“摩爾定律”在很長時(shí)間里，都充當(dāng)著半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展指南，但這一科技樂觀主義卻在2005年左右開始退潮。該定律1965年由英特爾創(chuàng)始人戈登·摩爾提出，它不是一種解釋科學(xué)的精確定律，更像是IT業(yè)的經(jīng)驗(yàn)之談。其內(nèi)容是：微芯片集成的晶體管數(shù)量每18到24個(gè)月就會(huì)翻一番。由于晶體管是電腦的信息載體，該定律也被引申為計(jì)算能力的倍增。

行業(yè)也一直按照摩爾定律的“劇本”演化：晶體管的尺寸不斷微縮，光刻的精度越來越重要。

時(shí)間來到上世紀(jì)90年代末，隨著摩爾定律的繼續(xù)演進(jìn)，工藝開始從130nm進(jìn)入90nm，晶圓尺寸也從8英寸升級(jí)到12英寸。與此同時(shí)，光刻機(jī)的波長也從248nm進(jìn)入到193nm，但沒想到的是，產(chǎn)業(yè)在193nm波長上，一卡卡了近20年。

一次又一次地，人們預(yù)言摩爾定律已經(jīng)到頭了，但一次又一次地，出現(xiàn)了新的技術(shù)創(chuàng)新，于是，摩爾定律繼續(xù)有效。

不過，到了2005年左右，芯片行業(yè)又卷到了瓶頸，甚至摩爾本人也表示“這一預(yù)言是不可持續(xù)的”。也正是在這時(shí)，伴隨著消費(fèi)電子的崛起，我社記者判斷摩爾定律將逐步“腦死亡”。

經(jīng)歷數(shù)十年的發(fā)展，半導(dǎo)體工藝制程正向3納米、2納米推進(jìn)，晶體管尺寸已逼近物理極限，先進(jìn)工藝的迭代收效放緩，制造、設(shè)計(jì)成本卻大幅增長。放眼全球，目前具備5納米及以下制程能力的晶圓代工廠僅有臺(tái)積電、三星兩家，英特爾正在奮力研發(fā)追趕臺(tái)積電，格芯、聯(lián)電等晶圓代工企業(yè)則幾乎放棄了先進(jìn)制程的競逐。