專利申請?zhí)枺?022113995563

公布號：CN115740452A

申請日：2022.11.09公開日：2023.03.07

申請人：有研億金新材料（山東）有限公司；有研億金新材料有限公司

本發(fā)明屬于磁控濺射靶材制造技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種高純高致密細(xì)晶低氧鎢靶材的制備方法。以純度大于SN的W粉為原料，先通過真空熱壓燒結(jié)的方式獲得相對密度為800/～900/的預(yù)成型鎢靶坯。然后通過多道次小變形熱軋的方式在預(yù)成型鎢靶坯表面0.5～2.0 mm厚度的范圍內(nèi)形成相對密度為95%～99%的致密化表層，心部密度及組織狀態(tài)仍保持不變。最后將多道次小變形軋制后的鎢靶坯進(jìn)行無包套熱等靜壓燒結(jié)致密化處理，處理后將表層0.5～2.0 mm厚度的軋制態(tài)組織去除，獲得致密度≥99.5%，平均晶粒尺寸≤10 μm，氧含量≤10×10 -6的高純W靶坯。