Atonarp宣布推出Aston，這是一個(gè)創(chuàng)新的原位半導(dǎo)體計(jì)量平臺(tái)，集成了等離子體離子源。Ascon可實(shí)現(xiàn)原位分子過程控制，并有助于現(xiàn)有晶圓廠更高效地運(yùn)行，從而推動(dòng)產(chǎn)量的提高。Ascon是一個(gè)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的強(qiáng)大平臺(tái)，從頭開始構(gòu)建，可替代多種傳統(tǒng)工具，并在一整套應(yīng)用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、電介質(zhì)及導(dǎo)體蝕刻和沉積、腔室清潔、腔室匹配和氣體減排。Aston通過在流程完成時(shí)進(jìn)行準(zhǔn)確檢測（包括腔室清潔）來優(yōu)化生產(chǎn)，從而將所需的清潔時(shí)間縮短高達(dá)80%。Aston耐受腐蝕性氣體和氣化污染物冷凝液，比現(xiàn)有解決方案更穩(wěn)健，采用獨(dú)立雙離子源（包括一個(gè)常規(guī)電子轟擊離子源和一個(gè)無燈絲等離子體發(fā)生器），能夠在半導(dǎo)體生產(chǎn)遇到的惡劣條件下可靠運(yùn)行。這使得Aston能夠以原位狀態(tài)在苛刻環(huán)境中使用。與傳統(tǒng)質(zhì)量分析儀相比，使用Aston的維修間隔長達(dá)100倍。它包括自清潔功能，可消除由于某些工藝中存在的冷凝物沉積而導(dǎo)致的污垢積累。由于Aston會(huì)生成自己的等離子體，因此在它工作時(shí)，過程等離子體可有可無，這使Aston成為原子層沉積（ALD）和某些可能使用弱等離子體、脈沖等離子體或不使用等離子體進(jìn)行處理的金屬沉積工藝的理想選擇。Ascon還通過提供量化、可操作的實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)來改進(jìn)工藝一致性，通過人工智能（AI）促進(jìn)強(qiáng)大的機(jī)器學(xué)習(xí)功能，以符合要求最苛刻的工藝應(yīng)用。此外，由于實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)分析和工藝腔室管理的高精度、高靈敏度和可重復(fù)性，這進(jìn)一步改進(jìn)了生產(chǎn)線并提高了產(chǎn)品產(chǎn)量。Ascon主要用于化學(xué)氣相沉積（CVD）和蝕刻應(yīng)用，這兩種應(yīng)用的年增長率均超過13%。此款光譜儀可以在新工藝腔室的組裝過程中進(jìn)行安裝，也可將其加裝到已運(yùn)行的現(xiàn)有腔室。