng),感應(yīng)電流越大;2)入射HEMP沿貫通導(dǎo)線(xiàn)軸向的電場(chǎng)分量越大,感應(yīng)電流越大;3)導(dǎo)線(xiàn)與其周?chē)膶?dǎo)體相連接會(huì)大大增加其感應(yīng)電流,相連接的導(dǎo)體面積越大,感應(yīng)電流越大。
根據(jù)對(duì)上述耦合特性的分析,HEMP環(huán)境下帶有貫通導(dǎo)線(xiàn)的屏蔽箱體可以采取以下防護(hù)措施:1)掐斷電磁能量的傳輸途徑,這里主要是傳導(dǎo)耦合。盡量減少電磁敏感設(shè)備與外界連接的導(dǎo)線(xiàn),避免其與各種導(dǎo)體的接觸,縮短暴露在外的導(dǎo)線(xiàn)的長(zhǎng)度;2)箱體內(nèi)部的導(dǎo)線(xiàn)要盡量沿著垂直于箱體上孔縫平面的方向布線(xiàn);3)盡量減小屏蔽箱體的表面積,以及其他的一些防護(hù)措施,譬如接地、濾波等。
[1] 余同彬,周璧華.貫通導(dǎo)線(xiàn)對(duì)屏蔽機(jī)箱內(nèi)電路 HEMP耦合電流的影響[J].電波科學(xué)學(xué)報(bào),2002,17(5):481-484.
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TM15
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1008-1542(2011)07-0153-04
2011-06-20;責(zé)任編輯:李 穆
方 磊(1987-),男,湖北隨州人,碩士研究生,主要從事電磁脈沖的效應(yīng)和防護(hù)方面的研究。