摘要:研究分析了傳統(tǒng)低壓差線性穩(wěn)壓器(low dropout regulator,LDO)的結(jié)構(gòu)、電源紋波對輸出端的影響。針對傳統(tǒng)LDO 相位裕度不夠,電源電壓抑制(power supply rejection,PSR)效果下降的情況,采用0.35 μm 標(biāo)準(zhǔn)互補金屬氧化物半導(dǎo)體(complementary metal-oxide-semiconductor,CMOS)工藝設(shè)計了一款高性能、高PSR 的LDO,在較寬的負載電流范圍內(nèi)有較好的相位裕度與電源抑制。仿真結(jié)果表明,負載電流為5 mA 時的低頻PSR 為-49 dB,負載電流為75 mA 時的低頻PSR 可達-79 dB;系統(tǒng)在負載電流范圍為5 ~ 75 mA 內(nèi)均能正常工作,且該范圍內(nèi)的相位裕度均超過55°。
關(guān)鍵詞:低壓差線性穩(wěn)壓器(LDO);電源電壓抑制(PSR);相位裕度;高增益
中圖分類號:TN432;TM44 文獻標(biāo)識碼:A
0 引言
隨著現(xiàn)代科技的不斷發(fā)展,電子設(shè)備的性能也不斷提高。芯片是大多數(shù)電子設(shè)備中不可或缺的部分,其常見的供電系統(tǒng)主要包括開關(guān)電源、低壓差線性穩(wěn)壓器(low dropout regulator,LDO)、電荷泵等。在這些供電系統(tǒng)中,LDO 具有極小的輸出電壓紋波和較低的功率損耗,并且不斷縮小的LDO輸入與輸出之間的差值,也可以使LDO 具有較好的能量轉(zhuǎn)換效率[1]。
近年來,關(guān)于LDO 性能提升的研究很多。例如,韓旭等[2] 提出基于翻轉(zhuǎn)電壓跟隨器(flippedvoltage follower,F(xiàn)VF) 的無片外電容LDO, 在1.2 V 的電源下靜態(tài)消耗電流為13.2 μA,下沖電壓為341 mV。由此可以看出,其靜態(tài)功耗較低,但下沖電壓過大,對于限制下沖電壓的場合顯然不適用。肖皓洋等[3] 提出了一種LDO,其電源電壓抑制(power supply rejection,PSR)效果顯著,但是功耗過高。本文通過采用折疊式共源共柵結(jié)構(gòu)放大器和低壓共源共柵電流鏡負載中間級的方法,極大提高了LDO 低頻的PSR,設(shè)計實現(xiàn)了一款輸入電壓為2 V、輸出電壓為1.7 V 的高PSR 的 LDO。
1 LDO分析
1.1 LDO 原理介紹
傳統(tǒng)LDO 結(jié)構(gòu)主要由誤差放大器、功率管以及反饋網(wǎng)絡(luò)構(gòu)成。LDO 的主要工作原理是采集來自電阻反饋網(wǎng)絡(luò)的輸出電壓,將其與一個參考電壓進行對比,再由誤差放大器將電壓差信號放大,輸送至功率管的柵端進行線性調(diào)整,使輸出電壓與參考電壓維持相應(yīng)的比值不變,從而產(chǎn)生穩(wěn)定的電壓輸出[4]。
1.2 LDO 的PSR 分析
PSR 反映了系統(tǒng)對于輸入電源所帶紋波傳遞到其輸出端的抑制效果。圖1 展示了LDO 紋波產(chǎn)生的主要來源。通常LDO 的紋波主要包括兩條傳播路徑:一條是誤差放大器上的輸入電壓VIN 的紋波和參考電壓 VREF 產(chǎn)生的紋波可以通過后續(xù)電路經(jīng)功率管MP 傳遞到輸出端;另外一條是VIN 產(chǎn)生的紋波直接經(jīng)功率管傳遞到輸出端。
誤差放大器的輸入電源電壓VIN 和參考電壓VREF 上的紋波傳輸至輸出端時產(chǎn)生的影響可以表示如下[5]:
式中,VIN_ripple 為誤差放大器在VIN 處的紋波電壓,VOUT_ripple 為誤差放大器在VOUT 處的紋波電壓,gm,p為功率管MP 的跨導(dǎo),Ztot 為輸出端等效總阻抗,Aeo為誤差放大器的增益,S 為復(fù)頻域因子,R1、R2 為反饋電阻,Pe 為誤差放大器的主極點,PSRRe 為誤差放大器的電源抑制比,PSRBG 為提供VREF 恒定電壓的電壓基準(zhǔn)源電源抑制。
由式(1)可以看出,當(dāng)頻率(復(fù)頻域因子S)升高時,由于誤差放大器主極點Pe 的存在,式(1)將趨近于0。因此,由誤差放大器和電壓基準(zhǔn)源產(chǎn)生的紋波將不會傳輸?shù)捷敵龆?,LDO 具有良好的PSR 效果。
圖2 為LDO 輸出端紋波電壓傳輸路徑等效示意圖,處于功率管MP 的源端由電源輸入電壓VIN 產(chǎn)生的紋波對輸出端紋波的影響分析如下。
已知PSR 的定義:
由圖2 可知,經(jīng)功率管源端的紋波輸入與 VOUT端的紋波輸出間滿足rds(功率管MP 源漏間的等效電阻)與 Zo-(f 考慮了電壓負反饋效果后的實際阻抗)的分壓關(guān)系。通過電阻分壓可以得到:
式中,β 為反饋系數(shù),AOL 為LDO 的開環(huán)增益。
因此式(2)可以轉(zhuǎn)化為:
由式(4)可知,開環(huán)增益越大,PSR 效果越好。因此,本文采用能提供高增益的折疊式共源共柵放大器作為誤差放大器,從而保證較高的PSR。
1.3 LDO 的PSR 提升方案
傳統(tǒng)提升 PSR 的電路結(jié)構(gòu)如圖3 所示,其中BUFFER 為緩沖級,VFB 為反饋電壓,電路主要通過在功率管前級增加一個柵漏短接的 MOS 管來實現(xiàn)。當(dāng) VIN(M2 的源端)上存在紋波時,由于晶體管M1 的電流恒定,且M1 的電流流過晶體管M2,因此M2 的電流也保持不變。同時,M2 的柵端也必須產(chǎn)生相等的紋波電壓,才能使得 M2 的電流保持不變。M2 的電流I 計算公式:
式中,K 為常數(shù),W/L 為M2 的寬長比,VS、VG 分別為M2 的源、柵端電壓,V_ripple1 為M2 的S 端的紋波電壓,V_ripple2 為M2 的G 端的紋波電壓,Vthp 為M2 的閾值電壓。
由式( 5) 可知,為了滿足電流恒定,當(dāng) VIN 上存在V_ripple1 時,M2 的柵端必須產(chǎn)生與V_ripple1 數(shù)值相等的V_ripple2。而 M2 的柵端與功率管MP 的柵端相連,因此功率管MP 柵源端存在相等的紋波電壓,所以流過MP 的電流不受電源紋波的影響,從而使得VOUT 處的電壓不受電源紋波的影響。
但是當(dāng)考慮溝道長度調(diào)制效應(yīng)時,I 的計算公式則變?yōu)椋?/p>
式中,λ 為溝道調(diào)制系數(shù),VSD 為晶體管的源漏電壓。
由式(6) 可知, 電流 I 的表達式增加了(1+λVSD)。因為M1 管的源端接地, 所以流過M1 的電流會隨著其漏端電壓發(fā)生變化。這使得V_ripple1 ≠ V_ripple2,因此會將V_ripple 引入 M1 的電流。
而 M1 的漏端又與 M2 的柵端相連,從而使得MP 的源端紋波電壓與柵端紋波電壓不相等,導(dǎo)致MP 產(chǎn)生不純凈的電流,使得VOUT 存在紋波。
基于此,本文采用一種基于柵漏跨接晶體管作為P 溝道MOS 管負載的鏡像電路作為緩沖級。如圖4 所示,流過M2 的電流I 受VIN 紋波電壓的影響:
式中,gm1 為M1 的等效跨導(dǎo),ro1、ro3 分別為晶體管M1、M3 的等效電阻。
而傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)導(dǎo)致的紋波電壓對電流的影響:
式中,ro2 為晶體管M2 的等效阻抗。
可以看出電流受紋波的影響減小了 M1 的本征增益倍,因此 LDO 的輸出端紋波得到抑制。
由波紋的傳輸路徑分析可以看出,誤差放大器輸入端 VREF 紋波及功率管源端紋波,都會影響LDO 的低頻 PSR,而高頻處的PSR 主要受功率管源端的紋波影響,因此本文采用折疊式共源共柵放大器來提升低頻PSR,并且通過帶緩沖級的PSR 提升結(jié)構(gòu)對高頻PSR 進行抑制。
2 LDO電路結(jié)構(gòu)設(shè)計
2.1 LDO 整體電路介紹
本文設(shè)計的LDO 整體結(jié)構(gòu)如圖 5 所示。與傳統(tǒng)的LDO 相比,本設(shè)計采用了多級級聯(lián)的結(jié)構(gòu)。其中,第一級采用折疊式共源共柵結(jié)構(gòu);第二級采用低壓共源共柵電流鏡負載結(jié)構(gòu)。第二級的輸出接到功率管MP 的柵極,LDO 輸出端設(shè)置分壓電阻反饋網(wǎng)絡(luò)和負載電容等效串聯(lián)電阻( equivalent seriesresistance,ESR) 補償結(jié)構(gòu)。
圖5 中M2 ~ M11 構(gòu)成折疊式共源共柵結(jié)構(gòu),為 LDO 提供較大的環(huán)路增益,同時使得LDO 在低頻下具有較高的PSR。M12 作為帶電流鏡負載的共源級放大器的輸入,晶體管M13、M14、M15、M16共同構(gòu)成低壓共源共柵電流鏡,使得流過M17(柵漏短接的 MOS 管)的電流更純凈,并且在M17 柵端產(chǎn)生與VIN 端大小相等的紋波電壓,從而減小輸出電壓的紋波擾動。為了給負載提供較大的輸出電流,需要將MP 的尺寸設(shè)計得較大。由分壓電阻R1、R2 及誤差放大器構(gòu)成的反饋網(wǎng)絡(luò)通過負反饋機制使得輸出電壓穩(wěn)定在1.7 V。當(dāng)負載電流突然產(chǎn)生變化時,由于負載電容CL 的存在,使得輸出電壓不至于產(chǎn)生突然的急劇變化。由于負載電容上的等效串聯(lián)電阻RESR 的存在,會產(chǎn)生左半平面的零點,從而抵消次極點的影響。由于共源共柵放大器的輸出電阻極大,使得第一級輸出端的極點頻率較低,進而導(dǎo)致系統(tǒng)不穩(wěn)定。因此,在第一級共源共柵放大器的輸出端與功率管的漏端之間接上具有調(diào)零電阻的密勒電容Cm 進行頻率補償,增加系統(tǒng)的相位裕度。
2.2 環(huán)路穩(wěn)定性
基于電路結(jié)構(gòu),推導(dǎo)出本文設(shè)計的LDO 的傳輸方程計算公式:
式中,Lo 為低頻環(huán)路增益,P1、P2、P3 分別為第一級放大器輸出端極點、功率管柵端極點以及LDO輸出端極點,Z1、Z2 為系統(tǒng)的兩個零點。
式(9)中的Lo、P1、P2、P3、Z1、Z2 的計算公式如下:
式中,gm3 為折疊共源共柵結(jié)構(gòu)的輸入管M3 的跨導(dǎo),gm7 為晶體管M7 的跨導(dǎo),ro5、ro7、ro17 為晶體管M5、M7、M17 的等效輸出電阻,gm12 為第二級輸入管 M12 的跨導(dǎo),gm,p 為MP 的跨導(dǎo),rm,p 為MP的等效電阻,Cm、Rm 分別為密勒電容和調(diào)零電阻,CL 為負載電容,RESR 為輸出電容串聯(lián)等效電阻。
環(huán)路存在3 個極點,這會導(dǎo)致系統(tǒng)不穩(wěn)定,因此選擇在 Cm 處串聯(lián)Rm,以產(chǎn)生一個零點來對環(huán)路的頻率響應(yīng)進行補償。為降低由于負載電流的突然變化導(dǎo)致的輸出電壓的瞬間變化所造成的不良影響,通常在輸出端接大電容。這個因素加上輸出端的等效大電阻,導(dǎo)致輸出端極點頻率較低,進而影響電路的穩(wěn)定性。通過選取合適的電阻、電容取值,使第三極點和第二零點處于高于單位增益帶寬(unity-gain bandwidth,UGB)的地方,并且讓第一零點 Z1 的位置盡可能靠近次極點,以抵消其對系統(tǒng)相位裕度變化的影響,提升系統(tǒng)的穩(wěn)定性。
3 電路仿真分析
本文設(shè)計的LDO 采用2 V 的輸入電源電壓,輸出電壓為1.7 V,最大負載電流為75 mA,電壓差為0.3 V。LDO 輸出端負載電容為4.5 μF,其串聯(lián)等效電阻為2.5 Ω。為了驗證該 LDO 的環(huán)路穩(wěn)定性和電源抑制效果,本文基于0.35 μm 標(biāo)準(zhǔn)互補金屬氧化物半導(dǎo)體(complementary metal-oxide-semiconductor,CMOS)工藝,通過Cadence Virtuoso 仿真平臺進行測試仿真。
3.1 環(huán)路穩(wěn)定性仿真
圖 6 展示了 LDO 在 5 ~ 75 mA 負載電流范圍內(nèi)工作時的相位裕度和環(huán)路增益。從圖6 可以看出,系統(tǒng)在全域范圍內(nèi)相位裕度均大于55°,環(huán)路增益均超過80 dB。此外,隨著負載電流的增加,相位裕度不斷增加,系統(tǒng)的穩(wěn)定性不斷增強,符合消費性電子應(yīng)用需求。
3.2 PSR 仿真
圖7 為不同負載電流下 LDO 的PSR 曲線圖。由圖7 可知,本文 LDO 在中低頻有良好的電源紋波抑制效果,負載電流為5 mA 時,LDO 的低頻(< 1 MHz) PSR 可達-48 dB,當(dāng)頻率為 1 MHz 時,LDO 的 PSR 為 -46 dB;當(dāng)頻率達到 10 MHz 時,LDO 的PSR 仍可達 -37 dB。負載電流為75 mA時,LDO 的低頻直流增益可達-79 dB;當(dāng)頻率為1 MHz 時,LDO 的PSR 仍可達-55 dB;當(dāng)頻率為10 MHz 時,LDO 的PSR 為-37 dB。
本文與其他文獻中LDO 的性能對比如表1 所示,可以看出,本文LDO 較其他LDO 具有更高的低頻 PSR。
4 結(jié)論
本文提出了一種高增益、高PSR 的LDO 結(jié)構(gòu),該 LDO 在輕載到重載工作范圍內(nèi)均有良好的系統(tǒng)穩(wěn)定性。本文分析了傳統(tǒng)補償方法存在的不足,討論了本文提出的設(shè)計結(jié)構(gòu)的優(yōu)勢,對LDO 的PSR進行了推導(dǎo)分析,指出了傳統(tǒng)LDO 在PSR 方面表現(xiàn)不優(yōu)的原因,并對傳統(tǒng) LDO 結(jié)構(gòu)進行改進以提升其PSR 性能。采用 0.35 μm 標(biāo)準(zhǔn)CMOS 工藝對LDO 的各項性能進行仿真驗證,結(jié)果表明,本文設(shè)計的LDO 在設(shè)定負載范圍內(nèi)均能正常穩(wěn)定工作。對于不同負載電流下的PSR 進行仿真,結(jié)果表明在符合應(yīng)用要求的負載范圍內(nèi)該LDO 具有良好的電源抑制能力。
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