專利實(shí)例

化學(xué)鍍錫兩則

20101101 一種還原型化學(xué)鍍錫溶液

該發(fā)明所提供的是一種適合于實(shí)際應(yīng)用的還原型化學(xué)鍍錫溶液。該化學(xué)鍍錫溶液在銅或銅合金基體上很少發(fā)生置換反應(yīng)，它可以穩(wěn)定地高速沉積錫鍍層，可以獲得高的生產(chǎn)效率，它既不引起導(dǎo)體的破壞也不引起微細(xì)導(dǎo)電線條圖案的向外生長(zhǎng)。該還原型化學(xué)鍍錫溶液由以下組分構(gòu)成:一種水溶性錫化合物，一種水溶性鈦化合物，一種有機(jī)絡(luò)合劑以及選自硫醇化合物和硫化物的一種有機(jī)硫化合物。

(世界知識(shí)產(chǎn)權(quán)組織專利)WO/2009/157334(2009-12-30)

20101102 化學(xué)鍍焊錫鍍層的觸媒賦予液

該發(fā)明提供了一種在銅系導(dǎo)電線路基材上直接化學(xué)鍍覆焊錫鍍層的觸媒賦予液。該觸媒賦予液含有一種水溶性金化合物和一種螯合劑。采用該觸媒賦予液對(duì)銅及銅合金基材的導(dǎo)電線路線條表面上化學(xué)鍍覆焊錫鍍層，所得鍍錫層厚度均勻，而且鍍錫層在線路的線條間不產(chǎn)生橋接。該發(fā)明還提供了在銅及銅合金基材表面化學(xué)鍍焊錫層的方法。用該觸媒賦予液和該化學(xué)鍍焊錫層的方法所得焊錫鍍層中ρA(Au)=0.3g/m2，沉積物就在薄層金上形成。

(世界知識(shí)產(chǎn)權(quán)組織專利)WO/2009/142126(2009-11-26)

凈化電解液的裝置

20101103 一種電鍍液活性炭處理裝置

該發(fā)明提供了一種電鍍液活性炭處理裝置，它采用明流式活性炭粉回收機(jī)，配有增強(qiáng)型丙烯炭粉型濾布，結(jié)合活性炭粉加收機(jī)，采用正錐體結(jié)構(gòu)炭處理槽設(shè)計(jì)、管道式防抽干裝置保護(hù)，在活性炭處理工藝流程中，引入了氣動(dòng)隔膜泵和專用活性炭粉回收機(jī)回收處理電鍍液用過的活性炭粉。處理裝置簡(jiǎn)單，運(yùn)行快速，過程直觀可視，同時(shí)可回收處理電鍍液添加的活性炭粉，其能滿足常見電鍍液對(duì)活性炭的處理工藝要求，處理周期短，而且處理后的鍍液能馬上轉(zhuǎn)移至電鍍槽使用，無需擔(dān)心漏活性炭粉造成電鍍槽的污染和電鍍液的二次污染。過濾機(jī)配設(shè)的預(yù)備槽可更多的儲(chǔ)備處理好的電鍍液滿足生產(chǎn)線主槽的需要。

(中國(guó)專利)CN 101698959A(2010-04-28)

廢水處理兩則

20101104 一種電鍍漂洗廢水的處理方法

一種電鍍漂洗廢水的處理方法為:采用帶有雙極膜的電去離子膜堆裝置處理電鍍漂洗廢水。電去離子膜堆含五個(gè)隔室，從負(fù)極到正極依次用一張陰離子交換膜，一張陽(yáng)離子交換膜，一張雙極膜和一張陰離子交換膜隔開，依次形成負(fù)電極室、濃縮室、第一淡化室、第二淡化室和正電極室。在濃縮室和第一淡化室中填充大孔強(qiáng)酸性陽(yáng)離子交換樹脂，第二淡化室中填充大孔強(qiáng)堿性陰離子交換樹脂。待處理的廢水依次流經(jīng)第一淡化室和第二淡化室，分別除去陽(yáng)離子和陰離子而得到淡化純水，陽(yáng)離子經(jīng)由第一淡化室，陰離子先后經(jīng)由第二淡化室和正、負(fù)電極室遷移進(jìn)入濃縮室得到濃縮水。雙極膜水解離產(chǎn)物H+和OH－離子分別對(duì)兩個(gè)淡化室中填充的陽(yáng)、陰離子交換樹脂進(jìn)行高效實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)再生。該廢水處理工藝避免了電去離子膜堆內(nèi)部的結(jié)垢形成，處理過程不需使用酸、堿再生離子交換樹脂，無二次污染，實(shí)現(xiàn)了電鍍漂洗廢水的無害化和資源化處理。

(中國(guó)專利)CN 101694007A(2010-04-14)

20101105 一種電鍍除蠟工藝廢水的處理方法

該發(fā)明涉及一種電鍍除蠟工藝廢水的處理方法，其特征在于包括如下步驟:首先對(duì)電鍍除蠟工藝廢水進(jìn)行預(yù)處理;再將經(jīng)過預(yù)處理后的電鍍除蠟工藝廢水引入特定孔徑膜分離裝置進(jìn)行分離，分離出來的蠟進(jìn)行循環(huán)濃縮回收，除蠟劑則直接回生產(chǎn)線使用;最后根據(jù)特定孔徑膜分離裝置的運(yùn)行情況，對(duì)特定孔徑膜分離裝置進(jìn)行及時(shí)的清洗。該方法能夠有效減少化學(xué)需氧量排放總量，而且還能對(duì)廢水中的除蠟劑進(jìn)行回用，實(shí)現(xiàn)電鍍廢水治理的清潔生產(chǎn)、總量控制和循環(huán)利用。

(中國(guó)專利)CN 101633535(2010-01-27)

電鍍貴金屬兩則

20101106 一種電鍍金溶液

該發(fā)明是關(guān)于具有特定組成的電鍍金電解液以及采用這種電鍍金電解液在鎳鍍層表面獲得金鍍層的方法。該電鍍金電解液適合于鎳阻擋層鍍覆同時(shí)維持鍍金層優(yōu)良的機(jī)械性能、耐磨耗性能以及電氣性能，這種鍍金電解液能夠抑制金鍍層在部件上不需要鍍金的部分上的沉積，而在需要鍍金的部分沉積出令人滿意的金鍍層。電解液中含有一種氰化金鹽作金的來源，還含有一種雜環(huán)化合物，在其環(huán)上有一個(gè)或多個(gè)氮原子，還含有一個(gè)或多個(gè)硝基(硝基取代了碳原子上的氫原子)。

(世界知識(shí)產(chǎn)權(quán)組織專利)WO/2009/150915(2009-12-27)

20101107 一種環(huán)保型無氰鍍銀電解液

該發(fā)明提供了一種不含氰化物的環(huán)保型無氰鍍銀鍍液，該電鍍液含有銀離子來源物，氨基酸類化合物或其衍生物作配位劑，還含有輔助配位劑及添加劑。具體配方及工藝條件如下:0.01～1.00mol/L銀鹽、0.01～10.00mol/L 氨基酸類化合物或其衍生物、0.002～2.000mol/L 輔助配位劑、0.001～2.000g/L 添加劑，pH為6～14，θ為10～70℃。與傳統(tǒng)的氰化物鍍銀配方相比，該鍍銀液具有清潔電鍍的特點(diǎn)，同時(shí)鍍液中的銀離子與銅及銅合金基體的置換速率非常慢，鍍銀過程中可直接電鍍，無需預(yù)鍍銀或預(yù)浸銀，鍍層光亮，鍍層與基體結(jié)合力好。

(中國(guó)專利)CN 101665963(2010-03-10)

電子電鍍

20101108 高效率電鍍鎵薄膜

鎵薄膜在電子元器件如太陽(yáng)能電池的制造上非常有用，該發(fā)明提供了一種高效率電鍍鎵薄膜的電解液組成以及用這種電解液電鍍鎵薄膜的方法。在一個(gè)具體例子中，該發(fā)明提供了一種在導(dǎo)體上應(yīng)用的鍍鎵電解液。該電解液中含有鎵鹽、絡(luò)合劑和溶劑。用該電解液可以在導(dǎo)體上沉積出亞微米級(jí)的鎵薄膜。該電解液中還可以含有銅鹽及銦鹽中的一種，也可以同時(shí)含有銅鹽和銦鹽，鎵鹽可以選用氯化物及硫酸鹽等，絡(luò)合劑可以選用檸檬酸鹽以及EDTA，溶劑為水，電解液的pH為9～14。

(美國(guó)專利)US 7507321(2009-03-24)

化學(xué)鍍鎳

20101109 電溶解鎳補(bǔ)充化學(xué)鍍鎳溶液鎳離子的方法

該專利發(fā)明的方法為用電解方法將金屬鎳溶解以補(bǔ)充化學(xué)鍍鎳槽中化學(xué)鍍鎳過程所消耗的鎳離子。該方法可以避免往化學(xué)鍍鎳槽液中補(bǔ)充鎳鹽而帶入不需要的陰離子，提高鍍液pH的穩(wěn)定性，并減少pH調(diào)整劑的添加。具體做法如下:1)在含有鎳離子和次磷酸根等的化學(xué)鍍鎳液中，在欲鍍覆的基體上化學(xué)鍍鎳;2)在該化學(xué)鍍鎳溶液中放入鎳陽(yáng)極;3)在用離子交換膜與化學(xué)鍍鎳槽分隔開的陰極室中放入陰極，并注入一種酸或其鹽溶液作為陰極液，將陰極和陽(yáng)極與直流電源相連接構(gòu)成電的通路;4)按鎳陽(yáng)極溶解最合適的電流密度通以電流，鎳便溶解為鎳離子進(jìn)入化學(xué)鍍鎳液中，從而使化學(xué)鍍消耗的鎳離子得以補(bǔ)充。

(世界知識(shí)產(chǎn)權(quán)組織專利)WO/2009/114217(2009-09-17)

覃奇賢 編譯