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        PDRO的研究進(jìn)展

        2022-10-02 05:10:56袁慧超
        裝備制造技術(shù) 2022年6期
        關(guān)鍵詞:信號(hào)

        袁慧超

        (中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第13研究所,河北石家莊 050051)

        0 引言

        PDRO(取樣鎖相介質(zhì)振蕩器)具有極低相噪、低雜散、低功耗、重量輕、體積小、可靠性高等突出優(yōu)點(diǎn),與直接倍頻方案相比,具有更好的遠(yuǎn)端相噪指標(biāo)。在航天航空、微波測(cè)量等尖端科技設(shè)備中要求超低相噪的領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景[1,2]。

        微波鎖相源原理在數(shù)學(xué)理論方面,早在上世紀(jì)30年代無(wú)線電技術(shù)發(fā)展的初期就已經(jīng)出現(xiàn)。1930年建立了同步控制理論的基礎(chǔ)。1932年貝塞爾什提出了同步檢波理論。在上世紀(jì)40年代,電視接收機(jī)的同步掃描電路中,鎖相技術(shù)得到廣泛應(yīng)用。到上世紀(jì)50年代,隨著空間技術(shù)的發(fā)展,有杰費(fèi)和里希廷利用鎖相環(huán)路作為導(dǎo)彈信標(biāo)的跟蹤濾波器獲得成功,并首次發(fā)表了包含噪聲效應(yīng)的鎖相環(huán)路線性理論分析,解決了鎖相環(huán)路最佳化設(shè)計(jì)的問(wèn)題。PDRO理論及工程研究曾在上世紀(jì)七八十年代出現(xiàn)熱潮。但由于在寬溫范圍內(nèi)環(huán)路的穩(wěn)定性和捕獲設(shè)計(jì)技術(shù)難度較大,造成成品率不高,因而該技術(shù)的發(fā)展曾一度處于停滯狀態(tài)。進(jìn)入新世紀(jì)后美國(guó)在PDRO領(lǐng)域已解決了取樣鎖相中寬溫范圍內(nèi)環(huán)路的穩(wěn)定性和捕獲的技術(shù)難題,研制了高性能的PDRO產(chǎn)品,并實(shí)現(xiàn)了系列化和大規(guī)模生產(chǎn),在以美國(guó)為代表的西方主要國(guó)家中PDRO已廣泛應(yīng)用于各類高性能電子設(shè)備中。PDRO現(xiàn)已成為微波高穩(wěn)定頻率合成技術(shù)中最具生命力的技術(shù)之一。PDRO實(shí)物如圖1[2,3]。

        圖1 PDRO實(shí)物

        1 PDRO的工作原理

        PDRO的工作原理如圖2所示,微波取樣鎖相介質(zhì)振蕩源是采用高穩(wěn)參考信號(hào)如晶振產(chǎn)生一同頻率的尖脈沖(梳狀譜)信號(hào),與微波信號(hào)進(jìn)行取樣比較輸出誤差信號(hào),當(dāng)振蕩器輸出頻率與參考信號(hào)的N次諧波頻率相同時(shí),經(jīng)環(huán)路濾波器濾波后的誤差信號(hào)為一穩(wěn)定的直流電壓,此時(shí)介質(zhì)VCO頻率被穩(wěn)定在Nf i。由于DRVCO的帶寬很窄(一般僅為工作頻率的0.2%~1.0%),在其壓控范圍內(nèi),只有一個(gè)頻點(diǎn)是參考源頻率的整數(shù)倍,所以不會(huì)出現(xiàn)錯(cuò)鎖的現(xiàn)象,當(dāng)壓控電壓控制DRVCO的頻率達(dá)到這一頻點(diǎn)時(shí),環(huán)路即鎖定,這時(shí)PDRO的輸出頻率穩(wěn)定在設(shè)計(jì)頻率[1]。

        圖2 工作原理

        由于取樣鎖相電路采用了取樣保持鑒相器,在取樣脈沖尖峰到來(lái)時(shí),對(duì)VCO輸出的高頻信號(hào)進(jìn)行取樣保持,得到的階梯誤差信號(hào)經(jīng)環(huán)路濾波器濾除高頻分量,輸出的直流信號(hào)去控制VCO的輸出頻率,使VCO的輸出頻率直接鎖定在參考頻率的高階諧波的頻率上,從而免去了數(shù)字分頻器噪聲基底受限的影響,它的相位噪聲指標(biāo)接近于理論計(jì)算值。取樣鎖相頻率合成器結(jié)合了數(shù)字鑒相和高次倍頻鏈方式的共同特點(diǎn),其優(yōu)點(diǎn)是電路結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、相位噪聲低、體積小、重量輕、功耗低。取樣鎖相器的相位噪聲在理論惡化20LgN的基礎(chǔ)上幾乎無(wú)附加惡化。在相位噪聲指標(biāo)上微波取樣鎖相頻率合成較直接倍頻合成和數(shù)字鎖相有更優(yōu)越的噪聲性能,相位噪聲更低。介質(zhì)諧振器品質(zhì)因數(shù)Q值高、體積小,用介質(zhì)諧振器穩(wěn)頻的振蕩器具有相位噪聲低、成本低的優(yōu)點(diǎn)。因介質(zhì)諧振器頻帶窄,故其適用于點(diǎn)頻工作狀態(tài),所以一般情況下將其用于高穩(wěn)定度微波本振。

        介質(zhì)振蕩器中的相位噪聲即提高相位噪聲的方法有,[30]選擇高Q值得的諧振回路。除了采用介質(zhì)振蕩器外,作為振蕩器中放大器的的放大管也要選擇低噪聲的GaAs FET管。

        2 PDRO的現(xiàn)狀

        PDRO主要作為各種電子設(shè)備的高性能本振,其性能的優(yōu)劣直接決定了整個(gè)系統(tǒng)的性能,素有“電子系統(tǒng)的心臟”之稱。研制高性能、高可靠性的PDRO對(duì)于提高電子系統(tǒng)的性能有重大的現(xiàn)實(shí)意義。

        目前美國(guó)CTI公司在PDRO的研發(fā)的產(chǎn)品分為外部參考、內(nèi)部參考和雙鎖相環(huán)外部參考3個(gè)系列,工作頻率覆蓋3~45 GHz:參考信號(hào)頻率1~100 MHz:

        工作溫度范圍可達(dá)-55~+85℃。其產(chǎn)品的主要參數(shù)見(jiàn)表1;相位噪聲指標(biāo)見(jiàn)表2。

        表1 CTI公司PDRO主要參數(shù)

        表2 CTI公司PDRO相位噪聲指標(biāo)

        3 結(jié)語(yǔ)

        PDRO因其特有的技術(shù)優(yōu)勢(shì)在未來(lái)微波系統(tǒng)中將有更廣泛的應(yīng)用,小型化、器件化的PDRO產(chǎn)品是未來(lái)發(fā)展的趨勢(shì),基于多年的微波半導(dǎo)體材料、器件的科研基礎(chǔ),正在展開(kāi)此類產(chǎn)品的探索研究,目前已研制成功部分鎖相源內(nèi)部功能單元芯片,但距離成熟化的高集成低相噪鎖相源還存在較大差距,需要進(jìn)一步的技術(shù)攻關(guān)與摸索。在PDRO的研究方向有以下5個(gè)方面:

        (1)器件化:采用SOC技術(shù),將鎖相微波電路結(jié)合微波壓控振蕩器整合在一塊或多塊芯片上,通過(guò)高可靠的金屬封裝代替原來(lái)的組件級(jí)盒體封裝模式,體積可縮小至現(xiàn)有產(chǎn)品的1%以下,工作溫度可以拓展到-65~+125℃,環(huán)境適應(yīng)性更強(qiáng),批量生產(chǎn)效率高、一致性好。

        (2)提高工作頻段。隨著現(xiàn)有工藝水平的提高和新工藝的應(yīng)用,可以研發(fā)工作頻率更高的PDRO。

        (3)增強(qiáng)性能。隨著材料科學(xué)的發(fā)展,決定振蕩器相位噪聲性能的高Q值諧振器材料研制技術(shù)不斷提高,振蕩器的穩(wěn)定性和相位噪聲指標(biāo)可大幅提升,采用SOC技術(shù)的微波芯片可以實(shí)現(xiàn)多環(huán)符合技術(shù),使整個(gè)鎖相源的相位噪聲可以在現(xiàn)有技術(shù)上進(jìn)一步提高。

        (4)擴(kuò)展應(yīng)用范圍。伴隨PDRO產(chǎn)品的模塊化、器件化和新標(biāo)準(zhǔn)的建立,新的高性能PDRO可用于更多集成度更高的系統(tǒng)。

        (5)擴(kuò)展性更強(qiáng)。在低相噪鎖相源的技術(shù)基礎(chǔ)上可根據(jù)不同需求研制出具備大功率、多點(diǎn)跳頻等多種集成化芯片電路。

        除上述電子電路方面的技術(shù)以外,PDRO還需要在材料、化學(xué)等方面的技術(shù)研發(fā)。

        PDRO中使用的介質(zhì)諧振器是用低損耗、高介電常數(shù)的介質(zhì)材料(通常為圓柱型功能陶瓷材料)諧振器。有如下特性:

        ①體積小,由于材料的高介電常數(shù),可使介質(zhì)諧振器的體積小至空腔波導(dǎo)或同軸諧振器的1/10以內(nèi),為電路小型化提供了可能。

        ②Q值高(品質(zhì)因數(shù)),在0.1~30 GHz范圍內(nèi),Q值可達(dá)103~104。

        ③諧振頻率的溫度穩(wěn)定性優(yōu)異,介質(zhì)材料的介電常數(shù)會(huì)隨溫度變化,從而引起諧振器頻率的變化,實(shí)際中采用低溫度系數(shù)的材料和不同材料配比制作的補(bǔ)償型復(fù)合介質(zhì),使介質(zhì)諧振器與諧振腔在不同溫度下相互匹配,達(dá)到頻率穩(wěn)定性要求。陶瓷諧振材料的研究中既要研究陶瓷材料本身化學(xué)物理特性,又要注意制造加工工藝的研究。目前在陶瓷諧振材料制造加工工藝方面存在的主要問(wèn)題有:材料混合不均勻,造成單個(gè)器件內(nèi)部密度不一致;同一批次內(nèi)不同個(gè)體密度和組分有明顯差異;不同批次產(chǎn)品的差異更大。陶瓷諧振物理化學(xué)的差異嚴(yán)重影響電學(xué)特性,目前生產(chǎn)工藝還會(huì)造成陶瓷諧振材料內(nèi)部產(chǎn)生空洞,嚴(yán)重影響PDOR的可靠性。在PDRO的研制中還需要使用化學(xué)粘合劑,化學(xué)粘合劑的性能嚴(yán)重制約PDRO的電學(xué)性能和長(zhǎng)期工作可靠性。

        ④目前在諧振器基板都采用陶瓷材料,陶瓷材料介電常數(shù)高、穩(wěn)定性好適應(yīng)各種使用環(huán)境。但是也存在散熱性差,與金屬盒體膨脹系數(shù)不一致,焊接、燒結(jié)工藝要求高等問(wèn)題。

        取樣鑒相技術(shù),PDRO使用的鑒相方式不同于常用的將微波信號(hào)經(jīng)過(guò)分頻器,分頻到低頻在和參考信號(hào)鑒相。取樣鑒相工作原理如圖3所示,低頻參考信號(hào)激勵(lì)取樣脈沖器,產(chǎn)生從復(fù)頻率與參考頻率信號(hào)同頻的取樣窄脈沖。取樣脈沖按參考信號(hào)頻率通過(guò)取樣鑒相器對(duì)VCO的輸出微波信號(hào)進(jìn)行取樣。取樣鑒相器將每次取樣得到的電壓經(jīng)過(guò)壓控信號(hào)濾波整流電路濾波和放大后,控制VCO的工作頻率,使其與參考信號(hào)頻率的整數(shù)保持一致(fVCO=Nf參考,N為整數(shù),PDRO中作為VCO的介質(zhì)振蕩器調(diào)頻率范圍,在Nf參考上只有一個(gè)頻點(diǎn),因此不會(huì)出現(xiàn)錯(cuò)鎖頻率的情況。)具體工作過(guò)程是整個(gè)取樣鑒相系統(tǒng)穩(wěn)定工作時(shí),取樣脈沖在VCO正弦震蕩的過(guò)零時(shí)刻取樣。此時(shí),取樣鑒相器應(yīng)無(wú)電壓輸出,VCO的振蕩頻率與參考頻率為嚴(yán)格的整數(shù)倍關(guān)系。如果VCO的振蕩頻率發(fā)生偏移,使其正弦振蕩的相位發(fā)生變化,此時(shí)過(guò)零時(shí)刻提前或者推遲,過(guò)零點(diǎn)沒(méi)有落在取樣脈沖內(nèi),這時(shí)取樣鑒相器的輸出電壓不再為零,而出現(xiàn)正、負(fù)增量電壓輸出。此增量電壓經(jīng)過(guò)壓控信號(hào)濾波整流電路輸出到VCO控制端,調(diào)節(jié)VCO的振蕩頻率趨向于保持與參考信號(hào)頻率成嚴(yán)格的整數(shù)倍,直到過(guò)零點(diǎn)再次落到取樣脈從內(nèi)。取樣鑒相技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)是,以一個(gè)較容易獲得的高品質(zhì)低頻參考源代替高品質(zhì)的高頻參考源;或在參考源相同的條件下,避免了分頻器對(duì)相位噪聲的影響[4]。

        圖3 取樣鑒相系統(tǒng)組成

        綜上,PDRO由于其自身特點(diǎn),其研究發(fā)展涉及電學(xué)、材料和化學(xué)等多學(xué)科,需要多學(xué)科共同努力。

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