摘 要:采用營養(yǎng)液培養(yǎng)的方法,研究了不同光照條件下NO3脅迫對黃瓜幼苗生長、光合色素含量和光合作用的影響。結(jié)果表明,NO3脅迫處理抑制了黃瓜幼苗的生長、增加了光合色素的含量、降低了凈光合速率(Pn)和氣孔導(dǎo)度(Gs)。與高光照相比,低光照下幼苗生長抑制程度、凈光合速率和氣孔導(dǎo)度下降程度減輕,而光合色素的增加量升高。低光照在一定程度上可以減輕硝酸鹽脅迫對黃瓜幼苗造成的傷害。
關(guān)鍵詞:NO3脅迫;光照;黃瓜;光合作用;葉綠素
中圖分類號:S642.201 文獻標(biāo)識號:A 文章編號:1001—4942(2010)09—0022—04
設(shè)施栽培具有半封閉性的特點,土壤缺少雨水淋洗,并且長期處于高度集約化、高復(fù)種指數(shù)、高肥料施用量的生產(chǎn)狀態(tài)下,極易導(dǎo)致土壤次生鹽漬化,造成鹽離子與營養(yǎng)元素的比例發(fā)生變化,進一步影響植物正常的生理代謝,導(dǎo)致植物生長量下降。
在冬春季日光溫室黃瓜生產(chǎn)中,由于設(shè)施覆蓋物、骨架結(jié)構(gòu)遮陰以及冬春季節(jié)常有雨、雪連陰天氣(有時連陰天達20多天),及地理位置因素等使得設(shè)施內(nèi)的作物常處于弱光環(huán)境下生長,弱光環(huán)境已成為限制設(shè)施栽培發(fā)展的主要問題之一。
目前有關(guān)鹽脅迫與光照影響植株生長的研究已有很多報道,但多是單因素研究,對鹽脅迫與光照兩個因子同時作用的研究報道很少,且鹽脅迫多以Nacl處理為條件,而設(shè)施次生鹽漬土的鹽分組成特點和濱海、內(nèi)陸鹽土不同,其陰離子主要是NO3,陽離子則以Ca2+為主。本試驗以我國北方日光溫室主栽蔬菜作物黃瓜為研究對象,將硝酸鹽脅迫與光照結(jié)合起來研究其對設(shè)施黃瓜幼苗生理生化特性的影響,以期為設(shè)施黃瓜生產(chǎn)提供理論指導(dǎo)。
1 材料與方法
1.1 試驗材料
供試黃瓜品種為“新泰密刺”(山東省新泰市祥云種業(yè)有限公司提供)。
1.2 試驗方法
試驗于2009年3—5月在山東農(nóng)業(yè)大學(xué)玻璃溫室內(nèi)進行。種子在28℃下催芽24h,播于裝有干凈沙子的穴盤中育苗,子葉展開后,以1/2劑量的營養(yǎng)液代替自來水澆灌。當(dāng)幼苗第1片真葉展開后,選整齊一致的幼苗定植于裝有10L營養(yǎng)液的塑料盆中(40cm×30cm×12cm),每盆定植8株,分為兩行,株行距為10cm×20cm。試驗期間,每3天更換一次營養(yǎng)液。營養(yǎng)液中大量元素參照山崎配方略加修改,微量元素參照Arnon配方,以濃H2SO4調(diào)整營養(yǎng)液pH值至5.5—6.5之間。當(dāng)幼苗長至3葉1心時,進行硝酸鹽處理。
試驗在高光照和低光照下各設(shè)3個NO3處理濃度,分別為14(cK)、98mmol/L和140mmol/L。NO3濃度調(diào)整由ca(N03)2·4H2O和KNO3各提供1/2。光照強度分別為800μmol/(m2·s)(高光照)和400μmol/(m2·s)(低光照,用遮光50%遮陽網(wǎng)進行處理),每個處理重復(fù)3次。處理7d,取上部第3片功能葉測定各項指標(biāo)。
1.3 測定指標(biāo)與方法
1.3.1 生長測定處理前每處理隨機取樣5株,測定株高、莖粗和葉面積,每株均做好標(biāo)記,處理7d后再分別測定上述5株黃瓜幼苗的株高、莖粗和葉面積,用直尺和游標(biāo)卡尺測量株高、莖粗,用直尺測量葉片的長和寬,按以下公式計算:
葉片面積=14.16—5.0x長+0.94×長2+0.47×寬+0.63×寬20.62×(長×寬)。
1.3.2 光合色素含量的測定從完全展開的幼葉上打孔取葉圓片(直徑1cm),用80%丙酮10ml在黑暗處浸提直至葉圓片發(fā)白。取上清液分別在663、646、470nm處測定吸光值。按Arnon(1949)的方法測定鮮葉的光合色素含量。
1.3.3 光合參數(shù)的測定用u—6400便攜式光合系統(tǒng)測定:凈光合速率(Pn)、氣孔導(dǎo)度(Gs)、胞間CO2濃度(ci),測定時使用紅藍光源葉室,光強為800μmol/(m2·s),溫度25℃,CO2濃度(380±10)tunol/mol,選取上數(shù)第3片完全展開的功能葉進行測定,每處理隨機測定6片葉。
2 結(jié)果與分析
2.1 不同光照條件下硝酸鹽脅迫對黃瓜幼苗生長的影響
由圖1可以看出,與高光照相比,低光照顯著抑制了黃瓜幼苗的生長。不同光照下,NO3脅迫(98mmol/L和140mmol/L)與對照(14mmol/L)相比均顯著降低了黃瓜幼苗株高、莖粗和葉面積的生長量,且低光照下黃瓜幼苗受抑程度減輕。 98mmol/LNO3處理時,高光照下株高、莖粗和葉面積的生長量分別比對照降低17%、18%和29%,而低光照下分別較對照(14mmol/L)降低8%、4%和25%。
140 mmol/L NO3處理時,高光照下株高、莖粗和葉面積的生長量分別比對照降低30%、54%和52%,而低光照下分別較對照(14mmol/L)降低22%、29%和40%。
表明低光照可以減輕NO3脅迫對黃瓜幼苗的危害,尤其是在140mmol/L NO3處理水平時表現(xiàn)更明顯。這可能是因為高光照下,一方面,植株的蒸騰作用增強,水分的散失加快,使?fàn)I養(yǎng)液濃度增
高,對根系產(chǎn)生更大的脅迫;另一方面,在地上部水分散失的過程中,更多的離子被運輸?shù)街仓甑厣喜浚斐扇~片的滲透脅迫,從而對植株造成傷害。而低光照下的植株,蒸騰相對較低,水分散失較少,植株內(nèi)部運輸離子速率較低,減輕了NO3脅迫對黃瓜幼苗的危害。
2.2 不同光照條件下硝酸鹽脅迫對黃瓜幼苗光合色素含量的影響
由圖2可以看出,高光照下,98mmol/L和140mmol/L NO3處理的植株葉綠素總量分別比對照(14mmol/L)處理增加1%和12%,低光照下,98mmol/L和140mmol/L NO3處理的植株葉綠素總量比對照處理增加36%和57%。低光照顯著提高了NO3脅迫下黃瓜幼苗光合色素的含量,這是由于植株對弱光的適應(yīng),葉綠素的增加有利于植物捕獲較多的光能,而彌補外界的光照不足。
2.3 不同光照條件下硝酸鹽脅迫對黃瓜幼苗光合作用的影響
由圖3可以看出,Pn、Gs、Ci和Ls受光照和NO3濃度的影響非常明顯。在高光照下,98mmol/L NO3處理使Pn、ci和Gs分別比對照降低7%、9%和18%;而弱光下僅比對照降低3%、7%和13%。在高光照下,140mmol/L NO3處理使Pn和Gs分別比對照降低46%和63%;而低光照下僅比對照降低7%和24%。Ci在不同的光照下變化趨勢不同,140mmol/L NO3處理在高光照下,使Ci增加(P<0.05),Ls降低,而低光照下,使Ci降低,Ls升高。
在對照(14mmol/L)和98 mmol/L的NO3濃度下,低光照處理降低了黃瓜葉片的Pn,而在140mmol/L NO3濃度下低光照處理使Pn增加,這說明在對照和98mmol/L NO3脅迫條件下降低光照會降低黃瓜植株的光合能力,但在高濃度的NO3(140mmol/L)脅迫下,降低光照有利于降低植株光合器官的受害程度,而保持較強的光合能力。
高光照下,140mmol/L NO3處理顯著抑制了黃瓜植株的生長,這與強光加重了NO3對光合器官的破壞程度密切相關(guān)。在140mmol/L NO3處理中,Pn的下降與Gs的下降呈對應(yīng)關(guān)系,但這不足以判斷黃瓜葉片光合速率的下降是由氣孔限制所導(dǎo)致的。Farqugar等(1982)認(rèn)為,Gs和Ci降低而Ls增加時,Pn的降低主要因素為氣孔,而Pn降低伴隨著ci的提高時,Pn降低的主要原因一定是非氣孔因素。
3 小結(jié)
本試驗中,低光照可以減輕NO3脅迫對黃瓜幼苗的危害,尤其是對高濃度的NO3脅迫,效果更明顯。高光照下,140mmol/L NO3處理植株的光合下降是由非氣孔因素造成的,可以看出光合器官已經(jīng)受到破壞,而低光照下,140mmol/LNO3處理的植株還能保持較高的光合能力,低光照在一定程度上降低了植株內(nèi)部器官受到的損傷程度。根據(jù)以上結(jié)果,可以看出溫室弱光對減輕高濃度鹽脅迫危害有著積極的一面,可以減輕高鹽脅迫帶來的危害。