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        YG8硬質(zhì)合金表面的C+V雙離子注入研究

        2011-03-14 06:48:28王世興熊碧軍田修波楊士勤
        關(guān)鍵詞:離子注入硬質(zhì)合金因數(shù)

        王世興,熊碧軍,李 聰,田修波,楊士勤

        (1.哈爾濱工業(yè)大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,150001哈爾濱,sxwang@yeah.net; 2.深圳航天科技創(chuàng)新研究院,518057深圳;3.哈爾濱工業(yè)大學(xué)深圳研究生院,518055深圳)

        硬質(zhì)合金以其優(yōu)良的物理機(jī)械性能而廣泛應(yīng)用于制造刀具、刃具、模具、采掘工具等工程領(lǐng)域,但在一些較為極端的應(yīng)用條件下也顯示了其耐腐蝕性能較差、易磨損以及壽命短的缺點,所以其表面增強改性一直是重要的研究內(nèi)容.目前多采用硬質(zhì)涂層來提高其用壽命,但涂層與基體間附著力較差,涂層容易脫落(脫落后的涂層成為磨料反而會加速磨損),離子注入技術(shù)則可以很好地解決這個問題[1].離子注入技術(shù)就是將幾萬至幾十萬電子伏特的高能離子注入到材料表面,注入?yún)^(qū)與基體結(jié)合牢固(無明顯界面),使材料表面的物理、化學(xué)和機(jī)械性能發(fā)生變化,且材料表面能保持原有尺寸精度,是表面改性的重要手段之一.本文選取目前廣泛應(yīng)用于制造刀具的YG8牌號硬質(zhì)合金為試樣,研究其表面在應(yīng)用MEVVA源進(jìn)行C+V雙離子注入后的結(jié)構(gòu)與性能表現(xiàn),可為增強硬質(zhì)合金的進(jìn)一步工業(yè)化應(yīng)用提供理論和實驗支持.

        1 實驗方法

        表1 試樣編號

        購買的YG8硬質(zhì)合金(成分為92%WC+ 8%Co)尺寸為4.8 mm×16 mm×16 mm,試樣機(jī)械拋光至鏡面.試樣放入真空室之前先在無水乙醇中進(jìn)行超聲清洗30 min,除去油污等雜質(zhì),然后用電吹風(fēng)吹干,將其固定在試樣架上.

        離子注入實驗是在哈爾濱工業(yè)大學(xué)自行研制的DHJ-800型多功能等離子體處理平臺機(jī)上進(jìn)行的,采用核工業(yè)西南物理研究所研發(fā)的金屬蒸汽真空弧離子源(MEVVA源).先將真空室真空度抽到1.5×10-2Pa以下,然后預(yù)熱金屬離子源,之后進(jìn)行注入實驗.由于注入過程本身具有清潔表面的作用,因此試樣不需要先濺射清洗,可直接進(jìn)行離子注入.引出束流的大小是與MEVVA源的引出電壓、電弧電壓、引出結(jié)構(gòu)以及陰極材料等有關(guān)[2],參數(shù)為:引出電壓40 kV,引出束流5 mA,抑制電壓2 kV,電弧電壓60 V,觸發(fā)電壓6 kV.

        WC-Co類硬質(zhì)合金的機(jī)械性能不僅取決于各相的性能及體積比,而且也取決于這種材料的表面態(tài).本文工藝是先注C,再注入V,劑量比為m(C)∶m(V)=1∶1,注入試樣編號如表1所示.在表面改性層中可以形成VC相,因為在硬質(zhì)合金刀具、模具服役過程中,一般會有升溫現(xiàn)象,溫度升高容易使晶粒長大而使性能變差,有研究表明[3]VC對于有效抑制WC顆粒長大、細(xì)化晶粒有著顯著的效果.

        2 結(jié)構(gòu)表征與分析

        2.1 金相觀察

        為了直觀觀察C+V雙離子注入對材料表面金相形貌的影響,對各試樣照了金相圖,放大1 750倍.

        如圖1所示,圖1(a)為硬質(zhì)合金基體在無注入情況下的表面形貌,圖1(b)~(d)為C+V雙離子注入試樣的表面形貌,它們有較為明顯的區(qū)別.可以看到,基體表面有一些清晰明顯的諸如溝渠、毛刺等加工痕跡,那是在拋光過程中產(chǎn)生的.小劑量的注入時,試樣的表面還可以看到一些劃痕,但隨著注入劑量的增加而逐漸消失,表面出現(xiàn)了很多均勻分布的小黑斑點,并且顏色逐漸變深,一定程度上反映了注入痕跡.分析其形成過程為:離子注入的2次拋光效果使得原先的加工痕跡消失;表面的小黑斑點是注入產(chǎn)生的新相析出,隨著注入劑量的增大而顯著增多.

        圖1 試樣的金相圖(放大1 750倍)

        2.2 X射線衍射(XRD)分析

        通過Rigaku 2500型X射線衍射儀,研究離子注入后表面相結(jié)構(gòu)的變化.為了排除基體的衍射信號干擾,從而得到更多的表面注入層信息,本文用小角度掠射模式進(jìn)行掃描(考慮到離子注入層較薄),掠射角為0.6°.由于離子注入劑量越大,其新相衍射信號強度越高,因此取最大劑量的注入試樣進(jìn)行了XRD測試.

        由圖2可以看到,C+V雙注入后出現(xiàn)了一些新相,一方面表現(xiàn)為原來峰位的強度相對基體有一定程度增大,這是新相出現(xiàn)在原來基體相上疊加的結(jié)果,另一方面還出現(xiàn)了若干新峰.

        圖2 試樣的XRD圖

        石墨相的峰形并不明顯且與其他物相有疊加,其具體存在形式還可通過后面的拉曼光譜做進(jìn)一步的分析.石墨相的出現(xiàn)一方面是注C引起,另一方面也與表面“富碳”現(xiàn)象相關(guān),其形成與注入過程中離子束真空碳化效應(yīng)[4]有關(guān).由于離子注入的真空系統(tǒng)使用機(jī)械泵和油擴(kuò)散泵,樣品室的真空度又較低,抽真空時油分子很容易對試樣表面造成污染,形成一層“油膜”,注入過程中在高能離子作用下使油分子分解而造成C原子的析出,隨后又被高能離子攜帶打入到試樣表層.

        注入試樣表面還產(chǎn)生了一些V的碳化物和氧化物,主要為V7O3和VC.在V離子注人過程中,由于反沖碰撞和級聯(lián)過程,吸附在試樣表面的氧原子被帶入到表層晶格中,此外表面還有先前所注的碳以及表面“富碳”現(xiàn)象的發(fā)生,遂形成了V的氧化物和碳化物(V與O、C有一定的親和力).

        2.3 拉曼(RAMAN)光譜分析

        為了分析C+V離子注入能否在硬質(zhì)合金表面形成類金剛石(DLC)成分,本文在Renishaw in Via Reflex型拉曼光譜分析儀上做了檢測,激發(fā)波長采用514 nm,掃描范圍1 000~2 000 cm-1.拉曼光譜是無損表征技術(shù),是表征碳材料結(jié)構(gòu)的有效手段.典型DLC結(jié)構(gòu)的特征拉曼峰一般表現(xiàn)出2個寬峰:D(Disorder)峰和G(Graphite)峰,它們的中心分別位于1 300~1 400 cm-1和1 550~1 600 cm-1間,D峰對應(yīng)于無序的細(xì)小的石墨結(jié)構(gòu),而G峰對應(yīng)于層片團(tuán)簇結(jié)構(gòu).通常D峰不明顯,常常呈現(xiàn)為一個肩峰,而寬峰則是由于非晶結(jié)構(gòu)所致[5].

        如圖3所示,發(fā)現(xiàn)3#試樣(C+V雙離子注入)、4#試樣(C離子單注入)呈現(xiàn)了DLC結(jié)構(gòu)的拉曼光譜特征,而硬質(zhì)合金本身則沒有任何相關(guān)D峰、G峰的痕跡出現(xiàn).4#試樣在 1 000~1 800 cm-1區(qū)間有一不對稱地寬峰,事實上它是由波數(shù)為 1 395 cm-1附近的 D峰和波數(shù)1 580 cm-1附近的G峰組合構(gòu)成,只是這2個峰的信號不是很強.由此可以看出,通過MEVVA源注入C離子到硬質(zhì)合金表面可生成石墨相,也可以形成金剛石相,即出現(xiàn)了類金剛石結(jié)構(gòu).對于3#試樣,譜峰的不對稱性提高,D峰和G峰相對4#試樣而言明顯了很多,搜集到DLC結(jié)構(gòu)的信號更強.

        圖3 試樣的拉曼光譜圖

        DLC結(jié)構(gòu)分析可以體現(xiàn)原子的成鍵情況,以及sp3與sp2比例的研究,這是因為sp3與sp2的比例很大程度上決定了類金剛石結(jié)構(gòu)的特征.根據(jù)Yamamoto等[6-8]關(guān)于類金剛石薄膜的研究結(jié)論,薄膜的sp2與sp3含量比直接等于D峰與G峰的強度之比,即:C(sp2)/C(sp3)=ID/IG,從而可計算出不同試樣中 sp3的含量,sp3的含量越高(即ID/IG的值越低)則金剛石成分的比例越高.本文對4#試樣、3#試樣的Raman圖譜先扣除背底,然后采用雙高斯線形對其拉曼光譜進(jìn)行分峰擬合,得到分離后的G、D兩峰形狀數(shù)據(jù),包括峰中心位置、半高寬和面積,再計算G峰與D峰的強度之比ID/IG,以此表征DLC的結(jié)構(gòu)、sp3的濃度、有序度的變化等,定性說明材料表面sp3的相對含量,具體擬合數(shù)值如表2所示.

        Robertson等[9]曾經(jīng)研究得出,G峰的半高寬可以作為石墨無序化程度的判斷標(biāo)準(zhǔn),其半高寬將隨無序化程度的減弱而減少.相比4#試樣,3#試樣的G峰半高寬相對變窄,而且ID/IG呈明顯下降趨勢,這二者的變化趨勢是一致的,由此可知C+V雙離子注入后的sp3鍵含量得到了明顯提升.此外,3#試樣的G峰位置相對4#試樣升高了,F(xiàn)errari[10]曾定義了一個非晶化軌道模型,范圍從石墨到a-C(或金剛石),這個非晶化軌道包括3個階段,本文的試樣情況應(yīng)該正處于這個模型的第3階段,即G峰位置隨sp3含量的增加而上移.因此認(rèn)為,V的注入導(dǎo)致的表面“富碳”現(xiàn)象使得更多C團(tuán)聚以金剛石相的形式出現(xiàn),V的出現(xiàn)對sp3鍵的形成起到了積極促進(jìn)的作用.

        3 性能測試與討論

        3.1 硬度測試分析

        本文采用HVS-1000型顯微硬度計測量維氏硬度.將試樣表面用酒精擦拭干凈,載荷采用0.025 kg,載荷持續(xù)時間為15 s,所測試樣的硬度分別為:1 674 HV(0#)、2 146 HV(1#)、2 242 HV (2#)、2 262 HV(3#)、2 090 HV(4#).由于壓頭壓入材料表面的深度一般超過1 μm,大于注入改性層厚度(約200 nm),硬度計壓頭不可避免要進(jìn)入基體中,故測得硬度值實際上是改性層硬度和基體硬度值的綜合反映,注入改性層的實際硬度應(yīng)高于此測量值.

        可以看出,4#碳離子注入后的硬質(zhì)合金表面硬度就有明顯的提高,當(dāng)然這是在注入劑量相對較大的情況下.而在C+V雙離子注入情況下,即使注入劑量很小,也能使得硬度得到較大的提升,對于本身硬度就很高的硬質(zhì)合金來說,效果已經(jīng)非常明顯了;但隨著注入劑量的增加,硬度的提高幅度并不是很明顯.

        一方面,試樣表面硬度的提升源于sp3鍵的形成,這將有助于增強其力學(xué)性能;另一方面,C+V雙注入還導(dǎo)致有VC化合物在基體表面中彌散析出,提高了表面硬度;此外,在硬質(zhì)合金基體的粉末冶金制造過程中,加入VC還可以有效抑制WC顆粒的長大,在細(xì)化晶粒方面效果顯著[11].一個注入離子從進(jìn)入基體表面到其被阻止運動而靜止,經(jīng)歷的時間大概是10-11s,全過程很象是發(fā)生在長約0.10 μm和直徑為0.02 μm的圓柱材料中的快速加熱和淬火,其速度比激光脈沖還要快100倍[12],在這個過程里很可能發(fā)生WC晶粒被分裂細(xì)化成更小的晶粒,而新生成的VC則阻止了新生WC晶粒的長大,由此使得表面硬度得以提升.

        3.2 摩擦磨損性能測試

        摩擦磨損試驗是在哈爾濱工業(yè)大學(xué)自行研制的QP-1型球-盤摩擦磨損試驗機(jī)上進(jìn)行的,采取轉(zhuǎn)速100 r/min,載荷0.05 kg,摩擦因數(shù)隨時間變化曲線如圖4所示.可以看出,基體的摩擦因數(shù)曲線“噪聲”很大,這是因為基體表面不是絕對的光滑,有很多微觀的凸凹不平的區(qū)域,這在金相顯微鏡觀測里是有體現(xiàn)的.類似于用鋼球在鋸齒上面滑動,鋼球會上下震動,加上硬質(zhì)合金的硬度很高,即使是長時間的摩擦還是不能磨去凸起物而穩(wěn)定的滑動.經(jīng)過離子注入之后,試樣的摩擦因數(shù)相對于基體都有明顯降低,而且曲線的“噪聲”明顯減小,曲線變得纖細(xì).這種現(xiàn)象說明離子注入后,材料表面形貌會發(fā)生變化,而這種變化是良性的.

        圖4 試樣的摩擦因數(shù)隨時間變化曲線圖

        C+V雙離子注入后的硬質(zhì)合金表面摩擦因數(shù)都有大幅下降,而且小劑量的雙離子注入就可以明顯改善,比單離子C注入的降低幅度更大.增強表面摩擦磨損性能可從2方面考慮:1)以表面低摩擦因數(shù)獲得低磨損率;2)通過材料表面強化降低磨損,從而提高耐磨性[13].由XRD、RAMAN光譜分析可知,離子注入后的硬質(zhì)合金表面有DLC結(jié)構(gòu)出現(xiàn),這無疑會降低其摩擦因數(shù),表現(xiàn)為潤滑作用[14];此外,C+V注入硬質(zhì)合金后,還產(chǎn)生了V的碳化物以及氧化物等硬質(zhì)相,產(chǎn)生彌散析出強化效果,這種結(jié)構(gòu)致密并且縫合在注入層中的化合物相,對降低材料表面的摩擦因數(shù),提高耐磨性是十分有益的.

        3.3 電化學(xué)腐蝕性能測試

        試樣的耐腐蝕性能測試在Reference 600 Electrochemical Analyzer電化學(xué)綜合測試系統(tǒng)上完成的,采用三電極系統(tǒng),被測試樣為工作電極,飽和甘汞電極(SCE)作為參比電極,鉑電極作為輔助電極(即對電極),腐蝕液為3.5%的NaCl溶液.

        表3 試樣的腐蝕電流、腐蝕電位以及腐蝕速率

        可以看出,相對基體,4#碳單離子注入試樣的腐蝕電位反而有所降低,但腐蝕電流和腐蝕速率也都有降低;C+V雙離子注入對于降低腐蝕的效果顯然要比4#試樣要更好一些,在腐蝕電流、腐蝕電位、腐蝕速率方面都得到了很大的改善.分析原因,C+V雙離子注入后在試樣表面產(chǎn)生很多化合物以及穩(wěn)定的單質(zhì),這些性質(zhì)較穩(wěn)定物質(zhì)的存在可以填充硬質(zhì)合金表面的微觀孔隙,相對致密的表面可以阻礙腐蝕的進(jìn)行,大大降低腐蝕速率[15].對于C+V雙離子注入,隨著注入劑量的增加,盡管其腐蝕速率、腐蝕電流逐漸增大,但其腐蝕電位卻逐漸提高(即發(fā)生腐蝕的門檻在逐漸提高),似乎存在著某種平衡制約關(guān)系.總體上,雙注入試樣的防腐蝕能力要明顯優(yōu)于硬質(zhì)合金基體以及4#單注入的情況.在實際應(yīng)用中,如果單純?yōu)榱颂岣哂操|(zhì)合金表面的防腐蝕性能,從綜合角度來考慮,采用2#試樣技術(shù)方案得到的防腐蝕效果是最佳的.

        4 結(jié)論

        1)金相觀察不僅反映了注入前后材料表面金相形貌的改變,一定程度上也體現(xiàn)了注入的痕跡;小角掠射XRD顯示,注入后出現(xiàn)了C的石墨相,也發(fā)現(xiàn)了V的碳化物和氧化物等新相;通過Raman光譜分析,并經(jīng)過D峰、G峰的分峰擬合,表明了C+V雙注入積極促進(jìn)了類金剛石結(jié)構(gòu)的形成.

        2)性能測試表明,利用MEVVA源在硬質(zhì)合金基體表面進(jìn)行C+V雙離子注入后,能顯著增強其表面硬度,降低表面摩擦因數(shù),提高其防腐蝕能力.

        3)C+V雙離子注入后,試樣表面性能的改善是各種因素的綜合作用結(jié)果,不僅受到了新相生成的影響,而且也與注入本身的機(jī)制(如注入元素、微結(jié)構(gòu)變化等情況)有關(guān).

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