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        離子液體表面分子印跡聚合物制備研究

        2021-12-23 05:49:06
        合成材料老化與應(yīng)用 2021年6期
        關(guān)鍵詞:功能

        李 寧

        (陜西能源職業(yè)技術(shù)學(xué)院,陜西 咸陽 712000)

        表面分子印跡聚合物(MIP)是一種高度選擇性的高分子功能材料,具備構(gòu)效預(yù)定性、特異識(shí)別性、廣泛實(shí)用性,當(dāng)前已實(shí)現(xiàn)了在化學(xué)傳感器和環(huán)境污染物處理等多個(gè)領(lǐng)域應(yīng)用。在離子液體性能有關(guān)研究與普遍應(yīng)用的趨勢下,離子液體的毒性開始備受關(guān)注,環(huán)境樣品中的離子液體測定、回收、處理問題急需解決。傳統(tǒng)離子液體測定方法主要有紫外光譜與高效液相色譜等,比較適合濃度大且成分單一的體系,但是面向環(huán)境樣品復(fù)雜體系時(shí)精準(zhǔn)測定難度較大,然而分子印跡技術(shù)可選擇性分離并富集復(fù)雜體系的離子液體[1]。因此,本文基于分子印跡技術(shù)進(jìn)行了離子液體表面分子印跡聚合物制備研究。

        1 實(shí)驗(yàn)

        1.1 材料

        實(shí)驗(yàn)所用材料[2]主要有:氨基化苯乙烯-二乙烯基苯、丙烯酰胺(AM)、甲基丙烯酸(MAA)、二甲基丙烯酸乙二醇脂(EDMA)、偶氮二異丁腈(AIBN)、咪唑類離子液體([C4min][X])、甲醇、乙腈、冰乙酸、甲苯、乙醚、丙酮。

        1.2 儀器

        實(shí)驗(yàn)所用儀器[3]主要有:紫外可見分光光度計(jì)、真空干燥箱、數(shù)顯恒溫水浴鍋、恒溫磁力攪拌器、超聲波清洗器、水浴恒溫振蕩器、超純水儀、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、掃描電子顯微鏡、紅外光譜儀。

        1.3 模板分子與功能單體間的作用

        將0.1mmol/L 1-乙甲基醚-3-甲基咪唑雙三氟甲磺酰亞胺鹽離子液體([EOM][Tf2N])溶液和0.4mmol/L MAA、AM、4-乙烯基吡啶(4-VP)等功能單體溶液進(jìn)行等體積均勻混合,在持續(xù)相互作用2h之后,測試單獨(dú)組分融合和混合溶液紫外光譜[4],據(jù)此分析模板分子與各功能單體間的作用度。

        1.4 離子液體表面分子印跡聚合物制備

        以熱引發(fā)法進(jìn)行[EOM][Tf2N]表面分子印跡聚合物制備[5]。在50mL三氯甲烷溶劑中溶解0.210g[EOM][Tf2N]溶液,添加功能單體,以及0.51g氨基化苯乙烯-二乙烯基苯,于室溫狀態(tài)振蕩處理并反應(yīng)6h,然后添加EDMA與AIBN分別作為交聯(lián)劑與引發(fā)劑,超聲振蕩10min,通入氮?dú)膺M(jìn)行除氧處理10min,并密封于60°C溫度下振蕩聚合24h。在完全反應(yīng)完成之后,利用甲醇溶劑洗滌產(chǎn)物為無膠狀物狀態(tài),然后于60°C溫度下干燥處理24h。利用比例為8:2的甲醇和乙酸混合液作為洗脫劑,以索氏提取法于80°C溫度下洗脫模板48h,結(jié)束之后以甲醇洗到中性狀態(tài),便制備生成了[EOM][Tf2N]離子液體表面分子印跡聚合物。然后于60°C溫度下干燥處理48h放置備用。同時(shí)制備一份不添加模板分子的試樣進(jìn)行同等處理以作為空白對(duì)照物(NIP)。

        1.5 分子印跡聚合物靜態(tài)吸附性能測試

        在稱量瓶中添加15mg分子印跡聚合物與1.5mL離子液體溶液,靜態(tài)放置1h之后,添加一定體積上清液稀釋一定倍數(shù)之后,測試吸附前后紫外吸收光譜的具體變化,并計(jì)算吸附量[6]。以靜態(tài)吸附實(shí)驗(yàn),測試不同條件制備生成的分子印跡聚合物MIP與空白對(duì)照NIP的吸附性能,選取最佳合成條件。同時(shí)對(duì)吸附等溫、選擇性、動(dòng)力性進(jìn)行測試分析。

        2 結(jié)果分析

        2.1 [EOM][Tf2N]離子液體與功能單體間作用的紫外光 譜分析

        制備[EOM][Tf2N]溶液、各功能單體溶液、等濃度離子液體與功能單體混合溶液,以測試不同溶液紫外光譜?;赱EOM][Tf2N]與各功能單體之間的相互作用,可發(fā)現(xiàn)與模板分子作用更為強(qiáng)大的功能單體,以制備生成表面分子印跡聚合物,使其具備更佳選擇性與吸附性[7]。

        其中[EOM][Tf2N]與各功能單體混合溶液的吸收峰出現(xiàn)了紅移,[EOM][Tf2N]溶液和AM功能單體溶液彼此作用之后,于222nm位置的吸光度為二者之和吸光度的73%,和MAA、4-VP功能單體溶液相互作用之后,于222nm位置的吸光度為二者之和吸光度的76%、79%,相對(duì)于MAA、4-VP功能單體溶液,AM功能單體溶液與[EOM][Tf2N]溶液的相互作用偏高,這就表明[EOM][Tf2N]溶液和AM功能單體溶液間的相互作用程度較高,所以選用AM功能單體溶液,[EOM][Tf2N]溶液的表面分子印跡效果更佳。

        2.2 基于不同功能單體制備生成MIP的吸附性能分析

        以不同功能單體制備生成表面分子印跡聚合物MIP,以靜態(tài)吸附實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),計(jì)算各MIP吸附量,并考察印跡因子,即印跡聚合物相較于非印跡聚合物吸附能力的比值,印跡因子越大則代表表面分子印跡聚合物印跡效果越佳[8]?;诓煌δ軉误w制備生成MIP的吸附性測試結(jié)果見表1。由表1可知,以丙烯酰胺溶液AM為功能單體制備生成的聚合物MIP印跡效果最佳,這與紫外光譜分析結(jié)果相一致,因此,以AM為功能單體制備分子印跡聚合物MIP。

        表1 基于不同功能單體制備的表面分子印跡聚合物吸附性 Table 1 Adsorption effect of surface molecularly imprinted polymers based on different functional monomers

        2.3 基于不同溶劑制備生成MIP的吸附性能分析

        選擇極性大的溶劑甲醇、弱極性的溶劑乙腈與三氯甲烷,作為致孔劑制備生成MIP,并測試其吸附性能,結(jié)果見表2。

        表2 基于不同溶劑制備的表面分子印跡聚合物吸附性 Table 2 Adsorption effect of surface molecularly imprinted polymers based on different solvents

        由表2可知,以三氯甲烷溶劑為致孔劑制備生成的MIP印跡效果最佳,吸附量最大,所以選擇其作為溶劑。

        2.4 表面分子印跡聚合條件優(yōu)化實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析

        明確模板分子與交聯(lián)劑比值,并轉(zhuǎn)變模板分子與功能單體比值,以制備生成不同分子印跡聚合物MIP,并測試其吸附性能,從而尋求模板分子與功能單體之間的最佳比值。固定模板分子與功能單體比處于最佳狀態(tài)時(shí),轉(zhuǎn)變模板分子與交聯(lián)劑比值,以制備生成不同MIP,發(fā)現(xiàn)吸附性能最佳的分子印跡聚合物,選取最佳模板與交聯(lián)劑比值[9]?;诓煌壤齕EOM][Tf2N]和AM制備的表面分子印跡聚合物吸附性測試結(jié)果見表3。

        表3 基于不同比例[EOM][Tf2N]和AM制備的表面分子印跡聚合物吸附性能 Table 3 Adsorption properties of surface molecularly imprinted polymers based on different ratios of [EOM][Tf2N] and AM

        由表3可知,隨著[EOM][Tf2N]與AM比例增大,制備生成的分子印跡聚合物MIP吸附性能增加;在AM不斷增加的趨勢下,模板分子[EOM][Tf2N]與功能單體AM之間的相互作用結(jié)合位置點(diǎn)隨之增多,從而強(qiáng)化了制備生成的MIP吸附性能。所以,1:6模板分子[EOM][Tf2N]與功能單體AM為制備MIP的最佳比例。

        基于不同比例[EOM][Tf2N]和EDMA制備的表面分子印跡聚合物吸附性測試結(jié)果見表4。

        表4 基于不同比例[EOM][Tf2N]和EDMA制備的表面分子印跡聚合物吸附性能 Table 4 Adsorption properties of surface molecularly imprinted polymers based on different ratios of [EOM][Tf2N] and EDMA

        由表4可知,在交聯(lián)劑數(shù)量逐漸增多時(shí),以[EOM][Tf2N]與EDMA制備生成的MIP吸附性能逐步強(qiáng)化,在與交聯(lián)劑比值達(dá)到1:20時(shí),吸附性卻開始呈現(xiàn)下降狀態(tài),這可能是因?yàn)樵诮宦?lián)劑濃度增加時(shí),交聯(lián)度增加,而孔徑變小,模板分子和功能單體作用所生成的印跡聚合物包埋比較深,使得吸附底物難以由MIP中進(jìn)出,進(jìn)而導(dǎo)致吸附性能降低。所以,以1:16的模板分子與交聯(lián)劑比例制備MIP最佳。

        2.5 表面分子印跡聚合物吸附性能測試結(jié)果分析

        2.5.1 吸附等溫性

        吸附等溫性即測試分子印跡聚合物與空白對(duì)照物對(duì)不同濃度溶液的吸附量,基于吸附等溫方程[10],測試分子印跡聚合物吸附等溫性,測試結(jié)果見表5。

        表5 印跡聚合物MIP與空白對(duì)照物NIP的吸附量Table 5 Adsorption isotherms of MIP and NIP

        由表5可知,0~8 mmol/L濃度范圍之間,隨著濃度增加,分子印跡聚合物與空白對(duì)照物的[EOM][Tf2N]溶液吸附量不斷變大,在超過此范圍之后,吸附量趨向于穩(wěn)定狀態(tài),且于整個(gè)濃度范圍內(nèi),分子印跡聚合物吸附量明顯較大,而且隨著濃度增加,二者間的吸附量差異也隨之增大。

        2.5.2 吸附選擇性

        表面分子印跡聚合物選擇性是呈現(xiàn)其特異性識(shí)別功能的關(guān)鍵參數(shù),因此,以與[EOM][Tf2N]溶液結(jié)構(gòu)相似的物質(zhì)開展靜態(tài)吸附性能測試,結(jié)果見表6。

        表6 MIP與NIP對(duì)結(jié)構(gòu)相似物的吸附性能Table 6 Adsorption properties of MIP and NIP for structural analogues

        由表6可知,MIP與NIP對(duì)結(jié)構(gòu)相似物[C4mim][CH3SO3]與[TOM][PF6]的吸附效果最佳,而且吸附量差異較大,這可能是由于二者與模板分子結(jié)構(gòu)相似,可與分子印跡聚合物之間發(fā)生相似鍵合作用,因此吸附量相對(duì)較大。

        2.5.3 吸附動(dòng)力特性

        離子液體表面分子印跡聚合物吸附動(dòng)力特性測試結(jié)果見表7。

        表7 表面分子印跡聚合物吸附動(dòng)力Table 7 Adsorption kinetics of surface molecularly imprinted polymer

        由表7可見,分子印跡聚合物與空白對(duì)照物對(duì)于[EOM][Tf2N]的吸附量隨著時(shí)間增加而持續(xù)變大,于0~35 min范圍時(shí),二者吸附量增加速度比較快,而35~50 min范圍時(shí),吸附量增加速度減緩,但50min之后,吸附量不會(huì)再受時(shí)間影響,這就說明吸附過程達(dá)到了持衡狀態(tài)。這主要是因?yàn)槲匠跗?,分子印跡聚合物表面存有大量結(jié)合位點(diǎn),可迅速特異性識(shí)別并結(jié)合模板分子,在吸附過程中,根據(jù)位點(diǎn)數(shù)量縮減,[EOM][Tf2N]須有效克服表面與孔壁阻力,遷移于深處內(nèi)部結(jié)合位點(diǎn),從而減小吸附速率,減緩吸附過程,但是空白對(duì)照物因?yàn)楸砻嬷槐4媪酥驴讋┧鶜埩舻目昭?,受物理吸附作用,產(chǎn)生吸附量,但屬于非特異性,所以吸附量相對(duì)于分子印跡聚合物較小。所以離子液體表面分子印跡聚合物于35min時(shí)大約可以達(dá)到吸附均衡狀態(tài),此時(shí)聚合物印跡效果良好,結(jié)合位點(diǎn)多數(shù)存在于聚合物表層,可迅速識(shí)別并吸附模板分子,以利于分離富集并固相萃取應(yīng)用聚合物。

        3 結(jié)論

        基于分子印跡技術(shù)制備了離子液體表面分子印跡聚合物,并進(jìn)行了性能測試分析,結(jié)果表明,以AM為功能單體,以三氯甲烷溶劑為致孔劑,制備生成的MIP印跡效果最佳,吸附量最大;隨著AM增加,[EOM][Tf2N]與AM間的作用結(jié)合位置點(diǎn)逐漸增多,從而強(qiáng)化了MIP吸附性能;以[EOM][Tf2N]與EDMA制備的MIP在1:16的模板分子與交聯(lián)劑比例時(shí)印跡效果最佳;分子印跡聚合物于35min時(shí)大約可以達(dá)到吸附均衡狀態(tài),此時(shí)聚合物印跡效果良好,結(jié)合位點(diǎn)多數(shù)存在于聚合物表層,可迅速識(shí)別并吸附模板分子,以利于分離富集并固相萃取應(yīng)用聚合物。

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