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        釬焊時間對CoFeNiCrCu高熵釬料釬焊SiC陶瓷接頭組織與性能的影響

        2022-06-08 03:49:48王秒王微楊云龍檀財旺王剛
        航空學(xué)報 2022年4期
        關(guān)鍵詞:界面

        王秒,王微,楊云龍,檀財旺,王剛,*

        1. 安徽工程大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院,蕪湖 241000 2. 安徽機(jī)電職業(yè)技術(shù)學(xué)院 航空與材料學(xué)院,蕪湖 241002 3. 哈爾濱工業(yè)大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院,威海 264209

        SiC陶瓷具有強(qiáng)度硬度高、密度低、熱膨脹系數(shù)低和化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定等優(yōu)點,在航空航天、汽車電子和能源等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。然而,由于SiC陶瓷具有硬度過高、脆性大、抗熱震性弱和電導(dǎo)率低等缺點,導(dǎo)致其可加工性低,常規(guī)的加工方法難以實現(xiàn)復(fù)雜及大尺寸SiC陶瓷構(gòu)件的制備。通過焊接方法將小尺寸SiC連接成大尺寸SiC是一種有效的方法。在眾多焊接方法中,釬焊由于工藝簡單、成本低、接頭強(qiáng)度高等優(yōu)點,被普遍應(yīng)用于SiC陶瓷材料的連接。

        在SiC陶瓷的釬焊過程中,釬料的選擇直接影響其與陶瓷間的潤濕性、接頭界面反應(yīng)產(chǎn)物和接頭殘余應(yīng)力,進(jìn)而影響接頭的力學(xué)性能。傳統(tǒng)的釬料體系中,Ti-Ni系和AgCuTi系活性合金釬料因其與SiC間良好的潤濕性而被廣泛應(yīng)用于SiC陶瓷釬焊,研究人員對其進(jìn)行了大量研究。Dai等采用Ag-Cu-Ti釬料實現(xiàn)了SiC陶瓷的連接并對接頭的界面微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征。研究結(jié)果表明接頭結(jié)合良好,在界面處未檢測到孔洞裂紋和紋裂等缺陷,但在接頭中心區(qū)域有大量脆性金屬間化合物TiCu及TiCu生成,極大降低了接頭力學(xué)性能。Qi等采用Ni-Ti釬料對SiC陶瓷進(jìn)行了釬焊連接。研究發(fā)現(xiàn),接頭中心區(qū)主要由TiNi金屬間化合物組成并且TiNi相具有極高的熱膨脹系數(shù),TiNi與SiC之間的熱膨脹系數(shù)失配引起的殘余應(yīng)力是接頭失效的主要原因。因此,亟待開發(fā)出新型釬料以實現(xiàn)SiC陶瓷的可靠連接。

        近年來,一些先進(jìn)材料逐漸成為新型釬料研究的重點,如非晶釬料、復(fù)合釬料和高熵釬料等。其中,高熵合金(High-Entropy Alloys, HEA)具有高強(qiáng)度、高硬度、高耐磨性、高抗氧化性、高耐腐蝕性等一系列的優(yōu)良性能,近年受到研究人員的廣泛研究,是一種極具發(fā)展前景的新型金屬材料?;谄錈崃W(xué)上的高熵混合效應(yīng),會促使界面微結(jié)構(gòu)傾向于納米化及非晶化,從而形成體心或面心立方固溶體結(jié)構(gòu),有效抑制脆性金屬間化合物的產(chǎn)生。此外,高熵合金的流動性高且具有較低的熱膨脹系數(shù),這使其成為極具潛力的陶瓷釬焊的新型釬料。

        目前,學(xué)者們已經(jīng)開發(fā)出多種體系的高熵合金(如AlCoCrFeNiTi, FeCrMnNiCo和CoCrCuFeNiTi等),但采用高熵合金作為釬料的釬焊研究仍鮮有報道。Bridges等采用Ni-Mn-Fe-Co-Cu高熵合金作為釬料實現(xiàn)了Inconel 718的有效連接,受到高熵效應(yīng)影響,此時接頭由固溶體組成,接頭最大抗剪強(qiáng)度為220 MPa。并且釬焊后接頭中產(chǎn)生的HEA固溶體相對原始HEA材料硬度提高了4倍,這主要歸功于釬焊過程中基體中大原子尺寸的Mo或Nb元素的進(jìn)入引起晶格畸變,從而提高了接頭的力學(xué)性能。Zhang等采用Ti/FeCoNiCrCu高熵合金復(fù)合釬料釬焊了ZrB-SiC-C(ZSC)陶瓷和GH99高溫合金并對接頭的界面組織與力學(xué)性能進(jìn)行了研究。研究結(jié)果表明,Ti/FeCoNiCrCu復(fù)合填料的高熵混合效應(yīng)保持了活性元素Ti和Cr的活性。固溶體以焊縫的基體形式形成。(TiB+CrB)/固溶體的相結(jié)構(gòu)保證了ZSC陶瓷與GH99合金之間的良好結(jié)合,接頭的最大剪切強(qiáng)度高達(dá)71 MPa。

        目前,大多數(shù)高熵合金熔點均較高(大于1 400 ℃),若采用此類高熵合金作為釬料,則對釬焊工藝及設(shè)備要求較高。另外,還有一些低熔點高熵合金,此類高熵合金熔點低于800 ℃,而該類高熵合金通常具有一定毒性(如TiZrHfBeNi),價格昂貴且制備工藝較為復(fù)雜。CoFeNiCrCu高熵合金具有典型的FCC(Face Centered Cubic)固溶體結(jié)構(gòu),其強(qiáng)度、塑性和高溫力學(xué)性能優(yōu)異。根據(jù)Wang等的研究發(fā)現(xiàn)CoFeNiCrCu高熵合金熔點在1 140 ℃左右,熔化溫度適中。同時,CoFeNiCrCu高熵合金的5種元素是常見金屬,具有價格低廉且易制備的特點。因此本文以CoFeNiCrCu高熵合金作為釬料,研究了不同釬焊時間對SiC陶瓷釬焊接頭的界面微觀組織結(jié)構(gòu)、界面反應(yīng)機(jī)理及力學(xué)性能的影響規(guī)律。

        1 試驗材料及方法

        試驗中采用的SiC陶瓷由北京凱發(fā)特陶科技有限公司提供,采用熱壓燒結(jié)法制備,密度為3.2 g/cm,熱膨脹系數(shù)為4.6×10K,抗彎強(qiáng)度為470 MPa。試驗中所采用的CoFeNiCrCu高熵合金釬料是由純度為99.5 wt%的Fe、Co、Ni、Cr、Cu金屬粉末按等摩爾比進(jìn)行配料,采用真空熔煉制備成直徑為6 mm的CoFeNiCrCu高熵合金棒。

        釬焊試驗前,將SiC陶瓷采用線切割加工成4 mm×4 mm×4 mm和10 mm×10 mm×4 mm兩種尺寸規(guī)格。利用線切割將CoFeNiCrCu棒切成尺寸為600 μm的圓片,然后采用SiC砂紙將其打磨至400 μm。釬焊前,上述所有試樣均通過砂紙打磨、拋光和干燥處理。將準(zhǔn)備好的SiC陶瓷及CoFeNiCrCu合金片放入高壓石墨模具裝配好。圖1(a)和圖1(b)分別為釬焊裝配圖和剪切試驗示意圖。由于釬焊溫度一般設(shè)定高于熔點的20~40 ℃,結(jié)合文獻(xiàn)[23]及本文中圖2所示DTA(Differential Thermal Analysis)結(jié)果,CoFeNiCrCu合金的熔點約為1 140 ℃,因此本文釬焊溫度設(shè)定為1 180 ℃,保溫時間分別設(shè)定為30、60、90 min。

        圖1 試樣裝配和剪切示意圖Fig.1 Schematic diagram of brazing assembly and shear test

        采用掃描電子顯微鏡(SEM,SU8000)對釬料和釬焊接頭微觀組織進(jìn)行表征,并結(jié)合掃描電鏡配套的能譜儀(EDX,TN-8000) 對接頭界面產(chǎn)物進(jìn)行分析。XRD(X-Ray Diffraction,D8 FOCUS)測試位置為剪切試樣斷口表面。測試前,利用砂紙將斷口表面殘余的陶瓷清理干凈。XRD掃描角度為20°~100°,掃描速度為5 (°)/min。樣品的室溫剪切強(qiáng)度測試在電子萬能試驗機(jī)(EUTM,MTS CMT4204)上測得,測試速度為0.5 mm/min。每個工藝條件下的剪切試驗樣品分別測試3次,取平均值。采用大平臺顯微鏡(ARTCAM-300MI-C)及掃描電子顯微鏡對剪切樣品的斷口進(jìn)行觀察,確定斷裂位置,分析斷裂機(jī)理。

        圖2 CoFeNiCrCu合金的DTA曲線Fig.2 DTA curve of CoFeNiCrCu alloy filler

        2 結(jié)果與討論

        2.1 高熵合金的顯微組織

        圖3為CoFeNiCrCu高熵合金的SEM照片及XRD圖譜。從圖3(a)中可以看出,CoFeNiCrCu高熵合金由樹枝狀的A相及處于晶間區(qū)域的B相組成。表1為圖3(a)中A和B兩相的EDS(Energy Dispersive Spectrometer)能譜結(jié)果,顯示出圖3(a)中A和B兩相原子百分含量??梢园l(fā)現(xiàn),A相中各個元素含量較為均勻,B相主要由Cu元素組成,并且A相表現(xiàn)出高熵特有FCC固溶體相的特征。為了方便起見,A相記為HEAF相,B相記為Cu(s, s)。Cu在高熵合金中是一種電負(fù)性元素,它在FCC枝晶中處于不穩(wěn)定狀態(tài),易從枝晶中析出至晶間區(qū)域,產(chǎn)生Cu團(tuán)聚體,這與Wang等的研究結(jié)果相符。圖3(b)顯示了CoFeNiCrCu的XRD圖譜以及(111)、(200)、(220)和(311)衍射晶面位置。XRD圖譜證實了上述的SEM分析結(jié)果。

        圖3 CoFeNiCrCu合金的組織結(jié)構(gòu)Fig.3 Microstructure of CoFeNiCrCu alloy

        表1 圖3(a)中CoFeNiCrCu不同位置原子含量

        2.2 SiC/CoFeNiCrCu/SiC釬焊接頭的典型界面組織形貌

        圖4為釬焊1 180 ℃、保溫30 min時釬焊接頭的典型微觀組織。圖4(a)為焊縫的整體形貌,可以看出,接頭結(jié)合良好,無微觀孔洞和裂紋等缺陷。接頭可分為2個區(qū)域,即界面反應(yīng)層(區(qū)域I),接頭中心區(qū)域(區(qū)域II),接頭整體厚度約為400 μm。

        圖4 1 180 ℃釬焊30 min時SiC/CoFeNiCrCu/SiC 接頭典型組織Fig.4 Typical microstructure of SiC/CoFeNiCrCu/SiC joint brazed at 1 180 ℃ for 30 min

        圖4(b)為圖4(a)的SEM放大照片,可以發(fā)現(xiàn),區(qū)域I寬度約為9 μm。

        從圖4中還可以看出區(qū)域I中存在3種相,包括少量的白色相,大量彌散分布的黑色相以及連續(xù)分布灰色相,分別記為A相、B相和C相。同時可發(fā)現(xiàn)區(qū)域II中存在2種相,灰色相呈連續(xù)分布,白色相呈彌散分布,分別記為D相和E相。為了進(jìn)一步確認(rèn)區(qū)域I和區(qū)域II中各相組成,對這兩個區(qū)域內(nèi)的相進(jìn)行了能譜分析,結(jié)果如表2所示??梢钥闯觯瑓^(qū)域I中白色相A的主要成分為Cu元素,推測此相為Cu(s, s)。黑色相B的主要成分為Si,推測此相為Si基固溶體(Si(s, s)), 與Li等的研究類似。C相中主要成分為C和Cr,其原子比接近4∶1,推測其可能為CrC。Liu等報道了多種釬料/SiC體系的反應(yīng)性和潤濕性,以及(液態(tài)釬料+Si)/SiC體系的潤濕行為和機(jī)理。研究發(fā)現(xiàn),釬焊過程中Cr和SiC可形成的化合物主要有CrC、CrC、CrC、CrSi、CrSi以及CrSiC。其中,形成CrC所需的Gibbs自由能最低 (Δ=-309.600-0.077 4kJ/mol,為溫度),因此推斷C相為CrC。

        在區(qū)域Ⅱ內(nèi),呈灰色連續(xù)分布的D相的主要成分為Co、Cu、Cr、Ni和Fe,幾種原子含量相近。彌散分布的白色相D主要為銅元素富集區(qū)。因此,推測D相和E相分別為HEAF和Cu(s, s)。這主要是釬焊過程中受到高熵效應(yīng)的影響接頭保留了原始高熵釬料中的FCC相和Cu相成分與圖3(a)所示原始高熵組織類似,但接頭中心區(qū)中的Cu(s, s)相分布更加均勻和彌散。為了進(jìn)一步證明上述結(jié)論,對剪切試驗后接頭的斷口表面進(jìn)行XRD分析(如圖5所示), 可以看出相組成為HEAF、CrC、Cu(s,s)和Si(s,s)。

        表2 SiC/CoFeNiCrCu/SiC接頭不同位置原子含量Table 2 Atom content in different positions of SiC/CoFeNiCrCu/SiC joint

        圖5 不同釬焊時間接頭的XRD圖譜Fig.5 XRD pattern of joint with different brazing time

        圖6 不同釬焊時間接頭的剪切強(qiáng)度Fig.6 Shear strength of joint with different brazing time

        綜合以上分析結(jié)果,可以確定SiC/CoFeNiCrCu/SiC接頭的典型界面組織為: SiC/CrC+Cu(s,s)+Si(s,s)/HEAF+Cu(s,s)/CrC+Cu(s,s)+Si(s,s)/SiC。

        2.3 不同釬焊時間對接頭力學(xué)性能的影響及接頭典型失效模式

        圖6為不同釬焊時間接頭的室溫剪切強(qiáng)度測試結(jié)果??砂l(fā)現(xiàn)接頭的室溫剪切強(qiáng)度隨著釬焊時間的增加先升高后降低,在釬焊時間為60 min時達(dá)到最大,約61 MPa。相比于傳統(tǒng)AgCuTi釬料,采用高熵釬料釬焊SiC獲得的接頭剪切強(qiáng)度明顯較高,這主要得益于采用高熵釬料釬焊時,受到高熵效應(yīng)的影響,接頭中可保留其高熵相結(jié)構(gòu),進(jìn)而可以提高接頭力學(xué)性能。

        圖7為釬焊溫度為1 180 ℃、保溫60 min時釬焊接頭的剪切斷口典型形貌。圖7(a)和圖7(b)分別為接頭宏觀斷口形貌及微觀斷口形貌,可以觀察到斷裂主要發(fā)生在SiC陶瓷中,是典型陶瓷脆性斷裂。裂紋從遠(yuǎn)離接頭的SiC陶瓷開始萌生并向接頭方向擴(kuò)展,最終斷裂在陶瓷與反應(yīng)層的界面處?;诟哽睾辖鸬母哽匦?yīng),在釬焊過程中會促使界面微結(jié)構(gòu)非晶化,接頭中主要形成面心立方固溶體結(jié)構(gòu),這有效抑制了易導(dǎo)致接頭失效的脆性金屬間化合物的產(chǎn)生,從而有效地提高了接頭力學(xué)性能。此時,接頭的斷裂主要是因為在載荷的作用下,裂紋在殘余應(yīng)力與外加載荷之和最大處起裂,裂紋擴(kuò)展至焊縫處,最終發(fā)生斷裂。

        圖7 釬焊接頭典型剪切斷口形貌Fig.7 Typical fracture surface of brazed joint after shear test

        2.4 釬焊時間對SiC/CoFeNiCrCu/SiC接頭微觀組織的影響

        圖8為釬焊溫度為1 180 ℃時,不同保溫時間對SiC/CoFeNiCrCu/SiC接頭的微觀形貌的影響??梢钥闯?,隨著釬焊時間增加,接頭組織中相的種類沒有發(fā)生變化,但界面反應(yīng)層厚度發(fā)生了明顯變化,隨著釬焊時間的延長,界面反應(yīng)層厚度不斷增加。圖5所示不同保溫時間下釬焊接頭的XRD結(jié)果也從側(cè)面證明了這一點。

        從圖8(a)及圖8(b)中可發(fā)現(xiàn),當(dāng)保溫時間較短(30 min)時,接頭中SiC陶瓷與焊縫界面處出現(xiàn)了一層寬度約9 μm的反應(yīng)層,這是由于保溫時間較短,界面反應(yīng)不充分,因此,此時接頭的剪切強(qiáng)度最低。同時接頭中心區(qū)域由Cu(s, s)和HEAF組成,其中,Cu(s, s)呈等軸和條狀形貌。當(dāng)釬焊時間為60 min時(如圖8(c)和圖8(d)所示),隨著反應(yīng)時間的延長,反應(yīng)進(jìn)一步進(jìn)行,反應(yīng)層厚度增加至20 μm。接頭中心區(qū)域仍是由Cu(s, s)和HEAF組成,但Cu(s, s)形態(tài)較釬焊時間為30 min時的有一定變化,Cu(s, s)主要呈現(xiàn)條狀形貌且彌散分布。此外,還可以看出釬焊時間增加可導(dǎo)致界面凹凸不平程度增加,這種凹凸界面有利于增加界面結(jié)合力并提高接頭的強(qiáng)度。Zhang等研究了表面具有周期性凹凸界面結(jié)構(gòu)的AlO陶瓷與不銹鋼真空釬焊過程中的殘余應(yīng)力再分布。結(jié)果表明,陶瓷表面具有凹凸界面結(jié)構(gòu)可以使界面殘余應(yīng)力從拉伸狀態(tài)向壓縮態(tài)突變,從而阻礙裂紋擴(kuò)展,提高接頭強(qiáng)度。此時,接頭剪切強(qiáng)度最高為61 MPa。當(dāng)釬焊時間增加至90 min時(如圖8(e)及圖8(f)所示),反應(yīng)層增加至25 μm,反應(yīng)層中出現(xiàn)了大量的缺陷,這主要是由于釬焊時間較長導(dǎo)致冶金反應(yīng)過度,接頭中產(chǎn)生大量的CrC脆性相,由于其與高熵合金膨脹系數(shù)差異較大,這使接頭在冷卻過程中形成較大的應(yīng)力集中并導(dǎo)致接頭產(chǎn)生裂紋,極大地降低了接頭力學(xué)性能,接頭剪切強(qiáng)度僅為49 MPa。

        圖8 不同釬焊時間接頭組織Fig.8 Microstructure of joint with different brazing time

        2.5 釬焊接頭形成機(jī)理

        通過研究不同保溫時間下獲得的SiC/CoFeNiCrCu/SiC接頭界面組織,對接頭的釬焊機(jī)制進(jìn)行總結(jié),可以發(fā)現(xiàn)接頭的形成過程可以分為以下4個階段,如圖9所示。

        圖9 SiC/CoFeNiCrCu/SiC接頭界面組織形成機(jī)理Fig.9 Evolution mechanism of microstructure of SiC/CoFeNiCrCu/SiC brazed joints

        1) 鋪展?jié)櫇瘢涸阝F焊過程中,當(dāng)溫度低于1 140 ℃時,塑性變形的釬料在壓力的作用下與陶瓷緊密接觸。當(dāng)溫度升高到1 140 ℃時,熔化的CoFeNiCrCu開始在陶瓷母材的表面潤濕鋪展,元素間的相互擴(kuò)散開始。此時,由于高熵效應(yīng)的影響,此時接頭仍為高熵合金結(jié)構(gòu)。

        2) 液相擴(kuò)散:當(dāng)溫度升高至1 180 ℃時,液態(tài)釬料在毛細(xì)作用下向陶瓷母材內(nèi)部擴(kuò)散,使得部分母材溶解在熔化的液態(tài)釬料中使得陶瓷界面凹凸不平。與此同時,不穩(wěn)定的活性Cr元素也從HEAF相中析出并向SiC陶瓷界面處擴(kuò)散。

        3) 界面反應(yīng):當(dāng)保溫階段開始時,Cr和SiC高溫下發(fā)生了化學(xué)反應(yīng)(Cr+SiC→CrC+Si)。CrC相和Si(s, s)相在陶瓷側(cè)生成。隨著界面反應(yīng)的持續(xù)進(jìn)行,反應(yīng)層逐漸生長變厚。

        4) 殘余液相凝固:當(dāng)降溫階段開始,殘留的液態(tài)釬料開始凝固。在高熵合金特有的高熵效應(yīng)和緩慢擴(kuò)散效應(yīng)作用下,界面微結(jié)構(gòu)傾向于非晶化,因此殘留的液態(tài)釬料的凝固產(chǎn)物仍然保持著高熵合金的結(jié)構(gòu)。Cu與Fe、Cr、Co、Ni的混合焓較大,Cu與其他元素之間的弱互溶性導(dǎo)致Cu從HEAF枝晶間富集形成富Cu的FCC相,即Cu(s, s)。與此同時,由于Cu元素的擴(kuò)散和其他元素的排斥,少量Cu元素也進(jìn)入反應(yīng)層中,在反應(yīng)層中生成了Cu(s, s)。

        3 結(jié) 論

        1) 采用CoFeNiCrCu高熵合金作為釬料實現(xiàn)對SiC陶瓷的釬焊連接,當(dāng)釬焊溫度為1 180 ℃,保溫60 min時,SiC/CoFeNiCrCu/SiC接頭的典型界面組織為: SiC/CrC+Cu(s,s)+Si(s,s)/HEAF+Cu(s,s)/CrC+Cu(s,s)+Si(s,s)/SiC。

        2) 隨著保溫時間的延長,接頭界面反應(yīng)越來越劇烈,反應(yīng)層厚度不斷增加,當(dāng)保溫時間為90 min時,反應(yīng)層厚度最大為25 μm。

        3) 隨著保溫時間的延長,接頭的剪切強(qiáng)度先增大后減小,在保溫60 min時接頭剪切強(qiáng)度達(dá)到最大為61 MPa。此時斷裂主要發(fā)生在SiC陶瓷中。

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