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        稀土電解過程氧化釹顆粒在不同極間距工況下運動軌跡研究

        2022-11-17 11:31:36李揚磊周綠山胡曉黎徐競帆劉中興
        綠色科技 2022年20期

        李揚磊,唐 成,周綠山,胡曉黎,徐競帆,劉中興

        (1.四川文理學院 化學化工學院,四川 達州 635000;2.內(nèi)蒙古科技大學 內(nèi)蒙古自治區(qū)白云鄂博礦多金屬資源綜合利用重點實驗室,內(nèi)蒙古 包頭 014010)

        1 引言

        稀土作為有多種重要用途的不可再生自然資源,素有“工業(yè)維生素”的稱號,廣泛應(yīng)用于國民經(jīng)濟各領(lǐng)域,在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展和現(xiàn)代化建設(shè)中起著十分重要的作用[1]。目前我國大多采用熔鹽電解法來制備稀土,由于這種方法具有生產(chǎn)簡單、經(jīng)濟效益高等優(yōu)點,因此成為制取稀土的重要方法。據(jù)統(tǒng)計,工業(yè)生產(chǎn)出的稀土金屬得到了廣泛的應(yīng)用[2],尤其是金屬釹。在永磁材料、耐高溫和耐腐蝕等方面均發(fā)揮了優(yōu)勢,是一種具有潛在應(yīng)用前景的材料[3]。

        在電解制取稀土金屬釹的過程中,電解槽底部結(jié)瘤物的形成包括很多方面,比如:加料速度、極間距、電極插入深度、槽型結(jié)構(gòu)、熔鹽流動速度等[4,5]。在制取稀土金屬釹的過程中,3kA稀土電解槽運用的最多。由于電解制取稀土金屬釹的溫度較高,一直以來關(guān)于電解槽底部結(jié)瘤物的研究比較少[6]。大部分研究電解槽結(jié)瘤主要在鋁電解工業(yè)中,此外電解銅、鎂也有一些的研究,前人的經(jīng)驗對研究稀土電解槽的結(jié)瘤提供了一定的依據(jù)。劉中興等[7]研究了稀土電解槽電極插入不同深度下氧化釹顆粒運動軌跡,進而對電解槽的加料提出了一定的優(yōu)化方案,避免電解過程中結(jié)瘤物的生成;張雪嬌等[8]仿真模擬陽極脫落的碳顆粒在電解槽內(nèi)的運動規(guī)律,這為電解槽除雜和控制結(jié)瘤提供了思路,最后得出了技術(shù)路線且有一定的事實依據(jù),但是未研究外加氧化釹原料的問題;方曉春[9]團隊研究電解MgCl2,探究摸索MgCl2溶液在電解鎂的進程中,非金屬物質(zhì)等如何進入到生產(chǎn)中去,在實際操作中進行了操作,得到如何去除非金屬雜質(zhì),優(yōu)化技術(shù)路線;楊海蘭[10]團隊探究在電解銅工藝,認為陽極銅中雜質(zhì)能形成穩(wěn)定的不容易在陽極上氧化的雜質(zhì)金屬間化合物;電解過程中雜質(zhì)Pb、Sb、Bi、Sn、Cd主要進入陽極泥,As主要進入砷銻渣,Ni、Zn、Co主要進入硫酸鎳,F(xiàn)e在各類產(chǎn)物中均有一定的分布,提出了創(chuàng)新思路;王玉彬[11]團隊探索研究電解鋁工藝,就鋁用陽極中雜質(zhì)的種類與來源,雜質(zhì)對陽極的影響以及在電解過程中的作用分別進行了闡述,并對如何降低雜質(zhì)含量做了探討;包頭稀土研究院郭海濤等[12]對3kA 稀土電解槽的爐底結(jié)瘤物進行了實驗測試,主要進行了巖相分析、X 射線衍射和化學成分測試,得到結(jié)瘤物主要有氧化釹、氟氧化釹、氟化釹,也有少量金屬釹存在。其中,結(jié)瘤物中氧化釹含量占比很大。

        2 建立模型

        2.1 槽型及參數(shù)

        本文采用3kA電解槽對其進行仿真研究。具體結(jié)構(gòu)如下:陰極為主軸四周呈對稱分布,陰極的周圍是陽極套筒,陰極下端為金屬收集器(圖1)。電解槽熔鹽體系由Nd2O3、NdF3、LiF 三種化合物按一定比例混合而成[13]。電解溫度依靠直流電提供的能量來維持,電解在無保護氣體下進行操作。

        1—電解質(zhì) 2—金屬收集器 3—稀土金屬 4—陰極 5—陽極筒 6—雜質(zhì)物 7—石墨坩堝

        由于3kA電解槽結(jié)構(gòu)呈對稱分布,為了便于仿真研究,故只選擇電解實驗槽的1/4構(gòu)造。本次研究采用ANSYS&Fluent進行仿真模擬,建立模型時,選取槽體底部的中心點為三維坐標系的原點,依次建模(Geometry)、劃分網(wǎng)格(Mesh)以及后處理(Fluent)等。

        表1 電解槽尺寸參數(shù) m

        表2 電解槽工藝參數(shù)

        2.2 過程處理

        (1)采用歐拉模型處理氣液兩相流。

        (2)陽極產(chǎn)生的氣體大小一致。

        (3)顆??醋鞴饣鶆虻男∏?。

        (4)短暫性的不考慮陽極的損耗。

        2.3 數(shù)學模型

        用到的數(shù)學方程包括:連續(xù)性方程、動量方程、k-ε湍流雙方程。其三者通用的方程為:

        (1)

        式(1)中,ρ為密度,x為坐標,μ為速度。

        首先,研究電解槽流場運動用到歐拉模型(Euler Model)[14]。此外,由于固體顆粒在電解槽流場中運動,因此需要對該模型進行離散化處理,采用到歐拉—拉格朗日法(Euler-Lagrange equation)進行處理,運用到DPM模型。電解槽內(nèi)部顆粒運動過程中,主要受到重力、浮力、曳力這三種主要力的影響。此外,還有塞特力、壓力梯度力、薩夫曼升力等[15~17]。

        根據(jù)作用在顆粒上力的平衡條件,列出顆粒在拉格朗日方程下的運動方程:

        (2)

        式(2)中,ρ是流體的密度,μ是流體的分子粘性系數(shù),CD是曳力系數(shù),F(xiàn)x表示在x方向受到的合力。

        3 電解槽極間距不同時顆粒運動軌跡

        3.1 極間距在不同工況下流場模擬分布

        (1)保持電極插入深度不變,研究極間距在不同工況下電解槽內(nèi)部流場分布(圖2)。

        圖2 不同極間距下槽體Z軸截面流場云圖

        Fluent仿真模擬上述5組數(shù)據(jù),從流場云圖得到,極間距增大,兩極之間的流場旋渦強度逐漸減弱,尤其是在陽極外側(cè)拐角處,流場的卷吸作用強度變?nèi)?,旋渦在逐漸消去。同時,隨著極間距的增大,流場強度逐漸減弱,流場的總體分布大致相同。陽極表面形成的氣體自下而上依然是一個動態(tài)氣體薄層,越靠近電解槽的出口位置氣體層的厚度越厚。在運動速度方面,受陽極氣體的推動作用,越靠近陽極壁面附近速度越大,越遠離陽極壁面速度越小。

        特別強調(diào)的是,若極間距很小,陰極析出的金屬釹、陽極產(chǎn)生的氣體及電極脫落的碳顆粒會相互反應(yīng),容易形成二次反應(yīng)。這在電解過程中,一定要極力避免發(fā)生。主要原因有兩點,其一,電解質(zhì)黏度增大,流速會相對變慢,時間變長,回耗費大量的電資源,造成浪費。其二,生成物在槽體內(nèi)有雜亂的電化學反應(yīng),生成氟氧化物等熔點更高的物質(zhì),降低收集器中釹的純度,進而容易產(chǎn)生結(jié)瘤物。

        (2)氣體含率分布。圖3為電解槽的二維截面圖,圖4為Origin數(shù)據(jù)處理得到的氣體含量分布圖,這2幅圖主要研究電解槽橫截面處氣體的濃度。圖3的Y截面取了y值為175, 250, 300, 350和395 mm五個截面,從圖中得到橫坐標為100 mm附近氣體濃度達到最大值。

        圖3 X—Y坐標

        圖4 CO氣體含量分布

        電解槽表面,即y=395 mm處CO氣體呈擴散狀態(tài),主要在于氣體在表面與電解質(zhì)發(fā)生了力的相互作用。y=175 mm時,幾乎不存在氣體。氣體主要分布于x軸坐標90~100mm 這一狹小的區(qū)域內(nèi)。

        3.2 極間距在不同工況下顆粒運動軌跡的模擬

        Fluent仿真模擬上述五組數(shù)據(jù),從圖5顆粒運動軌跡圖的得到,隨著極間距變大,在臨界粒徑范圍內(nèi)都是呈半弧形運動軌跡。極間距很小時,受氣體推動,流體在兩極之間劇烈運動,氧化釹顆粒受到流場的卷吸作用很明顯,尤其在熔鹽液面處。流體在兩極間的回流運動比較強,這對較大氧化釹顆粒的熔解是有利的。但是極間距過小,會加速兩極的自身消耗,不利于獲得純凈的稀土單質(zhì)。

        圖5 不同極間距下顆粒運動軌跡

        同時,隨著極間距變大,電解槽內(nèi)部顆粒的粒徑臨界值從極間距為25 mm熔解消耗的3.6 mm,減小到極間距為50 mm熔解消耗的2 mm,減小到極間距為75 mm熔解消耗的0.7 mm,減小到了極間距為100 mm下熔解消耗的0.6 mm,最終減小到了極間距為115 mm下熔解消耗的0.2 mm。這主要在于:其一,兩極之間的區(qū)域是電解的主要部位,隨著極間距的增加,流場在兩極之間運動的強度會慢慢變?nèi)?;其二,當極間距過大時,陽極生成氣體推動電解質(zhì)運動很微弱,甚至到達不了陰極表面,這不能顆粒運動及電解創(chuàng)造良性循環(huán)。

        4 結(jié)論

        (1)隨著極間距增大,陰陽極之間的流場旋渦強度逐漸減弱,尤其是在陽極外側(cè)拐角處,流場的卷吸作用強度變?nèi)?。陽極表面的氣體主要分布于x軸坐標90~100 mm 這一狹小的區(qū)域內(nèi)。

        (3)通過對不同極間距工況的模擬,得出極間距為75 mm和臨界粒徑為1.9 mm時,最有助于氧化釹電解的進行。在此條件下,下料過程中顆粒的臨界粒徑比較大,相應(yīng)的降低了對原料的物理要求,提高原料的利用率,為減少槽體底部結(jié)瘤物的生成創(chuàng)造良好的條件。

        (4)抑制電解槽內(nèi)結(jié)瘤物的生成還有很多措施,如在電解槽內(nèi)定期加入LiF、調(diào)節(jié)電解溫度、開發(fā)新型電解槽等,這些對于延長電解槽的壽命是很有幫助。

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