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        SiC襯底上β-Ga2O3薄膜生長及p-SiC/n-β-Ga2O3異質(zhì)結(jié)光伏特性

        2022-01-14 05:36:54羅建仁王相虎樊天曜金嘉妮張如林
        人工晶體學(xué)報 2021年12期
        關(guān)鍵詞:生長

        羅建仁,王相虎,樊天曜,金嘉妮,張如林

        (上海電機學(xué)院材料學(xué)院,上海 201306)

        0 引 言

        近年來,β-Ga2O3由于具有極寬禁帶(4.9 eV)、高的擊穿電場強度、高的工作溫度、低的器件導(dǎo)通電阻、高的電子密度等優(yōu)勢,有望廣泛應(yīng)用于高溫氣體傳感器、大功率電子器件、日盲紫外探測器等領(lǐng)域,受到越來越多的關(guān)注[1-6]。

        Ga2O3具有α、β、γ、δ和ε五個不同的晶體相結(jié)構(gòu),各相可以在不同的溫度條件下進行轉(zhuǎn)換。而在五種相中,β-Ga2O3最為穩(wěn)定,其具有良好的熱穩(wěn)定性、化學(xué)穩(wěn)定性[7-10],對紫外、可見光區(qū)都具有較高的透過率[11]。本征的β-Ga2O3呈n型電導(dǎo)特征,也可以通過摻雜來改變其電學(xué)性能,例如通過摻雜Si、Sn取代Ga,來調(diào)節(jié)電子濃度和遷移率,實現(xiàn)對電導(dǎo)率的調(diào)控[12],而通過摻雜Fe使其達到高度絕緣[13]。

        眾所周知,由于深受主能級、低的受主摻雜效率、自補償?shù)仍?,?dǎo)致p型β-Ga2O3和同質(zhì)結(jié)很難制備,因此,目前β-Ga2O3基結(jié)型器件主要以異質(zhì)結(jié)為主,其結(jié)構(gòu)主要為n-β-Ga2O3/p型半導(dǎo)體材料(例如,p-GaN、p-SiC等)[14],寬禁帶半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)的光電轉(zhuǎn)換特性具有非常廣泛的用途,可用作光伏器件的頂電池等。

        β-Ga2O3薄膜的制備包括射頻磁控濺射法[15-16]、化學(xué)氣相沉積法[17-18]、電化學(xué)沉積法[19]以及脈沖激光沉積法(PLD)[20-21]等,其中,PLD是通過激光束與靶材的強烈相互作用,使得靶材獲得極高的能量從而使其表面濺射出高密度的氣態(tài)分子,也就是通常稱呼的等離子體羽輝,使其在襯底上沉積形成薄膜[21],由于等離子體羽輝具有非常高能量,因此,PLD技術(shù)非常適合高質(zhì)量β-Ga2O3薄膜的制備[12]。

        本文采用PLD技術(shù),在p型4H-SiC基底上制備β-Ga2O3薄膜,研究了生長溫度對薄膜結(jié)構(gòu)、成分等的影響,并制備出p-SiC/n-β-Ga2O3異質(zhì)結(jié),測量了其光伏特性。

        1 實 驗

        1.1 材料和儀器

        采用脈沖激光沉積法(PLD,日本ANSEI TECH CO.LTD.OSAKA),在p型4H-SiC(遷移率為750 cm2·V-1·s-1,空穴濃度3.7×1016cm-3)襯底上制備β-Ga2O3薄膜。以純度(質(zhì)量分數(shù))為99.999%的Ga2O3為靶材。利用D8 ADVANCE X射線衍射儀(XRD)、Multimode 8三維形貌與測厚儀(AFM)和Apollo XP能譜儀(EDX)對β-Ga2O3薄膜的形貌、結(jié)構(gòu)進行表征,利用94063A-1000太陽光模擬器測量n-β-Ga2O3/p-4H-SiC異質(zhì)結(jié)太陽電池的光伏特性。

        1.2 制備工藝

        襯底已經(jīng)按照標準清洗步驟進行清洗,生長之前再利用無水乙醇對4H-SiC襯底進行超聲10 min,然后利用等離子水進行沖洗,最后用氮氣傾斜襯底對其進行吹干。靶材利用高濃度鹽酸對其表面進行腐蝕,然后利用等離子水進行沖洗,最后利用氮氣吹干。將清洗好的襯底與靶材在沉積室內(nèi)裝好,靶材與襯底之間距離為40 mm,將生長室內(nèi)的氣壓抽至1×10-5Pa后,開啟加熱系統(tǒng)對襯底加熱,待溫度穩(wěn)定后打開O2通道調(diào)節(jié)沉積室氣壓至1×10-1Pa,最后對激光參數(shù)進行設(shè)置,激光能量以及激光頻率分別設(shè)置為225 mJ和5 Hz,打開激光,沉積2 h后,關(guān)閉裝置,使其冷卻。生長溫度分別設(shè)置為300 ℃、400 ℃、500 ℃、600 ℃(記為樣品A、B、C、D)。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 X射線衍射分析

        如圖1所示,根據(jù)JCPDS No.43-1012卡片,衍射角在32.2°、35.6°、54.6°、67.0°對應(yīng)SiC在(0099)、(0001)、(107)、(301)的峰位,而64.6°對應(yīng)于β-Ga2O3在(403)的峰位。通過Lorentz擬合得到,當(dāng)生長溫度分別為300 ℃、400 ℃、500 ℃、600 ℃時,β-Ga2O3在(403)面衍射峰位的半峰全寬(FWHM)值分別為0.048°、0.042°、0.039°、0.077°,即,隨著生長溫度從300 ℃升高到500 ℃,F(xiàn)WHM值首先下降,當(dāng)溫度進一步上升到600 ℃時,F(xiàn)WHM值升高,這是因為當(dāng)生長溫度從300 ℃升高到500 ℃時,薄膜的結(jié)晶質(zhì)量隨著溫度的升高而變好,當(dāng)溫度進一步上升至600 ℃時,由于SiC的熱膨脹系數(shù)為3.5×10-6K-1[22],大于β-Ga2O3的熱膨脹系數(shù)(1.4×10-6K-1[23]),引起β-Ga2O3薄膜與SiC晶格失配進一步增加,導(dǎo)致薄膜結(jié)晶質(zhì)量降低。

        圖1 不同溫度樣品的XRD圖譜(a)和局部放大圖(b)Fig.1 XRD patterns of samples at different temperatures (a)and partial enlarged view (b)

        2.2 原子力顯微鏡分析

        圖2所示為樣品的AFM測試結(jié)果。當(dāng)生長溫度為300 ℃、400 ℃、500 ℃、600 ℃時,樣品的粗糙度分別為1.120 nm、0.885 nm、0.785 nm、1.080 nm,可以看出,當(dāng)溫度從300 ℃升高到500 ℃時,樣品表面粗糙度逐漸下降,在600 ℃時粗糙度上升。原因歸結(jié)為:在相對低溫(500 ℃以下)階段,生長溫度越高,沉積在襯底上原子的動能越大,越容易遷移,使得β-Ga2O3薄膜主要按照二維生長模式進行生長,薄膜結(jié)晶質(zhì)量提高,表現(xiàn)為隨著生長溫度升高,粗糙度降低;但當(dāng)溫度上升到600 ℃時,由于4H-SiC襯底和β-Ga2O3薄膜之間的熱膨脹系數(shù)存在差異,導(dǎo)致薄膜生長由主要以二維生長模式向三維島狀演變,造成表面粗造度增加。

        圖2 樣品A、B、C、D表面的AFM照片F(xiàn)ig.2 AFM images of samples A,B,C and D

        2.3 EDX能譜儀分析

        圖3所示為樣品的EDX測試結(jié)果,樣品在300 ℃、400 ℃、500 ℃、600 ℃生長時,Ga∶O原子比值分別為0.59、0.60、0.64、0.65,當(dāng)溫度從300 ℃上升至600 ℃,Ga∶O原子比上升,且不斷接近β-Ga2O3的Ga∶O原子比≈0.67的數(shù)值。隨著溫度的升高,Ga2O3羽輝過程中,獲得動能逐漸增多,使得Ga分子含量逐漸增多,但由于氧壓大,導(dǎo)致氧原子的含量高于鎵原子。

        圖3 樣品A、B、C、D的EDX能譜儀測試結(jié)果Fig.3 EDX spectra of sample A,B,C and D

        2.4 p-4H-SiC/β-Ga2O3異質(zhì)結(jié)光伏特性

        圖4(a)是標準條件下(100 mW·cm-2,AM1.5 G光譜,25 ℃),p型4H-SiC襯底與n型β-Ga2O3薄膜構(gòu)成的異質(zhì)結(jié)太陽電池的I-V曲線測試結(jié)果。在測試之前,使用磁控濺射技術(shù)在β-Ga2O3面制備Ti/Au電極,制作工藝為:首先用掩膜板蓋住β-Ga2O3薄膜,掩膜板的形狀為1 cm×1 mm孔;然后用純金屬鈦靶濺射3 min,鍍一層1 cm×1 mm的條形電極;再利用金靶在鈦靶條形電極基礎(chǔ)上濺射3 min,鍍一層金靶條形電極;最后,在SiC背面利用掩膜板技術(shù),利用金靶濺射3 min,鍍一層1 cm×1 mm的條形電極。每一層金屬電極薄膜厚度約為500 nm,電極結(jié)構(gòu)如圖4(a)插圖所示。由XRD和Hall測試可知,在500 ℃時生長的β-Ga2O3薄膜結(jié)晶質(zhì)量最高,因此,本次實驗中采用該條件下生長的n型β-Ga2O3薄膜,與p型4H-SiC襯底構(gòu)成n-β-Ga2O3/p-4H-SiC異質(zhì)結(jié)。由圖4(a)I-V曲線測試結(jié)果可知,n-β-Ga2O3/p-4H-SiC結(jié)構(gòu)的光伏電池的開路電壓、短路電流、填充因子和光電轉(zhuǎn)換效率分別為1.19 mA、1.0 V、28.82%、3.43%。

        圖4 (a)n-β-Ga2O3/p-4H-SiC太陽能電池結(jié)構(gòu)的I-V曲線(插圖為電極結(jié)構(gòu))和(b)能帶結(jié)構(gòu)Fig.4 (a)I-V curve of n-β-Ga2O3/p-4H-SiC solar cells (the insert is electrode)and (b)energy band diagram

        由文獻[24]報道,4H-SiC和β-Ga2O3的電子親和勢分別為3.6 eV和4.0 eV,由此可以計算出能帶結(jié)構(gòu)如圖4(b)所示,可以看出導(dǎo)帶帶階ΔEC=0.4 eV,價帶帶階ΔEV=1.77 eV,光照產(chǎn)生的光生載流子在內(nèi)建電場的作用下,流入回路形成電流。與其他材料太陽電池相比,例如硅光伏,其短路電流和填充因子較小,可能是由β-Ga2O3的載流子濃度和遷移率(相同制備條件下,C面藍寶石襯底上β-Ga2O3薄膜的載流子濃度為2.26×1014cm-3,遷移率為0.07 cm2·V-1·s-1)較低造成的,但是該異質(zhì)結(jié)開路電壓相對較高,這主要是由構(gòu)成異質(zhì)結(jié)材料的禁帶寬度大引起的,而3.43%的光電轉(zhuǎn)換效率是迄今為止該類太陽電池被報道的最高值,這也說明該異質(zhì)結(jié)的光伏特性還可以得到進一步提高,比如通過改進制備工藝提高β-Ga2O3薄膜結(jié)晶質(zhì)量和通過n型摻雜實現(xiàn)其更好的電學(xué)性能。

        3 結(jié) 論

        本文在4H-SiC襯底上,利用PLD技術(shù)在不同溫度下制備β-Ga2O3薄膜。通過XRD、AFM、EDX對制備的β-Ga2O3薄膜的生長以及形貌情況進行分析,發(fā)現(xiàn)在300 ℃到500 ℃溫度區(qū)間時,隨著溫度升高,β-Ga2O3薄膜晶體質(zhì)量越來越好,而當(dāng)溫度進一步上升至600 ℃時,薄膜的結(jié)晶質(zhì)量變差。通過測試n-β-Ga2O3/p-4H-SiC異質(zhì)結(jié)太陽電池的光電效應(yīng),其標準測試條件下光電轉(zhuǎn)換效率達到3.43%。

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