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        箔條云散射特性測(cè)量與分析

        2010-06-05 09:14:54曾勇虎秦衛(wèi)東
        電光與控制 2010年1期
        關(guān)鍵詞:測(cè)量模型

        曾勇虎,張 偉,秦衛(wèi)東,蒙 潔

        (中國(guó)人民解放軍63880部隊(duì),河南 洛陽 471003)

        0 引言

        箔條是最常用的無源干擾材料,箔條干擾技術(shù)是對(duì)付雷達(dá)的有效手段。箔條干擾最基本的電性能指標(biāo),是箔條彈被投出后箔條在空間散開形成箔條云團(tuán)的雷達(dá)散射截面(RCS)。研究箔條云電磁散射問題可分為兩種方法,即確定方法和統(tǒng)計(jì)方法。由于要確定箔條的運(yùn)動(dòng)十分困難,并且可處理的箔條數(shù)目也受到限制,用確定方法非常復(fù)雜。箔條云是大量隨機(jī)運(yùn)動(dòng)的偶極子集合體,用統(tǒng)計(jì)方法研究箔條云散射特性無疑是合理的[1-2]。

        箔條在空中的運(yùn)動(dòng)使得每根箔條散射信號(hào)的振幅和相位都是隨機(jī)變量。通常幅度變化很小可以忽略,認(rèn)為所有箔條散射幅度相等。相位變化影響很大,箔條之間相對(duì)相位的變化使得散射信號(hào)出現(xiàn)起伏[3]。文獻(xiàn)[1-7]對(duì)箔條云散射特性的測(cè)量技術(shù)及測(cè)量精度進(jìn)行了分析,并對(duì)箔條云RCS的概率分布進(jìn)行研究。本文比較分析了箔條云散射特性測(cè)量技術(shù),進(jìn)而開展了箔條云外場(chǎng)動(dòng)態(tài)測(cè)量實(shí)驗(yàn),并對(duì)實(shí)測(cè)箔條云RCS的概率分布進(jìn)行了擬合與檢驗(yàn),對(duì)箔條云散射特性與時(shí)間、頻率等之間的關(guān)系進(jìn)行了分析。

        1 箔條散射特性測(cè)量方法

        箔條散射特性的測(cè)量與散射體的測(cè)量是一致的。對(duì)于箔條,測(cè)試具有下列意義[1]:1)被掩護(hù)目標(biāo)的RCS要通過測(cè)試來得到;2)檢驗(yàn)設(shè)備實(shí)際使用效果要通過測(cè)試來進(jìn)行;3)干擾基礎(chǔ)理論研究的需要;4)干擾基礎(chǔ)材料研究的需要;5)無源干擾物特性參數(shù)測(cè)量的需要。

        箔條散射特性測(cè)量方法根據(jù)測(cè)量場(chǎng)合可分為暗室測(cè)量和外場(chǎng)測(cè)量。在暗室一般是利用箔條云模型進(jìn)行測(cè)量,其優(yōu)點(diǎn)是方便快捷,但是對(duì)于運(yùn)動(dòng)目標(biāo)的閃爍、起伏等特性不可能得到。箔條的外場(chǎng)測(cè)量又可再分為靜態(tài)測(cè)量和動(dòng)態(tài)測(cè)量:所謂靜態(tài)測(cè)量,就是應(yīng)用高架塔等設(shè)施,將箔條彈固定在某一高度和位置后起爆,然后對(duì)箔條彈形成的箔條云進(jìn)行測(cè)量,其優(yōu)點(diǎn)是遠(yuǎn)場(chǎng)條件容易滿足且測(cè)量相對(duì)易于實(shí)施,但是固定目標(biāo)的支架以及地物等背景干擾不容忽視;而動(dòng)態(tài)測(cè)量,是對(duì)目標(biāo)在實(shí)際工作環(huán)境中(如飛機(jī)拋撒箔條云或箔條彈發(fā)射后引爆)進(jìn)行測(cè)量,可以獲得目標(biāo)的各種動(dòng)態(tài)特性,而且遠(yuǎn)場(chǎng)條件容易滿足,也避免了背景干擾。

        對(duì)于箔條干擾,靜態(tài)測(cè)量一般用于干擾材料的基礎(chǔ)研究中,如對(duì)新的化學(xué)干擾材料或吸收材料電特性的測(cè)量。若要檢驗(yàn)箔條干擾的實(shí)際效果,應(yīng)該采用動(dòng)態(tài)測(cè)量方法。這是因?yàn)椴瓧l在空中形成有效RCS的時(shí)間、RCS的擴(kuò)散曲線以及箔條下降速度等特性與所處環(huán)境、氣象條件等因素密切相關(guān),必須在實(shí)際使用中進(jìn)行測(cè)量。本文對(duì)箔條云散射特性的研究正是基于外場(chǎng)動(dòng)態(tài)測(cè)量進(jìn)行的,圖1為箔條云電磁散射特性動(dòng)態(tài)測(cè)量示意圖。

        圖1 外場(chǎng)動(dòng)態(tài)測(cè)量示意圖Fig.1 Dynamic measurement schematic

        2 測(cè)量數(shù)據(jù)分析

        本文采用外場(chǎng)動(dòng)態(tài)測(cè)量方法,對(duì)箔條云在S波段和X波段的散射特性進(jìn)行了測(cè)量。圖2a、2b分別為箔條云在S波段和X波段RCS的測(cè)量值曲線。

        圖2 箔條云RCS測(cè)量值曲線Fig.2 Measured curves of chaff’s RCS

        下面采用χ2分布來擬合箔條云動(dòng)態(tài)RCS的統(tǒng)計(jì)分布規(guī)律,其定義為[8-9]

        χ2分布模型是具有通用性的RCS起伏統(tǒng)計(jì)模型,包含了傳統(tǒng)的Swerling模型。譬如,當(dāng)k=1時(shí),式(1)變?yōu)橹笖?shù)分布,對(duì)應(yīng)SwerlingⅠ模型。

        圖3a、3b分別為箔條云在S波段和X波段RCS概率密度的測(cè)量曲線和擬合結(jié)果。

        圖3 箔條云RCS概率密度擬合結(jié)果Fig.3 Measured and fitted probability density of chaff’s RCS

        箔條云在S波段和X波段的RCS概率密度χ2分布擬合k值分別為2.26和3.47。

        為了檢驗(yàn)擬合優(yōu)度,采用χ2檢驗(yàn)方法來計(jì)算擬合優(yōu)度,計(jì)算結(jié)果:S 波段和 X 波段的 χ2檢驗(yàn)統(tǒng)計(jì)量分別為10.20和17.37。需要說明的是,在計(jì)算門限值·(m -k-1)時(shí),由于所擬合的 χ2分布中未知參數(shù)的個(gè)數(shù)為2,因此取k=2。另外,根據(jù)測(cè)量值的樣本數(shù)以及統(tǒng)計(jì)直方圖,在檢驗(yàn)時(shí)取m=10。取檢驗(yàn)顯著性水平 α=0.01,則有( m-k -1)=18.48。可以看出,此時(shí)檢驗(yàn)結(jié)果為服從“起伏模型為χ2分布”的原假設(shè),即所測(cè)箔條云的RCS在S波段和X波段均服從χ2分布。

        根據(jù)上述測(cè)量曲線及擬合與檢驗(yàn)結(jié)果,被測(cè)箔條云RCS特性可總結(jié)如下:

        1)箔條云RCS的概率密度基本上服從χ2分布,但箔條云RCS的起伏與飛機(jī)目標(biāo)相比更為平緩,這一點(diǎn)從擬合k值也可看出,本文實(shí)驗(yàn)中箔條云的擬合k值大于2,而在以往的飛機(jī)測(cè)量實(shí)驗(yàn)中,擬合k值一般在1~2之間;

        2)箔條云RCS的起伏隨著頻率的升高而減小,表現(xiàn)在其擬合k值隨著頻率的升高而增大(在本文中S波段為2.26,X波段為3.47),究其原因,是因?yàn)轭l率升高則波長(zhǎng)減小,箔條間互耦效應(yīng)的最小間隔(通常認(rèn)為是2λ)更容易得到滿足,也就是說頻率較高時(shí)箔條之間互耦效應(yīng)較小,箔條之間更接近非相干模型;

        3)箔條云形成之后,隨著時(shí)間的推移,箔條云的RCS將逐漸減小,這在測(cè)量時(shí)間相對(duì)較長(zhǎng)的圖2b中比較明顯,究其原因,是因?yàn)殡S著時(shí)間的推移,箔條將進(jìn)一步擴(kuò)散,箔條密度下降,因此其RCS將減小。

        3 結(jié)束語

        箔條是雷達(dá)無源干擾技術(shù)中應(yīng)用最早且效果最好的干擾器材。而箔條干擾的實(shí)際效果,應(yīng)該采用外場(chǎng)動(dòng)態(tài)測(cè)量來檢驗(yàn)。本文對(duì)箔條云在S波段和X波段的散射特性進(jìn)行了外場(chǎng)動(dòng)態(tài)測(cè)量實(shí)驗(yàn),并對(duì)實(shí)測(cè)箔條云RCS的概率分布進(jìn)行了擬合與檢驗(yàn),對(duì)箔條云散射特性與時(shí)間、頻率等之間的關(guān)系進(jìn)行了分析。本文結(jié)果可為箔條彈的性能檢驗(yàn)提供依據(jù),其方法也可為動(dòng)態(tài)目標(biāo)散射特性測(cè)量與分析提供參考。

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        [11]曾勇虎,張偉,孟宏斌,等.飛機(jī)目標(biāo)動(dòng)態(tài)RCS的分布模型及其擬合優(yōu)度檢驗(yàn)[C]//電子對(duì)抗分會(huì)電子對(duì)抗專委會(huì)第六屆學(xué)術(shù)年會(huì)論文集,2008:424-428.

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