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        晶體半波電壓測(cè)量方法

        2011-07-23 00:35:04朱文營(yíng)王輝林
        關(guān)鍵詞:效應(yīng)

        朱文營(yíng),王輝林

        (山東理工大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院,山東淄博255091)

        當(dāng)給晶體加上電場(chǎng)后,該晶體的折射率會(huì)發(fā)生改變,這種現(xiàn)象稱為電光效應(yīng)[1].電光效應(yīng)可分為兩種類型:線性電光效應(yīng)和二級(jí)電光效應(yīng).大多數(shù)的晶體二級(jí)電光效應(yīng)與線性電光效應(yīng)相比不是很明顯,所以本文主要研究LN晶體的線性電光效應(yīng).線性電光效應(yīng)的測(cè)量方法很多,包括極值法、模擬通信法、倍頻法等.在倍頻法的測(cè)量中,由于調(diào)制信號(hào)幅度的大小影響測(cè)量的精度,所以確定調(diào)制幅度的大小是其中一個(gè)重要的環(huán)節(jié).本文利用仿真實(shí)驗(yàn)確定調(diào)制幅度的大小,進(jìn)而利用鎖相環(huán)確定頻率的準(zhǔn)確值,以期提高測(cè)量精度.

        1 電光效應(yīng)的基本原理

        1.1 晶體的折射率橢球

        在各向異性介質(zhì)中,光波中的電場(chǎng)強(qiáng)度矢量E與電位移矢量D的方向是不同的.在任意的空間直角坐標(biāo)系中,E和D之間的關(guān)系可以寫成

        光波在晶體中的傳播性質(zhì)可以用一個(gè)折射率橢球來描述,在晶體的主軸坐標(biāo)系中,折射率橢球的表達(dá)式為

        其中,ni==x,y,z)是晶體的主折射率.

        對(duì)于單軸晶體(如本實(shí)驗(yàn)所用的LN晶體)有:nx=ny=n0,nz=ne,于是單軸晶體折射率橢球方程為

        由此看出,單軸晶體的折射率橢球是一個(gè)旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的橢球.

        1.2 LN晶體的線性電光效應(yīng)

        以上討論的是沒有外界影響時(shí)的折射率橢球,也就是晶體的自然雙折射.當(dāng)晶體處在一個(gè)外加電場(chǎng)中時(shí),晶體的折射率會(huì)發(fā)生變化,改變量的表達(dá)式為

        式中:n是受外場(chǎng)作用時(shí)晶體的折射率;n0是自然狀態(tài)下晶體的折射率;E是外加電場(chǎng)強(qiáng)度;γ和p是與物質(zhì)有關(guān)的常數(shù).(3)式右邊第1項(xiàng)表示的是線性電光效應(yīng),又稱為普克爾效應(yīng),因此γ叫做線性電光系數(shù);第2項(xiàng)表示的是二次電光效應(yīng),又稱為克爾效應(yīng),因此p也叫做二次電光系數(shù).本實(shí)驗(yàn)只涉及到線性電光效應(yīng).

        晶體的線性電光系數(shù)γ是一個(gè)三階張量,受晶體對(duì)稱性的影響,LN晶體的線性電光系數(shù)矩陣為

        可以看出,獨(dú)立的電光系數(shù)只有γ13、γ22、γ33和γ51四個(gè).由于γ的存在,晶體在外電場(chǎng)E的作用下其折射率橢球會(huì)發(fā)生形變.可以推出,對(duì)于LN晶體,在平行于y軸方向加電場(chǎng)后,選擇圖1所示的坐標(biāo)變換,其折射率橢球的方程變?yōu)?/p>

        在這里由于γ51Ey?1,γ22Ey?1,所以θ≈0.說明LN晶體在y軸方向加上電場(chǎng)時(shí),感應(yīng)主軸系的方向與原主軸系基本相同.

        上述結(jié)果表明,在LN晶體的y軸方向上加電場(chǎng)時(shí),原來的單軸晶體變成了雙軸晶體,折射率橢球在x'y'平面上的截線由原來的圓變成了橢圓,橢圓的短軸x'(或y')與x軸(或y軸)平行,感應(yīng)主軸的長(zhǎng)短與Ey的大小有關(guān),這就顯示了晶體的線性電光效應(yīng).

        圖1 加橫向電場(chǎng)后,LN晶體折射率主軸的變化

        2 電光調(diào)制的基本原理

        本實(shí)驗(yàn)的LN晶體電光調(diào)制以線性電光效應(yīng)為理論基礎(chǔ),組成了橫向電光調(diào)制.LN晶體橫向電光調(diào)制器的結(jié)構(gòu)如圖2所示.圖2中L為激光器,A、P為偏振片,D為探測(cè)器.

        圖2 橫向電光調(diào)制器

        圖2中,z軸為光的傳播方向,y軸加調(diào)制電壓.由于電場(chǎng)的作用,晶體的原主軸會(huì)發(fā)生一定的旋轉(zhuǎn),產(chǎn)生感應(yīng)主軸z'、x'和y',其中根據(jù)感應(yīng)主軸x'和y'的主折射率分別可推導(dǎo)出如下表達(dá)式:

        起偏器P的偏振面與晶體的感應(yīng)主軸x'和y'成45°,檢偏器A的偏振面與起偏器垂直.激光經(jīng)過起偏器首先變?yōu)榫€偏振光,其振動(dòng)矢量分別在感應(yīng)主軸x'和y'上分解成等幅的兩個(gè)振動(dòng)分量,即Ex'(0)=Ey'(0)=A.所對(duì)應(yīng)的輸入光強(qiáng)為

        由于感應(yīng)主軸x'和y'的折射率不同,當(dāng)激光由晶體出射時(shí)兩個(gè)分量會(huì)有一定的相位差,此相位差可表示為

        式中:λ為激光的波長(zhǎng);l為晶體的通光長(zhǎng)度;d為晶體在y方向的厚度;V是外加電壓,且V=Eyd,φ=時(shí)所對(duì)應(yīng)的V為半波電壓.于是可得

        由于此相位差,兩個(gè)分量變?yōu)?/p>

        再經(jīng)過檢偏器之后,兩分量重新合成,其合矢量為

        所對(duì)應(yīng)的輸出光強(qiáng)為

        以Io/Ii表示調(diào)制光強(qiáng),于是調(diào)制器的透過率為

        當(dāng)Io/Ii=1,即V=Vπ時(shí)所對(duì)應(yīng)的偏壓稱為半波電壓,于是(12)式可重新表示為

        3 測(cè)量方法

        圖3為電光效應(yīng)儀的面板圖,在半波電壓的測(cè)量中,使用了面板②的直流輸出端,其量程為630V,光電探測(cè)器的輸出接至面板④的光電輸入端,且開關(guān)指向光功率.實(shí)驗(yàn)中所用的是硅探測(cè)器,它的光生開路電壓較小時(shí),輸入光強(qiáng)與開路電壓之間近似成線性關(guān)系[4].實(shí)驗(yàn)所用的激光源是波長(zhǎng)為633nm的He-Ne激光器,晶體厚度d=5.76mm,晶體長(zhǎng)度L=25.10mm,n0=2.286,γ22=3.4pm/V,由(8)式可得半波電壓理論值Vπ=569V.整體裝置測(cè)試框圖如圖4所示.

        3.1 極值法測(cè)量

        由(7)式可知,當(dāng)輸入直流電壓V=Vπ時(shí),透過率最大,所以只要不斷增加輸入電壓,觀測(cè)光電探測(cè)器的輸出值,將會(huì)出現(xiàn)極小值和極大值,相鄰極小值和極大值對(duì)應(yīng)的直流電壓之差即是半波電壓[5].

        當(dāng)晶體所加的電壓為半波電壓時(shí),光波出射晶體時(shí)相對(duì)于入射光產(chǎn)生的相位差為π,而偏轉(zhuǎn)方向旋轉(zhuǎn)了/2.起偏器和檢偏器間的角度理論上可以取任意值,但是為了測(cè)量方便,一般采取兩種關(guān)系:正交和平行.假設(shè)開始時(shí)兩者正交,當(dāng)電壓為0時(shí),通過檢偏器的光強(qiáng)最小,電壓逐漸增大,相位差逐漸增大,檢偏器的輸出光強(qiáng)也增大;當(dāng)光強(qiáng)最大時(shí),通過檢偏器的光偏振方向旋轉(zhuǎn)了π/2,則此時(shí)的電壓就是半波電壓,即半波電壓為光強(qiáng)最大時(shí)的電壓.反之,若開始時(shí)兩者平行,則半波電壓為光強(qiáng)最小時(shí)的電壓.

        圖3 電光效應(yīng)儀面板圖

        圖4 整體裝置測(cè)試框圖

        圖5是間隔為10V時(shí)所測(cè)得的調(diào)制電壓與透射率的關(guān)系曲線,所測(cè)得的半波電壓為580V.

        圖5 調(diào)制電壓與透射率的關(guān)系

        由圖5可知,對(duì)于不同的偏置電壓點(diǎn),相同的電壓變化量對(duì)光強(qiáng)將產(chǎn)生不同的變化.因此,要達(dá)到線性調(diào)制,必須選擇合適的偏置電壓和調(diào)制幅度.實(shí)驗(yàn)曲線上零偏置電壓點(diǎn)處的光強(qiáng)不為0,而是相對(duì)于理論曲線發(fā)生偏移,一般是晶體自身生長(zhǎng)不均勻,入射光通過時(shí)光路改變?cè)斐傻默F(xiàn)象[6].

        3.2 倍頻法測(cè)量

        由式(13)可知,當(dāng)Vo=0,且Vm?Vπ時(shí),(13)式變?yōu)?/p>

        頻率變成了輸入信號(hào)的倍頻.

        圖6 Vo=0時(shí)的頻譜圖

        當(dāng)Vo=且Vm?時(shí),(13)式又可變?yōu)?/p>

        圖7 Vo=Vπ時(shí)的頻譜圖

        同理可以得出,Vm≤181.21時(shí)無其它倍頻干擾信號(hào).因此,通過檢測(cè)兩次倍頻時(shí)Vo的差值就可以知道半波電壓的大?。?/p>

        本實(shí)驗(yàn)中使用鎖相環(huán)放大器讀取調(diào)制信號(hào)與倍頻信號(hào)的頻率,所以比用示波器觀測(cè)的準(zhǔn)確度要高.實(shí)際測(cè)得的半波電壓為564V.

        4 結(jié)束語

        由于極值法是采用單通道測(cè)量系統(tǒng),且直接測(cè)量,因此光源的不穩(wěn)定性影響較大,所以誤差較大[7],為此可以把間隔調(diào)的較小些.但由此法可以明顯看出輸入輸出的關(guān)系,比較直觀.

        倍頻法中通過電壓調(diào)制光強(qiáng)變化的頻率,所以光源的不穩(wěn)定性不會(huì)影響測(cè)量結(jié)果.此外只要控制調(diào)制信號(hào)的幅值不超過所限定的最大值,由高次諧波帶來的誤差也可以忽略不計(jì).本文使用數(shù)字頻率計(jì)來比較調(diào)制信號(hào)和倍頻信號(hào)的頻率,可使測(cè)量結(jié)果更精確.

        上述的電光調(diào)制技術(shù)廣泛地應(yīng)用于光通信中,采用這種調(diào)制方法有利于使用集成光路技術(shù)制造集成光發(fā)射機(jī),在未來的高速率、大容量的光纖通信中具有廣闊的發(fā)展前景[8].此外,電光調(diào)制技術(shù)還可以做成電光Q開關(guān)調(diào)制器,這種開關(guān)具有時(shí)間短,效率高的特點(diǎn),輸出的脈寬也極窄.

        [1] 孫鑒,牟海維,劉世清,等.電光調(diào)制實(shí)驗(yàn)中半波電壓的測(cè)量[J] .光電子技術(shù),2007,27(3):212-215.

        [2] 卿秀華,張日峯.電光調(diào)制實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)[J] .武漢科技學(xué)院學(xué)報(bào),2007,22(9):36-38.

        [3] 竇慶萍.一種新的電光系數(shù)的測(cè)量方法研究[J] .甘肅聯(lián)合大學(xué)學(xué)報(bào):自然科學(xué)版,2008,22(4):49-53.

        [4] 張國(guó)林,邵長(zhǎng)金,孫為.晶體電光調(diào)制實(shí)驗(yàn)中半波電壓的測(cè)定[J] .實(shí)驗(yàn)技術(shù)與管理,2003,20(2):102-105.

        [5] 孫鑒,牟海維,劉世清,等.電光調(diào)制中半波電壓測(cè)量方法的研究[J] .大學(xué)物理,2008,27(10):40-43.

        [6] 郭明磊,韓新風(fēng),章毛連.電光調(diào)制晶體半波電壓倍頻測(cè)量方法的討論[J] .應(yīng)用光學(xué),2010,31(1):105-109.

        [7] 雷玉堂.光電檢測(cè)技術(shù)[M] .北京:中國(guó)計(jì)量出版社,2009.

        [8] 李莉,齊曉慧,劉秉琦,等.晶體電光調(diào)制實(shí)驗(yàn)?zāi)M激光通信[J] .實(shí)驗(yàn)室科學(xué),2009(5):73-76.

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