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        一種高功率射頻MEMS開關(guān)設(shè)計(jì)*

        2023-06-05 00:49:20寧朝東吳倩楠王俊強(qiáng)李孟委
        艦船電子工程 2023年2期
        關(guān)鍵詞:設(shè)計(jì)

        寧朝東 吳倩楠 王俊強(qiáng) 李孟委

        (1.中北大學(xué)儀器與電子學(xué)院 太原 030051)(2.中北大學(xué)前沿交叉科學(xué)研究院 太原 030051)

        (3.中北大學(xué)微系統(tǒng)集成研究中心 太原 030051)(4.中北大學(xué)半導(dǎo)體與物理學(xué)院 太原 030051)

        1 引言

        伴隨著5G 通信和物聯(lián)網(wǎng)時(shí)代的到來,無線通信設(shè)備對功耗和結(jié)構(gòu)復(fù)雜度的要求越來越高。射頻前端接收器和基站天線等射頻通信也對射頻器件提出了更嚴(yán)格的要求,如:小體積、低損耗和高功率容量。射頻微機(jī)電(microelectro mechanical system,MEMS)開關(guān)[1]作為可控制微波信號(hào)的器件,在無線通信領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用,同時(shí)也是使移相器、衰減器等MEMS器件實(shí)現(xiàn)高功率需求的關(guān)鍵[2~7]。

        2011年,北京大學(xué)劉博研制了一款鉑金接觸的MEMS 開關(guān)[8],開關(guān)的插入損耗>20dB@20GHz,驅(qū)動(dòng)電壓為50V,功率容量為150mA,此開關(guān)存在驅(qū)動(dòng)電壓偏高的問題;2012年,UCSD 大學(xué)研制了一款蟹型金釕接觸的MEMS 開關(guān)[9],該開關(guān)在0~8GHz頻段內(nèi),插入損耗<0.4dB,隔離度>10dB,功率容量為5W×108,此開關(guān)存在工作頻段窄的問題;2014年,東南大學(xué)韓磊團(tuán)隊(duì)研制了一款橫向驅(qū)動(dòng)的MEMS 開關(guān)[10],該開關(guān)的插入損耗<0.6dB@10GHz,隔離度>45dB@10GHz,功率容量為1.3W;2016年,Griffith 大學(xué)研制一款橫向驅(qū)動(dòng)的六觸點(diǎn)MEMS 開關(guān)[11],該開關(guān)在0~6GHz頻段內(nèi),插入損耗<0.9GHz,隔離度>29dB,功率容量為2W×107,也存在工作頻段窄的問題。

        針對目前射頻MEMS開關(guān)存在工作頻段窄、功率容量低、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的問題,本文設(shè)計(jì)了一款低損耗、寬帶寬、高功率的多觸點(diǎn)MEMS開關(guān)。

        2 功率型射頻MEMS開關(guān)設(shè)計(jì)

        2.1 射頻MEMS開關(guān)原理

        目前射頻MEMS 開關(guān)依據(jù)電路接入方式可以劃分為串聯(lián)和并聯(lián)[12~14];按照結(jié)構(gòu)方式可以劃分為單端固支梁式和雙端固支梁式。串聯(lián)接觸式MEMS 開關(guān)是單端固支梁MEMS 開關(guān),通過給單端固支梁下方的驅(qū)動(dòng)電極施加電壓來控制開關(guān)的導(dǎo)通和斷開。當(dāng)電極有電壓,單端固支梁向下彎曲,開關(guān)導(dǎo)通,處于“up”態(tài)[15];當(dāng)電極無電壓,單端固支梁無形變,開關(guān)斷開,處于“down”態(tài)。并聯(lián)接觸式開關(guān)是雙端固支梁,通過給信號(hào)線和地線之間的驅(qū)動(dòng)電極施加電壓來控制開關(guān)的導(dǎo)通和斷開。當(dāng)電極有電壓,雙端固支梁中部向下彎曲,開關(guān)導(dǎo)通,處于“up”態(tài);當(dāng)電極無電壓,雙端固支梁沒有形變,開關(guān)斷開,處于“down”態(tài)。

        圖1 串聯(lián)接觸式MEMS開關(guān)工作原理圖

        串聯(lián)接觸射頻MEMS 開關(guān)的等效電路模型如圖2 所示,其中CPW1 為輸入輸出端口的阻抗,CPW2 為上電極的阻抗,Rc為開關(guān)導(dǎo)通時(shí)上電極與信號(hào)線之間的接觸電阻,Cs 為開關(guān)斷開時(shí)上電極與信號(hào)線之間的耦合電容。

        圖2 射頻MEMS開關(guān)等效電路模型

        圖3 四觸點(diǎn)射頻MEMS開關(guān)結(jié)構(gòu)圖

        2.2 射頻MEMS開關(guān)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

        本文采用介電常數(shù)為4.0的氧化硅玻璃為功率型射頻MEMS 開關(guān)的襯底,500μm 的SiNx作為功率型射頻MEMS 開關(guān)的介質(zhì)層。本文對射頻MEMS開關(guān)的基地材料、觸點(diǎn)數(shù)目以及上電極結(jié)構(gòu)進(jìn)行仿真優(yōu)化,設(shè)計(jì)出一款低損耗、高功率的射頻MEMS開關(guān)。

        3 功率容量分析

        射頻MEMS 開關(guān)的功率容量主要受開關(guān)接觸點(diǎn)產(chǎn)熱的影響。電流流經(jīng)接觸點(diǎn)的接觸電阻會(huì)產(chǎn)生大量的焦耳熱,導(dǎo)致開關(guān)接觸點(diǎn)的溫度上升。當(dāng)開關(guān)接觸點(diǎn)的溫度超過接觸點(diǎn)的軟化溫度時(shí),接觸點(diǎn)處容易發(fā)生微熔焊,導(dǎo)致開關(guān)的失效。本文設(shè)計(jì)了一種四觸點(diǎn)型的射頻MEMS開關(guān),通過增加開關(guān)接觸點(diǎn)的數(shù)目降低電流流經(jīng)每個(gè)接觸點(diǎn)的電流大小,進(jìn)而降低開關(guān)接觸點(diǎn)焦耳熱的產(chǎn)生,從而提高開關(guān)的功率容量。

        根據(jù)傅里葉導(dǎo)熱定律和電路歐姆定律,對直流電流流經(jīng)接觸點(diǎn)時(shí)接觸點(diǎn)處的溫度進(jìn)行了推導(dǎo),在穩(wěn)定的平衡狀態(tài)下的熱傳導(dǎo)的情況下,有

        其中ρ為接觸材料的電阻率,λ為接觸材料的熱導(dǎo)率,為溫度的平均值。

        由Weidemann-Franz law定律,可以得

        將式(1)和式(2)結(jié)合起來,可得

        其中TΘ、T0的單位為K,分別接觸點(diǎn)處的溫度和金屬遠(yuǎn)端的溫度;U的單位為V,表示接觸點(diǎn)兩側(cè)的電壓降;L為洛倫茲常數(shù)。

        在特征阻抗為Z0的開關(guān)中,有功率為P 的射頻信號(hào)通過開關(guān)觸點(diǎn),此時(shí)流經(jīng)觸點(diǎn)的電流為

        觸點(diǎn)兩端的電壓為

        將式(4)和式(5)代入式(3),可得

        在射頻MEMS開關(guān)導(dǎo)通時(shí),由于射頻信號(hào)的趨膚效應(yīng)會(huì)電流趨向于觸點(diǎn)的表面,導(dǎo)致電流流過的橫截面積小于熱可以流經(jīng)的橫截面積。因此,式(6)求得的溫度TΘ是開關(guān)觸點(diǎn)溫度的上限。當(dāng)射頻MEMS開關(guān)觸點(diǎn)的溫度超過觸點(diǎn)的軟化溫度時(shí),觸點(diǎn)就會(huì)軟化,甚至發(fā)生微熔焊,導(dǎo)致開關(guān)的失效。

        由式(6)可知:射頻MEMS 開關(guān)的輸入功率與接觸電阻的平方成反比。要想提高射頻MEMS 開關(guān)的功率容量,就要降低射頻MEMS開關(guān)的接觸電阻。

        射頻MEMS開關(guān)接觸電阻的計(jì)算公式為

        式中,ρ為接觸點(diǎn)的電阻率,n為觸點(diǎn)數(shù)目,H 為觸點(diǎn)的材料硬度,F(xiàn)c為觸點(diǎn)的接觸力。由式(7)可知,降低射頻MEMS 開關(guān)接觸電阻的方式是增加觸點(diǎn)的數(shù)目和提高觸點(diǎn)的接觸力。

        4 結(jié)構(gòu)分析

        本文設(shè)計(jì)一種串聯(lián)接觸式的四觸點(diǎn)射頻MEMS 開關(guān)。重點(diǎn)研究了不同材料的基地和不同結(jié)構(gòu)的上電極對射頻MEMS開關(guān)的影響,進(jìn)而設(shè)計(jì)出射頻性能最佳的射頻MEMS開關(guān)。

        4.1 襯底材料的選擇

        射頻性能和功率容量是衡量MEMS 開關(guān)射頻性能的重要指標(biāo)。為提高M(jìn)EMS 開關(guān)的射頻性能和功率容量的影響,我們研究了不同襯底對射頻MEMS開關(guān)射頻性能和功率容量的影響。表1列舉了不同襯底材料及其介電常數(shù)。我們對不同襯底材料的MEMS 開關(guān)進(jìn)行仿真,仿真結(jié)果如圖4 所示,襯底介電常數(shù)為4.0 的射頻MEMS 開關(guān)插入損耗最小,隔離度度最大,同時(shí)該射頻MEMS 開關(guān)由插入損耗生成的熱量更低,有利于提高射頻MEMS開關(guān)的功率容量。因此,本文選用介電常數(shù)為4.0的石英玻璃片作為射頻MEMS開關(guān)的襯底。

        表1 不同襯底材料的介電常數(shù)

        圖4 射頻MEMS開關(guān)參數(shù)仿真圖

        4.2 上電極結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)

        本文設(shè)計(jì)了兩種不同結(jié)構(gòu)的上電極,一種為直板型上電極,另一種為球拍型上電極。文中對兩種上電極末端分別施加一個(gè)垂直向下的靜電力,大小為3μN(yùn)。圖5 為利用COMSOL 軟件對這兩種上電極進(jìn)行力學(xué)性能仿真圖,從圖5(a)可以看出,直板型上電極末端位移為2.15μm;從圖5(b)可以看出,球拍型上電極末端位移為3.97μm。本文設(shè)計(jì)的射頻MEMS 開關(guān)導(dǎo)通需要上電極末端位移達(dá)到1.9μm。將圖5(a)和(b)的仿真結(jié)果進(jìn)行對比,可知:球拍型上電極末端位移達(dá)到1.9μm 所需要的靜電力更小,更適合作為射頻MEMS開關(guān)的上電極。此外,球拍型上電極能夠提高射頻MEMS開關(guān)犧牲層的釋放速率,還能保證射頻MEMS開關(guān)錨點(diǎn)處的犧牲層完全釋放干凈,提高射頻MEMS開關(guān)的成品率。

        圖5 直板型上電極和球拍型上電極力學(xué)性能仿真圖

        圖6 串聯(lián)接觸式MEMS開關(guān)S參數(shù)仿真結(jié)果

        5 性能分析

        5.1 射頻特性分析

        本文通過利用電磁仿真軟件HFSS 對射頻MEMS 開關(guān)的射頻特性進(jìn)行仿真優(yōu)化,設(shè)計(jì)出了射頻特性最佳的MEMS 開關(guān)。從圖7 可以看出,在L~K 波段內(nèi),該四觸點(diǎn)射頻MEMS 開關(guān)插入損耗≤0.13dB,隔離度≥27.56dB。

        圖7 射頻MEMS開關(guān)工藝流程

        5.2 功率容量分析

        射頻MEMS 開關(guān)上電極與觸點(diǎn)之間的接觸力對功率容量有重要影響。接觸力越大,接觸電阻越小,開關(guān)的功率容量越高。射頻MEMS開關(guān)上電極與觸點(diǎn)之間接觸力Fc的計(jì)算公式為

        式中,F(xiàn)e為靜電力;Δg 為懸臂梁上電極的末端位移,為2.2μm;g1為信號(hào)導(dǎo)通時(shí)上電極與下拉電極的間隙,為1.3μm;g0為信號(hào)斷開時(shí)上電極與下拉電極的間隙,為3.5μm,由式(8)可知,射頻MEMS 開關(guān)上電極的彈性系數(shù)越大,上電極和觸點(diǎn)之間接觸力Fc越大。射頻MEMS 開關(guān)上電極彈性系數(shù)的計(jì)算公式為

        式中,E 為材料的楊氏模量,為78GPa;w 為梁的寬度,為2×20μm;t 為梁的厚度,為2μm;l 為梁的長度,為100μm,由式(9)計(jì)算可知,球拍型上電極的彈性系數(shù)為6.24N/m;由式(8)計(jì)算可知,球拍型上電極與觸點(diǎn)之間的接觸力為9.7μN(yùn);由式(7)計(jì)算可知,每個(gè)觸點(diǎn)的接觸電阻為0.6Ω

        對于雙觸點(diǎn)的開關(guān)而言,總接觸電阻的阻值為0.3Ω,經(jīng)過計(jì)算,雙觸點(diǎn)射頻MEMS 開關(guān)在理想條件下功率容量為0.5W;對于四觸點(diǎn)射頻MEMS 開關(guān)而言,總接觸電阻的阻值為0.15Ω,經(jīng)過計(jì)算,雙觸電的開關(guān)在理想條件下功率容量為2.08W。本文設(shè)計(jì)的射頻MEMS開關(guān)為雙通道四觸點(diǎn)開關(guān),故該開關(guān)的總接觸為0.15Ω,功率容量為2.08W。

        6 工藝流程設(shè)計(jì)

        為了確保MEMS開關(guān)的射頻性能和功率容量,達(dá)到MEMS開關(guān)實(shí)用化的目的,本文依據(jù)微納加工技術(shù)設(shè)計(jì)了MEMS開關(guān)的加工流程。

        具體工藝流程如下:步驟(a):清洗石英玻璃片;步驟(b):PECVD 沉積400nm 的SiNx,利用RIE刻蝕得到凸點(diǎn);步驟(c):利用濺射技術(shù)在BF33片子濺射Al,并通過刻蝕得到下拉電極;步驟(d):PECVD沉積500nm的SiNx隔離層;步驟(e):利用濺射技術(shù)濺射Ti/Au 種子層,電鍍腐蝕得到開關(guān)信號(hào)傳輸線;步驟(f):Pad開窗;步驟(g):旋涂PI,固化,形成犧牲層;步驟(h):利用干法刻蝕得到開關(guān)錨點(diǎn);步驟(i):電鍍上電極步驟(j):RIE 刻蝕PI,釋放犧牲層,制得MEMS 開關(guān)。

        7 結(jié)語

        本文對射頻MEMS 開關(guān)功率容量問題進(jìn)行分析,設(shè)計(jì)了一款低損耗、寬帶寬、高功率的四觸點(diǎn)射頻MEMS開關(guān)。文中對襯底的材料、上電極的結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化,從而提升射頻MEMS開關(guān)的功率容量和射頻性能。經(jīng)仿真和計(jì)算,該MEMS開關(guān)在L~K波段內(nèi),插入損耗≤0.2dB,隔離度≥27dB,功率容量為2.08W,滿足射頻前端接收器、基站天線等射頻通信對MEMS開關(guān)高功率容量、高隔離的要求。

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