劉驍知,曾小平,冉萬寧,丁 杰,周佳明
(中科芯集成電路有限公司,江蘇無錫214072)
隨著摩爾定律的放緩,以及先進(jìn)封裝技術(shù)和芯片制程技術(shù)的不斷融合發(fā)展,半導(dǎo)體行業(yè)逐漸進(jìn)入后摩爾時代。從最初的單片封裝到最先進(jìn)的晶圓級封裝,單顆芯片的集成度不斷提高,可實(shí)現(xiàn)的功能日趨復(fù)雜[1]。伴隨著封裝技術(shù)的進(jìn)步,系統(tǒng)設(shè)計(jì)師們對于如何實(shí)現(xiàn)特定需求電路的小型化有了更多樣的選擇。通過選用合理的小型化技術(shù),能有效提高系統(tǒng)集成度、提升系統(tǒng)能力。
在實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品小型化的技術(shù)中,最常用且具有代表性的有以下3種:SoC(System on Chip)、SiP(System in Package)、WLCSP(Wafer Level Chip Scale Package),各種技術(shù)致力于解決用戶不同關(guān)注點(diǎn)的需求,其主要特點(diǎn)對比如表1所示。
表1 SoC、SiP、WLCSP技術(shù)特點(diǎn)對比
因?qū)崿F(xiàn)成本較高,定制化的SoC在市場中占比相對較低,目前市場上應(yīng)用較廣泛的是SiP與WLCSP技術(shù)。WLCSP技術(shù)功能指向在更小的封裝面積內(nèi)容納更多的引腳,SiP技術(shù)功能指向整合更多芯片,壓縮單芯片體積,提升系統(tǒng)整體功能性和靈活性。SiP技術(shù)在很長一段時間內(nèi)占據(jù)主流地位,但隨著技術(shù)發(fā)展,臺積電(TSMC)于2016年成功將集成扇出型封裝技術(shù)InFo(Integrated Fan-Out)應(yīng)用于蘋果iPhone7手機(jī)的A7及后續(xù)型號處理器(如圖1所示為蘋果A10處理器的外觀及縱向剖面照片),使成本下降了20%~30%,是首個較為成功的WLCSP技術(shù),為RF、電源管理等類型芯片的封裝提供了成功解決案例[2]。目前也有研究報(bào)告認(rèn)為臺積電的InFo技術(shù)既屬于WLCSP中的FOWLP(Fan-Out Wafer Level Packaging)技術(shù),也屬于多晶片封裝的SiP技術(shù),預(yù)計(jì)2種技術(shù)在未來產(chǎn)品中將形成融合趨勢[3]。
圖1 蘋果A10處理器外觀及縱向剖面
通過研究國內(nèi)特定行業(yè)已有的成熟案例發(fā)現(xiàn),針對數(shù)模混合系統(tǒng)目前較為通用的技術(shù)為采用基板或塑封框架SiP封裝技術(shù)進(jìn)行小型化設(shè)計(jì),F(xiàn)OWLP還未在數(shù)模混合系統(tǒng)的小型化工作中得到廣泛使用[4-8]。因此,本文基于用戶產(chǎn)品的實(shí)際需求,使用國內(nèi)封裝工藝,嘗試使用FOWLP技術(shù)實(shí)現(xiàn)一款數(shù)?;旌峡刂颇K的小型化研制工作。
根據(jù)用戶需求,使用公司自有芯片所搭建控制系統(tǒng)的架構(gòu)如圖2所示。本系統(tǒng)主要實(shí)現(xiàn)以下5種功能:
圖2 控制系統(tǒng)架構(gòu)示意圖
(1)使用FPGA解析上位機(jī)發(fā)送RS485及RS422信號,并控制輸出接口;
(2)內(nèi)部具有FLASH及非易失型存儲器,用于配置FPGA及儲存數(shù)據(jù);
(3)具有PLL接口,輸出一路本振信號;
(4)具有DDS接口,輸出一路中頻信號;
(5)具有TTL電平的I/O接口。
在完成芯片選型及架構(gòu)設(shè)計(jì)后,首先使用獨(dú)立封裝的分立元器件對系統(tǒng)功能進(jìn)行驗(yàn)證。在經(jīng)過充分驗(yàn)證后,最終確定總計(jì)8個種類、11片裸片需要進(jìn)行小型化封裝集成,驗(yàn)證板架構(gòu)及需要封裝的器件如圖3所示。
圖3 驗(yàn)證板示意圖
經(jīng)過驗(yàn)證階段的工作,梳理出芯片內(nèi)部共有互聯(lián)線253條,8種不同規(guī)格的電源網(wǎng)絡(luò),2種規(guī)格的地平面,芯片內(nèi)部最大信號速率約為200 MHz,裸片到輸出管腳的最大信號傳輸速率為2.1 GHz。按照傳統(tǒng)的PCB設(shè)計(jì)方式,為了保持電源完整性及信號完整性,至少需要6層可布線空間。因此,在進(jìn)行系統(tǒng)小型化工作時,如何在有限的尺寸內(nèi)完成互聯(lián)布線,同時兼顧電源完整性及信號完整性,在工藝實(shí)現(xiàn)層面提出了挑戰(zhàn)。
由于用戶對于成本較為敏感,且要求盡快交付驗(yàn)證,同時出于后期量產(chǎn)的考慮,整個加工過程優(yōu)先選擇國內(nèi)工藝線進(jìn)行。當(dāng)工程進(jìn)入小型化階段后,通過對比SiP、FOWLP 2種技術(shù)路線后可以發(fā)現(xiàn)(如表2所示),針對本產(chǎn)品可以選擇FOWLP進(jìn)行嘗試。
表2 技術(shù)路線對比
選定技術(shù)路線后,最初目標(biāo)是將11片裸片通過FOWLP技術(shù)封裝為1片芯片,芯片尺寸約為30 mm×30 mm×0.7 mm,計(jì)劃使用極限的4P4M疊層進(jìn)行布線。但是,通過仿真并結(jié)合工程經(jīng)驗(yàn)分析發(fā)現(xiàn),此方案帶來了3個問題。
(1)國內(nèi)工藝線對于小尺寸芯片F(xiàn)OWLP加工較為成熟,但是對于尺寸不小于15 mm×15 mm的芯片在加工時存在極大的技術(shù)難度。原因在于:根據(jù)工藝線現(xiàn)狀,所加工的FOWLP芯片通常厚度僅為0.5 mm~0.7 mm,因此當(dāng)芯片尺寸超過15 mm×15 mm時,尺寸越大,由于應(yīng)力帶來的翹曲和彎曲度越難以控制,將會直接影響后期貼裝時的可焊接性。
(2)對于尺寸不小于20 mm×20 mm的芯片且使用4P4M疊層時,存在布線層數(shù)有限、同時要兼顧電源完整性及信號完整性、精度控制較困難等問題,較大概率會出現(xiàn)過孔定位偏差,極有可能造成地層與電源層短路等問題。
(3)由于單片包含的裸片較多,對于原料裸芯片的晶圓級測試提出了更高要求,以保證產(chǎn)品良率。由于目前未進(jìn)入量產(chǎn)階段,使用的原料裸芯片經(jīng)過中測后,單個理論良率約為90%,則整個芯片封裝后理論良率僅為31%(0.9011),不利于試制及量產(chǎn)。
經(jīng)過綜合考慮,參考die-to-die設(shè)計(jì)思維,結(jié)合產(chǎn)線的實(shí)際加工能力及經(jīng)驗(yàn),按照功能將芯片拆分為2片F(xiàn)OWLP芯片進(jìn)行試制,#1芯片包括主控單元(FPGA)、配置存儲器(PROM)、非易失存儲器(EEPROM),其余接口及輸出功能的裸芯片封裝集成為#2芯片,將單顆芯片內(nèi)部互聯(lián)線數(shù)量壓縮到150條以內(nèi),采用4層布線形式,經(jīng)過仿真可以滿足完整性要求,工藝可實(shí)現(xiàn)。FOWLP芯片拆分如圖4所示。
圖4 按功能劃分FOWLP芯片
FOWLP芯片制造流程如圖5所示,主要工序有7個。
圖5 FOWLP芯片制造流程
(1)模具疊片;
(2)裸芯片粘片;
(3)注塑:將100~500片裸芯片(視大小而定)變?yōu)檎麖垐A片形式;
(4)脫模;
(5)絕緣層加工及光刻;
(6)多層再布線和絕緣層加工;
(7)BGA植球及切割。
所有工序完成后即形成單個芯片。
最終形成產(chǎn)品如圖6所示,其中#1芯片尺寸為20 mm×20 mm×0.7 mm,#2芯片尺寸為15 mm×15 mm×0.7 mm。2款芯片在加工流程中均較好地控制了翹曲度,可以使用常規(guī)貼片機(jī)正常貼裝到PCB上。
圖6 #1、#2 FOWLP芯片實(shí)物圖
經(jīng)過一系列小型化工作后,原理驗(yàn)證板與小型化后的實(shí)裝板對比如圖7所示(其中驗(yàn)證板背面芯片未展示),可以根據(jù)相同的編號直觀看出集成關(guān)系。
圖7 驗(yàn)證板與芯片測試板對比
使用ISE14.7順利通過JTAG與FPGA建立鏈接,對芯片主要的8項(xiàng)功能進(jìn)行測試,各項(xiàng)測試結(jié)果如表3所示,芯片實(shí)現(xiàn)了約80%的預(yù)期功能。其中,第8項(xiàng)測試DDS中頻信號輸出測試如圖8所示。
表3 測試項(xiàng)目及符合性對照表
圖8 DDS中頻信號輸出測試
對可能導(dǎo)致此結(jié)果的原因分析如下。
(1)測試軟件中管腳映射可能存在問題。驗(yàn)證程序工程基于帶封裝的363引腳FPGA編寫,而芯片中使用FPGA裸片共有1700多個管腳,移植代碼時,帶封裝的管腳定義與裸片的管腳編號需要重新映射。根據(jù)現(xiàn)有結(jié)果分析,功能未實(shí)現(xiàn)部分可能是由于映射關(guān)系不正確所致。
(2)芯片內(nèi)部可能存在缺陷。雖仿真可行,但由于內(nèi)部布線密度高,在芯片加工過程中,內(nèi)部可能存在互聯(lián)線定位不準(zhǔn)、裸片PAD定位偏移、實(shí)物線間距過近產(chǎn)生耦合干擾等情況,導(dǎo)致數(shù)據(jù)出現(xiàn)誤碼、裸片互聯(lián)關(guān)系發(fā)生錯誤。
經(jīng)過對比,總體指標(biāo)主要在以下幾個方面有較顯著的提升:
(1)芯片總面積從1204 mm2減小至625 mm2,不計(jì)算外圍去耦電容也同步減少等的情況下,面積減小約50%。
(2)芯片總質(zhì)量:11顆芯片總重量從約22.9 g降低至1.41 g,降低約93%。
(3)功耗:系統(tǒng)靜態(tài)電流由1.1 A降至0.9 A,降低約13%。
經(jīng)過功能測試發(fā)現(xiàn),目前存在的問題及后續(xù)需要解決的事項(xiàng)主要有以下幾個方面。
(1)需要通過磨片等方式對芯片布線層進(jìn)行逐層分析,進(jìn)一步定位問題,排除故障以確??傮w功能。
(2)芯片一致性有待提高。由于測試樣本較少,尚無法驗(yàn)證發(fā)生的現(xiàn)象是否屬于共性問題,同時由于暫時不具備對原料裸芯片進(jìn)行充分晶圓級篩選的條件,芯片成品的良率及一致性存在一定問題。進(jìn)入量產(chǎn)階段時,應(yīng)著重考慮對制造流程及工藝進(jìn)行完善,提高良率和一致性。
(3)芯片還需解決一體化封裝問題。在目前的工作中,重點(diǎn)在于對技術(shù)可行性進(jìn)行驗(yàn)證,而采用了折中實(shí)現(xiàn)方案。后續(xù)目標(biāo)為通過三維堆疊技術(shù)或采用基板雙面貼裝等方式,將2顆芯片整合為1顆,目標(biāo)尺寸控制在25 mm×25 mm以內(nèi),便于量產(chǎn)測試及用戶使用。
(4)芯片可靠性還可提升。由于芯片厚度較薄,如用于特定用途時還需考慮進(jìn)行加固,以滿足使用環(huán)境的力學(xué)要求,如可使用雙腔陶瓷管殼實(shí)現(xiàn)2款FOWLP芯片的一體化集成,以提高芯片環(huán)境適應(yīng)性及可靠性。
本文的研究是基于國內(nèi)FOWLP工藝線能力的一次有益嘗試,文中的芯片級數(shù)模混合系統(tǒng)基本實(shí)現(xiàn)了預(yù)期功能。通過研究與設(shè)計(jì),形成了2個基本功能單元,可以用于其他類似的系統(tǒng)或接口單元。
整個研發(fā)工作中也存在很多亟待解決的問題。主要是由于FOWLP芯片良率對于封裝工藝能力及晶圓級測試能力依賴較大,由于對原料測試覆蓋率低,使得本批次芯片良率存在一定問題,后期還需在測試、工藝、版圖設(shè)計(jì)等各環(huán)節(jié)開展更多的研究工作。同時,芯片初樣存在一些功能性故障需要定位,環(huán)境適應(yīng)性等整體指標(biāo)也有待完善。
本文為其他類似小型化產(chǎn)品設(shè)計(jì)提供了參考,證明了使用FOWLP技術(shù)加工特定用途中小尺寸數(shù)?;旌闲酒目尚行?,在特定領(lǐng)域具有較廣泛的應(yīng)用前景。