高 雁,劉洪波,王 麗

(中國科學院長春光學精密機械與物理研究所,吉林長春 130033)

1 引 言

太陽模擬器是在室內(nèi)模擬不同大氣質(zhì)量條件下太陽光輻照特性的一種試驗或定標設(shè)備。太陽模擬技術(shù)的發(fā)展與我國空間科學技術(shù)的發(fā)展密切相關(guān),應(yīng)用太陽模擬技術(shù)研制的太陽模擬器已成為我國空間科學在地面進行空間環(huán)境模擬試驗研究的重要組成部分。太陽模擬器多用于空間飛行器的環(huán)境模擬試驗,為航天器提供與太陽光譜分布相匹配的、均勻的、準直穩(wěn)定的光輻照。在航天器真空熱環(huán)境試驗中,太陽模擬器是最真實準確的熱流模擬手段。應(yīng)用太陽模擬器可以高精度地完成航天器熱平衡試驗,特別是形狀復(fù)雜、熱耦合關(guān)系復(fù)雜的航天器的熱平衡試驗,必須用太陽模擬器來完成。

在空間技術(shù)應(yīng)用的其他方面,例如人造衛(wèi)星飛行姿態(tài)控制用太陽角計的地面模擬試驗與標定,地球資源衛(wèi)星多光譜掃描儀太陽光譜輻照響應(yīng)的地面定標,太陽光伏科學與工程中光電轉(zhuǎn)換器件太陽電池的檢測,遙感技術(shù)中室內(nèi)模擬太陽光譜輻照,生物科學中研究植物發(fā)育與培育良種等,都廣泛地應(yīng)用太陽模擬器。

2 國內(nèi)外研究狀況

我國從 1965年開始設(shè)計研制太陽模擬器,先后研制了 K M2太陽模擬器,KFT高精度小型太陽模擬器和 K M4太陽模擬器等太陽模擬設(shè)備,并成功地應(yīng)用于整星和部件的熱真空試驗。

美國從 1959年開始研制大型太陽模擬器,初期面臨的主要問題是輻射源的能量低,60年代中后期至 70年代,由于使用了大功率氙燈,這一問題得到了解決。美國波音公司研制的 A-7000大型太陽模擬器采用了同軸準直光學系統(tǒng),使用 37只 30 kW氙燈,得到直徑為 6.1 m的輻照面積,其輻照不均勻度為 ±10%。1966年建成的美國JPLSS15B太陽模擬器,采用了離軸準直光學系統(tǒng),其離軸角為 14°,使用 37只 20 kW的氙燈,準直鏡為直徑 6 m的整鏡,試驗面直徑為4.6 m。由于積分器系統(tǒng)的使用,有效地提高了輻照均勻性,其輻照不均勻度為 ±4%,光譜為修正氙燈光譜。為了滿足星際探測的需要,1972年該太陽模擬器做了改造,研制了兩個新的積分器,一個用來產(chǎn)生直徑 3.4 m的光柱,另一個用來產(chǎn)生直徑 2.7 m的光柱,并且研制了一塊新的準直鏡,用來產(chǎn)生直徑 2.7 m的光柱。這一改造使該太陽模擬器在直徑 3.4 m的輻照面上輻照度可以達到 8個太陽常數(shù),在直徑 2.7 m的輻照面上輻照度可以達到12個太陽常數(shù)。

德國 1983年建成的大型太陽模擬器,采用離軸準直光學系統(tǒng),離軸角為 27°,輻照直徑為3.6 m,輻照不均勻度為 ±4%。該太陽模擬器后來做了兩處改進,把積分器單元鏡由圓形改為矩形,準直鏡單元鏡由 61塊六邊形鏡增加到 84塊。此外,擴大準直鏡口徑,增加了輻照面積并改變了輻照面形狀,改造后該設(shè)備通過更換積分器可分別得到 3.6 m的輻照面和 3.05 m×4.5 m的輻照面[1]。

歐空局 1983年在荷蘭建成的大型太陽模擬器,吸取了各國的成熟技術(shù)和經(jīng)驗,采用了離軸準直光學系統(tǒng),其離軸角為 29°,可選用 19只 20、25或 32 kW的氙燈,輻照直徑為 6.05 m,深為 6 m,輻照面不均勻度為 ±4%,體不均勻度為 ±6%。該太陽模擬器代表了當今大型太陽模擬器的先進水平[2]。

此外,俄羅斯、印度等國也建成了大型的太陽模擬器用于航天器試驗。

3 太陽模擬器設(shè)計技術(shù)指標

由于在實驗室內(nèi)人工模擬太陽光輻照特性具有一定的局限性,真實模擬還具有一定的難度。例如模擬器模擬太陽光束孔徑角和總輻照度就是一對矛盾,在滿足其中一項的情況下很難滿足另一項。因此,在研制各種不同用途的太陽模擬器時其性能指標都應(yīng)有所側(cè)重。對高準直光束太陽模擬器來說應(yīng)側(cè)重精確模擬太陽光束的準直角(±16′),而對輻照度指標要求不做太多的苛刻要求;反之,應(yīng)用于空間環(huán)境熱真空環(huán)境實驗的太陽模擬器,其輸出輻照度指標必須要達到一個太陽常數(shù) (1 367 W/m2),因此,這種類型的太陽模擬器輸出光束的準直角較之真實太陽的要大。研制太陽模擬器的主要設(shè)計指標有[3]:

(1)太陽光譜總輻射為 AM0標準太陽光譜總輻射。AM0是日地平均距離處地球大氣層外的太陽光譜總輻射量。此時的太陽總輻射量稱之為一個太陽常數(shù),其定義為在此處垂直于太陽輻射光的單位面積上,單位時間內(nèi)接收的太陽輻射量,其值為 (136.7±2.1)mW/cm2;

(2)太陽光束準直角 ±16′;

(3)輻照不均勻度通常分為面輻照不均勻度和空間輻照不均勻度,按下式計算:式中:ΔE/Esum為輻照不均勻度;Emax為輻照面上(或體積內(nèi))的輻照度最大值;Emin為輻照面上 (或體積內(nèi))的輻照度最小值;

(4)輻照不穩(wěn)定度表征輻照度隨時間的變化,由下式?jīng)Q定:

式中:(ΔE/Esum)/t為時間t內(nèi)的輻照不穩(wěn)定度;

(5)光譜失配偏差表征與標準太陽光譜的匹配精度,分為 A、B和 C級;

此外,太陽模擬器輸出的有效輻照面積也是設(shè)計指標之一。

4 太陽模擬器光學系統(tǒng)

太陽模擬技術(shù)所涉及到的光學系統(tǒng)是一種復(fù)雜的強光照明系統(tǒng)[4]。與其它光學系統(tǒng)不同,在光學系統(tǒng)設(shè)計中,并不是把消除系統(tǒng)的像差,提高成像質(zhì)量作為主要研究對象,而是把注意力集中在如下幾個方面:其一是選擇合理的光學系統(tǒng),優(yōu)化光學設(shè)計參數(shù),在滿足輻照度要求的前提下,盡可能地提高試驗空間的輻照均勻度;其二是優(yōu)化設(shè)計聚光系統(tǒng),提高對光源輻射能量的利用率。因此,其光學系統(tǒng)的設(shè)計思想和結(jié)果的評價方法與通常的光學系統(tǒng)設(shè)計相比另有特點。在此,本文僅對聚光系統(tǒng)、光學積分器、準直系統(tǒng)和濾光片光譜透過率等設(shè)計進行討論。

圖1是普通折射式準直型太陽模擬器光學系統(tǒng),光路基本工作原理如下:位于橢球鏡第一焦點附近氙燈氙弧發(fā)出的光輻射通量,經(jīng)橢球面聚光鏡匯聚并反射,以給定的包容角投影到橢球聚光鏡第二焦面上,形成一個較大范圍的輻照分布。這個較大范圍的輻照分布被位于第二焦面上的由N個小元素透鏡組成的光學積分器場鏡陣列對稱分割成N個小的輻照范圍,再經(jīng)光學積分器投影鏡陣列中對應(yīng)的元素透鏡迭加成像到無窮遠,形成一個較均勻的輻照范圍。這N個被成像到無窮遠的“輻照范圍”再經(jīng)準直系統(tǒng)以一定的照明孔徑角 (即準直角)投影到準直物鏡的后焦面附近,形成一個較均勻輻照面。朝準直透鏡看去,輻照光束來自位于準直透鏡焦面上的光學積分器投影鏡組,如同來自“無窮遠”處的太陽。濾光片使輸出光束的光譜輻照分布與 AM0或 AM1.5標準太陽光譜輻照分布在規(guī)定的精度級別內(nèi)相匹配。

圖1 準直型太陽模擬器光學系統(tǒng)示意圖Fig.1 Optical system diagram of collimating solar simulator

4.1 聚光系統(tǒng)

內(nèi)反射橢球鏡是一種很好的聚光元器件,也是通常太陽模擬器所用聚光系統(tǒng)。它利用兩焦點的成像關(guān)系,將第一焦點上的氙弧以一定的匯聚角和放大倍率投影在第二焦面上。如圖2所示,根據(jù)橢圓的性質(zhì)在子午面內(nèi)橢圓方程式為:

式中:R為橢圓頂點的曲率半徑,e為橢圓離心率,f和f′分別為橢圓的第一 、第二焦點。

圖2 橢圓的成像特性Fig.2 Elliptical imaging characteristics

橢球面聚光鏡表面可化分成許多環(huán)帶,每一環(huán)帶的寬度由給定的Δu限定,聚光鏡各環(huán)帶的成像倍率M u是孔徑角u的函數(shù),如圖2所示。

由拉氏不變量得:

其中n=-n′=1;

系統(tǒng)的放大倍率為:

M u=h′/h=-tanu/tanu′=-PF′/PF,(5)其中PF+PF′=2a,a為橢圓之半長軸。

根據(jù)橢圓在極坐標系中的表示式,將線段PF′、PF表示成如下形式:

式中p=a(1-e2)/e,2a=f+f′=2p/(1-e2)。

整理后得:

上式即為成像倍率M u和孔徑角u的關(guān)系式,當u趨于零時 ,近軸倍率M0=f′/f。

內(nèi)反射橢球鏡對氙弧輻射通量包容角的大小稱為聚光效率,定義為聚光鏡匯聚到第二焦面的輻射通量占氙弧發(fā)出的全部輻射通量的比率Kc。Kc取決于氙弧輻射強度在不同方向上的相對分布t(u)和聚光鏡匯聚角的范圍,其表達式為:

聚光鏡第二焦面給定口徑內(nèi)所接收的來自聚光鏡的輻射通量占聚光鏡匯聚到第二焦面輻射通量的比率稱之為該口徑的輻射通量利用率Ki,顯然Ki取決于第二焦面上輻射通量的相對分布。因此,可以說聚光鏡第二焦面內(nèi)的輻照度分布決定了被照面內(nèi)的平均輻照度和輻照不均勻度,并可作為評價聚光鏡光學設(shè)計和確定光學積分器光通道數(shù)目的依據(jù)。理想的在聚光鏡第二焦面內(nèi)的輻照度分布曲線如圖4所示,近似于正態(tài)分布。在反射式橢球面聚光鏡的光學設(shè)計中其成像倍率和氙弧峰值亮度點相對于第一焦點的離焦量是兩個重要參數(shù)。

圖3 聚光鏡第二焦面輻照度分布曲線Fig.3 Irradiance distribution curve on the second focal plane of condenser

提高反射式聚光鏡對光源輻射通量的聚光效率,改善第二焦面上的輻照分布一直是太陽模擬技術(shù)所追求的目標。L.F.Polak等人曾將聚光鏡的孔徑角每隔 10°劃分為一個環(huán)帶,氙弧峰值亮度點經(jīng)這種環(huán)帶投射到參考面內(nèi)給定的瞄準點上,瞄準點在參考面內(nèi)到軸上點的徑向距離確定了該環(huán)帶的面形,每個環(huán)帶分別選擇 11個位置不同的瞄準點。在這種方法中,由于各個環(huán)帶分別選擇瞄準點,故各環(huán)帶組合后出現(xiàn)環(huán)帶間的不連續(xù)。實際上對于給定環(huán)帶,瞄準點位置不同的作用相當于單一橢球面情況下氙弧峰值亮度點的離焦量不同[5]。

利用對二次曲線方程進行微量的修正方法,可增加反射式聚光鏡的利用率并改善第二焦面上的輻照分布。在選定的橢圓方程式:y2=ax+bx2中加入x的其它冪次項,使方程變?yōu)楦叽畏匠?/p>

式中x低次冪系數(shù)大,高次冪系數(shù)小,故在近軸區(qū)域內(nèi)x低次冪項對聚光鏡面形起主要作用,與原二次曲面偏離很小;隨著x值增加,高次項對面形影響增大,故在聚光鏡遠軸區(qū)域內(nèi)x的高次項對原橢球鏡進行了修正。實踐證明,這種方法保證了聚光鏡整個面形的連續(xù)性。

另外,一種非共軸深橢球面反光鏡也可改善在第二焦面上的輻照分布。如圖4所示,以F1為中心將橢圓曲線Σ的長軸相對光軸x轉(zhuǎn)動角度Δ得到新橢圓曲線Σ′;再繞光軸x旋轉(zhuǎn)Σ′,得到回轉(zhuǎn)曲面即非共軸橢球面。如在非共軸橢球面Σ′的第一焦點F1處放置一發(fā)光點,在F2處第二焦點垂直光軸平面上會形成一個光環(huán),如圖4所示。光環(huán)半徑為:

圖4 非共軸橢球面反射鏡Fig.4 Non-coaxial ellipsoidalmirror

光源實際上有一定大小,是由無數(shù)個發(fā)光點組成的,所以光源的像即為無數(shù)個光環(huán)疊加的結(jié)果。如果能合理選取非共軸橢球面成像倍率M0及轉(zhuǎn)角Δ,再考慮到光源相對于非共軸橢球鏡的微量離焦,將大大提高第二焦面處的輻照度分布均勻性,同時可提高聚光鏡第二焦面給定口徑內(nèi)輻射通量的利用率Ki。

為計算簡單,選取坐標原點為橢圓中心 (圖5中O點),轉(zhuǎn)動后橢圓曲線方程用x′y′表示,有:

式中a、b分別為橢圓長和短半軸,a=1/2(l+。坐標x′、y′和x、y的關(guān)系式為 :

光軸轉(zhuǎn)角Δ可由式 (10)根據(jù)對光環(huán)的要求和對系統(tǒng)的外形尺寸計算確定,按式 (12)可計算確定非共軸橢球面的參數(shù)及面型,這樣不但提高了光能利用率,同時也顯著改善了工作面上聚焦光斑上光照度的均勻性。

4.2 光學積分器

光學積分器的作用是將氙弧在橢球聚光鏡第二焦面形成的氙弧像對稱分割,疊加再成像,從而得到一個均勻輻照面。如圖5所示,場鏡元素透鏡與均勻輻照面共軛,投影鏡元素透鏡與聚光鏡出瞳共軛。圖示為光學積分器中心光通道的成像關(guān)系,其余光通道也與此相同。

圖5 光學積分器成像原理圖Fig.5 Imaging principle of optical integrator

光學積分器各光通道對系統(tǒng)主光軸是對稱排列的,共用一個疊加透鏡,除中心光通道光軸與疊加透鏡光軸同軸外,其余光通道中的疊加透鏡相應(yīng)通光口徑對所在光通道的光軸已失去對稱性,這使得光學積分器的成像失去了嚴格軸對稱性。

場鏡元素透鏡位于物面上,它的“彎曲”將影響物面畸變和光闌彗差。增大物面畸變,均勻輻照面上的光線高度向輻照面中心收斂,縮小了均勻輻照面邊緣照度過渡帶的寬度,對提高均勻度有利。但在增大物面畸變時會同時增大光闌彗差,而場鏡元素透鏡光闌彗差大時其光闌球差也大。理論上,光學積分器系統(tǒng)中聚光鏡的出瞳經(jīng)場鏡元素透鏡成像在同一光通道中的投影鏡元素透鏡的口徑內(nèi),但大的光闌軸外球差使得由聚光鏡出瞳邊緣發(fā)出的經(jīng)場鏡元素透鏡口徑邊緣帶的那些成像光束中,有相當一部分落入同一光通道的投影鏡元素透鏡的口徑之外,成為有害雜光。這實際上降低了輻照面邊緣的輻照度,也降低了輻照面的均勻度,同時減少了均勻輻照面內(nèi)的有效輻照度。

由以上分析可知,從物面成像和聚光鏡出瞳成像兩個方面考慮,會得到不同的結(jié)論。在大多數(shù)小型太陽模擬器中,積分器元素透鏡是靠光膠工藝制作的,彼此間無機械間隔。因此,由于軸外球差大而落入相鄰光通道的光線實際上落入相鄰光通道中投影鏡元素透鏡口徑的邊緣,最后投射到均勻輻照面的外圍。因此,認為場鏡元素透鏡應(yīng)處在光闌球差小的“彎曲”狀態(tài)。

光學積分器由于光學材料和結(jié)構(gòu)的限制本身不能校正像差,因此,如果系統(tǒng)取過大的相對孔徑時,即使投影鏡處于球差極小值狀態(tài),其球差和軸外球差也很大。此外,由于像差的存在,光學積分器對稱光通道內(nèi)光線的成像高度不一致,使均勻輻照面內(nèi)的成像光線離散很大,對系統(tǒng)的輻照不均勻度相當不利?？s短場鏡組和投影鏡組之間的間隔可明顯減小這種離散尺寸,其實質(zhì)是使投影鏡離焦。

通過以上分析并對光學參數(shù)不同的幾個太陽模擬器系統(tǒng)計算,結(jié)果如下:

1)輻照面到準直鏡有一個最佳距離,當處于這個最佳距離時,對稱光通道內(nèi)對應(yīng)光線在輻照面上成像高度相同。

2)投影鏡組離焦可以補償大的軸外球差造成的成像光線離散量。

3)場鏡和投影鏡的最佳距離l0為理論計算值l縮短Δl。對于近軸光學間隔的改變量Δl與投影鏡元素透鏡單獨對于無窮遠物點成像時邊緣帶球差LA′m(∞)的定量關(guān)系可由下面的近似公式給出:

4)當場鏡和投影鏡間距為l0時,光學積分器邊緣光通道和中心光通道在輻照面中心處成像光線離散尺寸相等且最大,在輻照面邊緣處成像光線離散尺寸相等且最小。這種從輻照面中心到邊緣光線離散尺寸由大到小的變化對均勻度是有利的。

利用上述的補償方法,在積分器相對孔徑較大時也能獲得較好的均勻度。

4.3 準直系統(tǒng)

通常根據(jù)準直系統(tǒng)的類型對太陽模擬器進行分類。準直系統(tǒng)的類型決定了太陽模擬器的總體結(jié)構(gòu)方案和總體技術(shù)指標。因此,根據(jù)使用要求和實際工況合理地選定準直系統(tǒng)是總體方案論證中的重要內(nèi)容。

太陽模擬器的準直系統(tǒng)可分為同軸折射式系統(tǒng)與離軸反射式系統(tǒng)兩類。如圖6所示,在小型太陽模擬器中,由于輻照面積直徑小,一般采用同軸折射式系統(tǒng),其準直物鏡的形式通常選用雙膠合或雙分離結(jié)構(gòu),這兩種形式的透鏡結(jié)構(gòu)可對球差、正選差以及色差進行校正,改善輸出光束的準直性和輻照面的體均勻度。在大型太陽模擬器中,一般采用離軸反射式準直系統(tǒng)。設(shè)計這樣的系統(tǒng)時應(yīng)注意試驗體二次或多次反射雜光問題,應(yīng)將輻照面設(shè)計在準直鏡法線外側(cè)范圍內(nèi)。由于離軸系統(tǒng)結(jié)構(gòu)上失去了對稱性,積分器形成的均勻輻照面經(jīng)過離軸反射后,輻照度分布失去對稱性,這是該系統(tǒng)的不足之處。作為適當?shù)难a償,可以調(diào)節(jié)氙弧位置,改變場鏡組口徑內(nèi)輻照度分布的中心對稱性。

圖6 按準直物鏡形式分類的太陽模擬器Fig.6 Solar simulator sorted by collimating field lens

4.4 濾光片光譜透過率

在光源和光學系統(tǒng)確定后,太陽模擬器光譜輻照分布特性取決于濾光片的光譜透過率。通過直接測量得到不具有濾光片的太陽模擬器的光譜輻照分布,或者直接測量光源的光譜輻射分布并計入太陽模擬器光學系統(tǒng)的光譜“透過”率的影響來推得太陽模擬器的光譜輻照分布。將這一分布與已知的標準太陽光譜輻照分布相比較,可計算出濾光片光譜透過率的理論值,即[6]:

這里a和b分別表示不具有濾光片的太陽模擬器在λ1～λ2波段內(nèi)的輻照度和光譜輻照度分布。C表示同一波段內(nèi)標準太陽光譜輻照度,t為該波段內(nèi)濾光片的光譜透過率理論值,K則為太陽模擬器全波段輻照度歸一到標準太陽全波段輻照度的歸一化因子。如果只要求給出濾光片光譜透過率的相對值,K在公式中可以省略,由已知的C和測得的a,通過式 (11)可計算出t。

目前受真空鍍膜手段和工藝水平的限制,實際鍍制的濾光片的光譜透過率還不能完全符合所要求的光譜,而實際上只需按給出透過率最低點的波長位置、半寬度及透過率tλ鍍制濾光片就能滿足要求。一般來說最低透過率在 (0.93±0.05)μm處,t為 0.34±0.03,半寬度為 0.86～1.00μm。

5 結(jié)束語

在高準直太陽模擬器中,光學系統(tǒng)對光源輻射能量利用率不高的問題非常突出。高效率聚光鏡的研制就是為了解決這一問題。最近的研究表明,用無窮多個二次曲線橢圓方程替代單一的二次曲線橢圓方程,人為地控制曲線上近軸及遠軸點的倍率及曲線走向,在給定聚光鏡光線匯聚角情況下,可以形成我們所期望的高效率聚光鏡。但這種聚光鏡的加工工藝難度較大,較通常橢球面加工給出的坐標數(shù)據(jù)量要大許多才能得到滿意的效果,因此,有必要進一步研究更合適的設(shè)計方法。另外,隨著空間載荷體積的不斷增大,也要求太陽模擬器能提供更大的輻照面積,而大輻照面積的太陽模擬器必須采用離軸反射系統(tǒng),即必須采用大尺寸的準直反射鏡。這些需求給光學系統(tǒng)設(shè)計帶來了一系列問題。

在離軸準直太陽模擬器中,準直反射鏡面型通常為球面和非球面兩種,其中球面反射鏡由于存在球差而影響輻照面各處準直角的一致性和體均勻性,借助球面鏡離焦和在子午面內(nèi)相對于焦點的轉(zhuǎn)動可對此加以補償。對于具有較大離軸角且選用了球面準直反射鏡的光學系統(tǒng),必須要考慮離軸準直系統(tǒng)情況下的有效輻照面面形橢圓化問題。非球面中的拋物面可作為準直反射鏡的面形,拋物面反射鏡可消除球差對準直光束的影響,故能很好地解決采用球面反射鏡所帶來的離軸準直系統(tǒng)輻照面面形橢圓化問題。但非球面反射鏡的制作工藝難度很大,不易獲得大尺寸的反射鏡,且制作費用很高。通過光學積分器場鏡組各元素透鏡口徑形狀的反橢圓化可以補償這種輻照面形狀的橢圓畸變,但這需要現(xiàn)代化數(shù)控光學加工設(shè)備,而且更大尺寸的準直反射鏡必須采用拼接形式,這給機械裝調(diào)帶來很大困難。

不難看出,太陽模擬器的設(shè)計和研制,仍有許多關(guān)鍵技術(shù)需要進一步研究和探索。

[1] FE IL O G,FREY H-U.Solar simulation with rectangular beam[C]//Proceedings of the 15th Space Simulation Conference.1-3 NovemberW illiamsburg 1988,NASA Conference Publicalion 3015,p278-288.

[2] BR INK MAN PW.Main characteristics of the large space simulator(LSS)at ESA/ESTEC[C]//Proceedings of the 13th Space Simulation Conference,NASA CP-2340,Orlando,Florida,8-11 October 1984.

[3] 李剛,周彥平.衛(wèi)星仿真測試用太陽模擬器和地球模擬器設(shè)計[J].紅外技術(shù),2007,29(5):283-287.L I G,ZHOU Y P.Design of solar simulator and earth simulator for satellite attitude simulation[J].Infrared Technol.,2007,29(5):283-287.(in Chinese)

[4] 楊林華,范寧,史瑞良.K M6太陽模擬器拼接式準直鏡的裝校技術(shù)[J].航天器環(huán)境工程,2005,22(6):342-346.YANGL H,FAN N,SH IR L.Adjus tmentmethod for collimating mirror of K M6 SOLAR simulator[J].Spacecraft Environment Eng.,2005,22(6):342-346.(in Chinese)

[5] 向艷紅,張容,黃本誠.KFTA太陽模擬器燈單元的方案設(shè)計[J].航天器環(huán)境工程,2005,22(2):120-123.X IANG Y H,ZHANG R,HUANG B C.Design of lamp module of KFTA solar simulator[J].Spacecraft Environment Eng.,2005,22(2):120-123.(in Chinese)

[6] 王元,張林華.一種新型全光譜太陽模擬器設(shè)計[J].太陽能學報,2006,27(11):1133-1136.WANG Y,ZHANGL H.Design of a new type of full-spectrum solar simulator[J].Acat Energiae Solaris Sinica,2006,27(11):1133-1136.(in Chinese)

[7] 張以謨.應(yīng)用光學[M].北京:電子工業(yè)出版社,2008.ZHANG YM.Application Optics[M].Beijing:Publishing House of Electronics Industry,2008.(in Chinese)