專利申請?zhí)?CN201911024347.9
公開號:CN110721720A
申請日:2019.10.25
公開日:2020.01.24
申請人:山東大學
本發(fā)明提供一種氮化鉬/氧化鈰復合材料及其制備方法和應用。所述復合材料包括氧化鈰納米薄層,以及負載在氧化鈰納米薄層表面的多孔片狀氮化鉬。本發(fā)明通過引入氧化鈰納米薄層,并在其表面生長了片狀結(jié)構(gòu)的氮化鉬,提高了氮化鉬催化劑的分散性,增加了氮化鉬表面的反應活性位點;并且氧化鈰層可以增加對水的吸附與解離,從而提高整個電極體系的電催化活性,該電極的制作原料成本低,制備方法簡單,可以大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn),在實際應用中具有潛在的應用前景。