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        一種應(yīng)用于曝光機(jī)的新型z向系統(tǒng)方案及實(shí)驗(yàn)研究

        2010-08-08 10:23:24李霖
        電子工業(yè)專用設(shè)備 2010年1期
        關(guān)鍵詞:掩模基片供氣

        李霖

        (中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所,北京東燕郊 065201)

        接觸接近式光刻設(shè)備是半導(dǎo)體生產(chǎn)及實(shí)驗(yàn)制造中的關(guān)鍵設(shè)備之一,主要用于功率電子器件、傳感器、光電子器件、微波電路、MEMS(微電子機(jī)械系統(tǒng))及其它新型電子元器件的單、雙面對(duì)準(zhǔn)及曝光工藝,有著較大的市場(chǎng)影響力。隨著LED芯片市場(chǎng)的快速增長(zhǎng),LED芯片生產(chǎn)商對(duì)曝光設(shè)備提出了更高的要求。由于LED生產(chǎn)廠家及其它設(shè)備用戶對(duì)曝光機(jī)生產(chǎn)效率、操作方便性、設(shè)備可靠性等需求,迫切需要我們?cè)趜向系統(tǒng)等關(guān)鍵技術(shù)方面有所突破、能適應(yīng)LED芯片生產(chǎn)工藝的曝光機(jī)。

        1 z向運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)

        1.1 原理

        z向系統(tǒng)就是驅(qū)動(dòng)承片臺(tái)作z向運(yùn)動(dòng)的機(jī)構(gòu),z向運(yùn)動(dòng)包括基片接觸掩模版的向上運(yùn)動(dòng)和基片與掩模微分離的向下運(yùn)動(dòng)?;轿缓螅佑|式曝光機(jī)首先驅(qū)動(dòng)基片作z向運(yùn)動(dòng),使基片與掩模接觸并提供一定的找平力,楔形誤差補(bǔ)償機(jī)構(gòu)在找平力的作用下完成基片對(duì)掩模的找平,即基片與掩模的均勻接觸,找平后,通過某種方式(比如真空鎖)保持找平效果,然后基片與掩模作微小的z向分離運(yùn)動(dòng),分離后,基片上表面與掩模下表面仍保持平行,基片相對(duì)掩模作xy平面的對(duì)準(zhǔn)運(yùn)動(dòng)而不損害掩模表面以及基片表面的光刻膠,對(duì)準(zhǔn)后,再次使基片與掩模接觸,最后進(jìn)行曝光。

        1.2 新型z向系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案

        z向系統(tǒng)是工作臺(tái)的一部分,新型的z向系統(tǒng)方案包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、導(dǎo)向機(jī)構(gòu)、鎖緊機(jī)構(gòu)等功能機(jī)構(gòu)以及氣動(dòng)控制、執(zhí)行等輔助裝置。其示意圖如圖1所示。z向采用氣缸驅(qū)動(dòng),靠調(diào)節(jié)氣缸的壓力來保證所需的接觸力,微分離也采用氣動(dòng)驅(qū)動(dòng),z向抬升和微分離均由空氣軸承導(dǎo)向。其楔形誤差補(bǔ)償機(jī)構(gòu)采用氣浮球碗的方式,能夠在較小的接觸力下完成找平,降低了碎片的可能性,提高成品率。

        圖1 z向系統(tǒng)示意圖

        z向系統(tǒng)主要實(shí)現(xiàn)以下三種功能:

        功能一:支持承片臺(tái)。承片臺(tái)背面固聯(lián)一個(gè)球段,它與中央活塞頂部的錐形球座配合,此配合使得找平時(shí)承片臺(tái)可以掩模版為基準(zhǔn)在各個(gè)方向“擺動(dòng)”,完成找平,找平后用真空鎖住配合。對(duì)于脆性基片,在球面配合之間導(dǎo)入壓縮空氣,使得找平過程低摩擦,阻力小。

        功能二:z向抬升運(yùn)動(dòng),使得基片到達(dá)曝光位置。z向運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)的核心是一個(gè)長(zhǎng)配合的空氣軸承,使得抬升運(yùn)動(dòng)沒有側(cè)移、無需潤(rùn)滑、免維護(hù)。提供抬升運(yùn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)力的是一個(gè)特殊的氣缸。它完全密封,幾乎沒有空氣泄漏;極低摩擦,對(duì)微小的壓力變化能作出靈敏的反應(yīng);可以0.01 MPa的微壓操作,即使在低速狀態(tài)下,亦能平順操作無爬行;不需要在空氣配管上設(shè)置潤(rùn)滑器,非常適合接觸力的調(diào)整。避免了使用普通氣缸的低速爬行現(xiàn)象,基片與掩模接觸無沖擊。z向系統(tǒng)零件選用輕質(zhì)材料,使得氣缸的驅(qū)動(dòng)壓力很低,并且可精確控制,對(duì)掩模和基片的損傷很小。

        圖2 接觸力氣動(dòng)控制原理

        圖2為接觸力氣動(dòng)控制原理圖。節(jié)流閥F39控制z軸上升的速度。活塞上升太快,基片對(duì)掩模造成沖擊,發(fā)出撞擊聲,且容易碎片。壓力開關(guān)S9控制找平力。當(dāng)氣缸中的壓力達(dá)到S9的設(shè)定值時(shí),找平完成。改變壓力開關(guān)S9的設(shè)定壓力值,就可調(diào)整找平力。精密減壓閥R5用來設(shè)定微分離時(shí)氣缸中的壓力。R1壓力設(shè)定為0.1 MPa。R5壓力設(shè)定為0.05 MPa~0.1 MPa。關(guān)鍵壓力參數(shù)調(diào)整其減壓閥帶有表頭。

        功能三:微分離?;脱谀5谝淮谓佑|以后,運(yùn)動(dòng)的空氣軸承套被鎖緊在分離套上,短暫的延時(shí)后分離環(huán)充氣膨脹,推動(dòng)分離套/空氣軸承套的聯(lián)合體向下作微小的運(yùn)動(dòng),基片與掩模微分離。調(diào)整氣囊的充氣壓力可精確調(diào)整微分離量,精密減壓閥保證充氣壓力的重復(fù)精度,從而保證微分離量的重復(fù)精度。微分離也通過空氣軸承導(dǎo)向。分離套通過兩層彈性膜片懸掛在殼體上,在z向上具有柔性,而在x,y方向則有很大的剛性。這種設(shè)計(jì)使得漂移運(yùn)動(dòng)降到最小程度。

        1.3 實(shí)驗(yàn)研究

        先期制作完成了一些實(shí)驗(yàn)件對(duì)z向運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)的部分功能進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,實(shí)驗(yàn)氣路如圖3所示。其中 R1、R4、R5均采用精密減壓閥。R1:z向抬升時(shí)氣缸的壓力。R5:微分離時(shí)氣缸中的壓力。R4:分離氣囊的充氣壓力。R1影響z向抬升的速度和找平力;R5對(duì)分離間隙起輔助影響;R4對(duì)分離間隙起主要作用。

        圖3 z向系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)氣路控制圖

        1.3.1 空氣軸承

        空氣軸承按雙列環(huán)形布置節(jié)流孔。采用帶氣腔的噴嘴節(jié)流形式。

        實(shí)驗(yàn)過程中,空氣軸承供氣后,空氣軸承套與導(dǎo)向桿配合面之間形成氣膜,空氣軸承套在徑向的偏移受阻,用手不能晃動(dòng),證明它具有較高的徑向剛度,氣缸運(yùn)行非常平穩(wěn)輕柔??諝廨S承的耗氣量較小,將手放在試驗(yàn)裝置上方才能微微感覺其排氣。

        1.3.2 氣缸

        實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)見表1。

        表1 氣缸實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)

        從表1中可以看出,氣缸的啟動(dòng)壓力為0.04 MPa,在0.04 MPa下,其速度非常慢,低于10 mm/s,氣缸低速運(yùn)行平穩(wěn),無爬行現(xiàn)象,但未走完全程。通過精密減壓閥逐漸增大氣缸壓力到0.1 MPa,可以看到氣缸的速度逐漸增大,氣缸行程也有較高的一致性。這說明氣缸在沒有密封摩擦的情況下,對(duì)壓力的變化非常敏感,因此找平力的調(diào)整可以做到方便、精密。去掉氣缸中的壓力,氣缸能很快落下,氣缸抬升過程中無轉(zhuǎn)動(dòng)。

        1.3.3 鎖緊裝置的性能

        (1)不加負(fù)載:氣缸供氣壓力為0.1 MPa,鎖緊壓力為0.4 MPa,在氣缸上升過程中的任意位置按下鎖緊按鈕,氣缸停住1~2 s后繼續(xù)向上竄動(dòng),未達(dá)到鎖緊要求;氣缸供氣壓力為0.1 MPa,鎖緊壓力增大到0.5 MPa,重復(fù)上述步驟可以鎖緊;

        (2)加650 g負(fù)載:氣缸供氣壓力為0.1 MPa,鎖緊壓力為0.4 MPa,在氣缸上升過程中的任意位置按下鎖緊按鈕,氣缸停止1~2 s后繼續(xù)向上竄動(dòng),未達(dá)到鎖緊要求;氣缸供氣壓力為0.1 MPa,鎖緊壓力增大到 0.5 MPa,重復(fù)上述步驟可以鎖緊。

        1.3.4 微分離量調(diào)整和重復(fù)精度

        負(fù)載650 g,空氣軸承供氣壓力0.5 MPa,滾動(dòng)隔膜氣缸壓力0.1 MPa,鎖緊環(huán)供氣壓力0.5 MPa,每次在氣缸上升到估計(jì)的工作行程時(shí)鎖緊,測(cè)相隔120°的3個(gè)點(diǎn)的分離間隙。表2給出了其中一組實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),從所得數(shù)據(jù)中可以看出,不同的分離壓力對(duì)應(yīng)不同的分離間隙,在相同的分離壓力下分離間隙的波動(dòng)也較小,具有較好的一致性,可以通過控制分離壓力得到不同的微分離距離。

        通過以上幾方面的實(shí)驗(yàn),說明z向運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)在原理上是正確的,在正式實(shí)施之前還有以下幾點(diǎn)需要考慮:

        (1)在相同分離壓力下分離間隙有小的波動(dòng),可能是因?yàn)殒i緊力不夠即鎖緊間隙過大造成,可以在設(shè)計(jì)時(shí)減小鎖緊間隙;

        (2)用于鎖緊及分離的鎖緊環(huán)、鎖緊片和膜片的材料選擇需進(jìn)一步考慮。

        2 結(jié)束語

        設(shè)計(jì)了一種曝光機(jī)的新型z向系統(tǒng)方案,該方案采用氣動(dòng)驅(qū)動(dòng)的方式,通過控制氣體壓力來調(diào)整接觸力,對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化;通過空氣軸承導(dǎo)向減少漂移,提高套刻精度,完成找平、微分離的自動(dòng)控制,提高曝光機(jī)的工作效率、操作方便性、工藝適應(yīng)性以及設(shè)備的可靠性。并通過實(shí)驗(yàn)對(duì)其部分功能進(jìn)行了驗(yàn)證,為進(jìn)一步實(shí)用化奠定了基礎(chǔ)。

        表2 微分離實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)

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