張會(huì)君,梁玉勇,王保貴
(德州實(shí)華化工有限公司,山東 德州 253000)
德州實(shí)華化工有限公司(以下簡稱“德州實(shí)華”)自2011年建設(shè)24萬t/a燒堿、30萬t/a PVC搬遷項(xiàng)目以來,離子膜法燒堿工藝一直采用海鹽為原料。為節(jié)約生產(chǎn)成本,德州實(shí)華于2014年在山東省泰安市岱岳區(qū)建設(shè)了1套100萬t/a真空制鹽裝置,計(jì)劃用井礦鹽代替海鹽進(jìn)行氯堿生產(chǎn)。
德州實(shí)華鹽水精制采用預(yù)處理器+SF膜過濾器的工藝,工藝流程如圖1所示。
圖1 鹽水精制工藝流程圖
來自電解工序的脫氯淡鹽水、脫硝淡鹽水、工業(yè)補(bǔ)充水等流入配水罐,再用化鹽水泵經(jīng)板式換熱器調(diào)節(jié)溫度到55~65 ℃后送入化鹽池,與原料鹽在中心桶內(nèi)逆流接觸得到飽和粗鹽水[NaCl質(zhì)量濃度(305±5) g/L]。飽和粗鹽水首先進(jìn)入混合折流槽,按工藝要求分別加入氫氧化鈉、次氯酸鈉溶液。然后自流入前反應(yīng)槽,粗鹽水中的鎂離子與氫氧化鈉在前反應(yīng)槽中反應(yīng)生成氫氧化鎂;菌藻類、腐殖酸等有機(jī)物則被次氯酸鈉氧化分解成為小分子有機(jī)物。再由加壓泵加壓,經(jīng)汽水混合器與壓縮空氣混合后進(jìn)入加壓溶氣罐,飽和的粗鹽水從加壓溶氣罐底部流出,經(jīng)文丘里混合器加入三氯化鐵溶液后進(jìn)入預(yù)處理器;從預(yù)處理器出來的粗鹽水進(jìn)入后反應(yīng)槽,在此,鈣離子與加入的碳酸鈉溶液反應(yīng),生成碳酸鈣沉淀。充分反應(yīng)后的粗鹽水流入粗鹽水高位槽。自高位槽流入并聯(lián)的SF膜過濾器,過濾后的鹽水自流入中和折流槽,在折流槽內(nèi),加入鹽酸調(diào)節(jié)鹽水pH值至9~11。得到的精鹽水由一次鹽水泵從精鹽水桶送到電解界區(qū)。一次鹽水在電解界區(qū)的螯合樹脂塔通過離子交換,進(jìn)一步去除鈣鎂離子,得到合格的二次鹽水,然后進(jìn)入離子膜進(jìn)行電解。
德州實(shí)華建設(shè)初期,因海鹽價(jià)格較低,采用海鹽作為離子膜法燒堿原料。但海鹽中含有大量的鎂、鈣等離子,須在鹽水中分別加入 NaOH、Na2CO3予以脫除。若海鹽中鎂、鈣等離子含量過高,預(yù)處理器內(nèi)經(jīng)常出現(xiàn)返渾,只能降低負(fù)荷運(yùn)行,影響裝置生產(chǎn)能力。
因井礦鹽中鈣鎂離子、菌藻類等有機(jī)物含量均較少,采用井礦鹽會(huì)節(jié)省大量NaOH、FeCl3、NaClO、Na2CO3等輔料,減輕預(yù)處理器及壓濾機(jī)的負(fù)荷[1],同時(shí)降低脫硝系統(tǒng)的負(fù)荷。與海鹽比較,氯堿裝置采用井礦鹽的成本較低,因此,德州實(shí)華建設(shè)了上述制鹽裝置,準(zhǔn)備采用井礦鹽代替海鹽生產(chǎn)氯堿。
直接用井礦鹽代替海鹽后,一次鹽水中Si4+、Al3+含量超標(biāo),對(duì)離子膜生產(chǎn)工藝不利。鹽水中Si4+、Al3+雜質(zhì)的危害如下:SiO2在堿性條件下生成Na2SiO3,它是一種無色(或略帶色)的透明(或半透明)黏稠狀液體,黏性較強(qiáng),過濾器和樹脂塔不能除去;精制鹽水在電解時(shí)需要加酸調(diào)節(jié)pH值,Na2SiO3在酸性鹽水中形成硅酸,硅酸不溶于水,受Na+運(yùn)動(dòng)的影響進(jìn)入膜中,沉積在膜的陽極側(cè)表面,使電流效率下降,槽電壓升高;Al3+與堿反應(yīng)生成氫氧化鋁,氫氧化鋁是一種白色膠體狀沉淀物,具有較強(qiáng)的吸附能力,沉積在膜的陰極側(cè)表面,使電流效率下降,加速陽極涂層的腐蝕與損壞。
出現(xiàn)Si4+超標(biāo)的原因如下:①在電解工藝中,電解槽出口的淡鹽水脫氯后送入化鹽工序循環(huán)使用,硅在系統(tǒng)中長期積累;②原鹽中可能混入硅酸鹽水泥,如鹽庫地面、化鹽池破損時(shí)等水泥灰?guī)?;③原鹽中二氧化硅含量較高。
通過查閱文獻(xiàn)[3]和國內(nèi)外相關(guān)專利發(fā)現(xiàn),由于海鹽的雜質(zhì)含量較高,鹽泥的沉降會(huì)加速,沉降過程會(huì)包裹硅酸鈉,通過排泥去除硅;上述過程中也會(huì)包裹氫氧化鋁,同時(shí)去除鋁。將海鹽和井礦鹽共同作為原料使用,兩種原料在一定配比下,能夠使雜質(zhì)離子含量符合要求。
通過試驗(yàn),研究了不同配比的海鹽和井礦鹽作為原料對(duì)二次鹽水中Si4+、Al3+含量的影響。
(1)當(dāng)完全使用井礦鹽代替日曬海鹽時(shí),二次鹽水中w(Si4+)=(1~2)×10-5,w(Al3+)=(1.2~1.6)×10-7,Si4+含量和Al3+含量均超標(biāo)。
(2)井礦鹽中摻入的海鹽量為10%時(shí),二次鹽水中w(Si4+)=(5~12)×10-6,w(Al3+)=(5.5~12)×10-8,Al3+含量超標(biāo)。
(3)井礦鹽中摻入的海鹽量為25%時(shí),二次鹽水中w(Si4+)<2.3×10-6,w(Al3+)<1×10-7,Si4+、Al3+含量均不超標(biāo)。
為避免井礦鹽代替海鹽得到的二次精制鹽水中Si4+、Al3+含量超標(biāo),須將一定比例的海鹽摻入井礦鹽中,可以有效降低精制鹽水中Si4+、Al3+等雜質(zhì)的含量,且井礦鹽中摻入海鹽量不得低于25%。
目前德州實(shí)華離子膜法燒堿生產(chǎn)原料以井礦鹽為主,摻入部分海鹽,裝置運(yùn)行后效果如下:化鹽池由原來的半年清理1次延長到2年清理1次;鹽耗量降低,生產(chǎn)1 t 100%燒堿鹽耗由1.6 t降低至1.51 t;輔料消耗大大降低,與完全使用海鹽相比,F(xiàn)eCl3為原用量的1/6,NaOH為原用量的2/3,NaCO3為原用量的2/3;脫硝系統(tǒng)開啟頻率降低,年運(yùn)行時(shí)間由8 000 h降低到2 900 h;固廢鹽泥量大大減少,由80 m3/d降低到24 m3/d。