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        一種基于HTCC技術(shù)的收發(fā)組件一體化外殼

        2021-07-09 08:15:38昊,劉海,程
        電子與封裝 2021年6期
        關(guān)鍵詞:信號結(jié)構(gòu)

        周 昊,劉 海,程 凱

        (南京電子器件研究所,南京 210016)

        1 引言

        收發(fā)組件可以放大天線接收的信號,提供良好的信號噪聲系數(shù),補償信號損失,防止信號衰減,保證目標信號被檢測和處理,是有源相控雷達的核心組件[1]。目前國內(nèi)外普遍采用低溫共燒陶瓷(LTCC)技術(shù)來制作高密度基板與硅鋁基復合材料金屬外殼封裝,或利用多層印刷線路板(PCB)與鋁合金殼體封裝,實現(xiàn)收發(fā)組件的研制,并使之承擔組件的機械防護、電磁屏蔽和氣密封裝的作用[2-5]。

        LTCC基板封裝(MCM-LTCC)的信號輸入輸出一般僅依靠平面?zhèn)鬏?,封裝形式較為單一,應用場景受限。其多采用金、銀等貴金屬作為導體漿料與陶瓷在900℃實現(xiàn)共燒,過高的成本限制了其在低成本、工程化領域的應用。采用多層印刷線路板制備基板由于加工成本較低,越來越成為一體化收發(fā)組件的主要封裝形式,但是PCB板材料與陶瓷相比,溫度敏感性高,在長期可靠性要求突出的軍用封裝領域仍然受限。

        高溫共燒陶瓷(HTCC)主要是以鎢金屬作為導體材料與氧化鋁等陶瓷材料在1600℃左右實現(xiàn)共燒,并通過釬焊、鍍覆等工藝完成不同材料零件連接和表面處理的外殼加工技術(shù)。由于鍍覆金厚度遠小于LTCC技術(shù)的印刷金厚度,HTCC封裝的成本優(yōu)勢明顯。針對導體電阻率大引起的高頻封裝損耗過大問題,通過材料、設計和工藝制造等技術(shù)突破,HTCC外殼的適用頻率越來越高,平面?zhèn)鬏斝?、垂直傳輸型等多種封裝形式的外殼可在18 GHz內(nèi)實現(xiàn)全覆蓋[6-8]。此外,由于采用了氧化鋁為主材的陶瓷高溫共燒技術(shù),其在長期可靠性方面高于PCB基板。綜上,基于HTCC技術(shù)的一體化外殼有望成為未來軍用收發(fā)組件封裝在低成本發(fā)展方向的主要技術(shù)途徑。

        為了滿足收發(fā)組件工作頻率高、數(shù)據(jù)傳輸速度快、結(jié)構(gòu)緊湊、集成度高的要求,一體化外殼在設計和工藝方面的難度比一般外殼更高[8]。封裝外殼不僅要評估結(jié)構(gòu)、散熱、絕緣性、導通電阻等常規(guī)外殼指標,還需要對端口微波傳輸、信號隔離、高速布線等功能特性進行針對性設計。在工藝方面,組件功能主要由陶瓷基板實現(xiàn),為了實現(xiàn)組件的復雜功能,陶瓷基板內(nèi)部在高密度通孔、精細線條和多層結(jié)合工藝等方面的制造難度均高于普通外殼。

        本文中采用基于HTCC技術(shù)的一體化陶瓷外殼封裝,將雙通道收發(fā)組件的多功能芯片、無源器件、功率放大器等集成在一個封裝體內(nèi),實現(xiàn)收發(fā)組件電路模塊封裝的小型化與低成本制造,滿足10 MHz~8 GHz范圍內(nèi)的微波封裝需求。

        2 外殼結(jié)構(gòu)

        外殼結(jié)構(gòu)示意如圖1所示。其中,封接框為組件內(nèi)部電路提供密封環(huán)境;陶瓷基板既為組件提供信號傳輸端口和內(nèi)部電連接布線,又可通過貼裝多功能芯片等電子元器件進一步拓展組件的應用場景。陶瓷基板基于多層HTCC開發(fā)與制造。主體結(jié)構(gòu)材料為氧化鋁,通過多層布線的方式實現(xiàn)陶瓷基板射頻傳輸和直流信號的功能;RF1、RF2、RF3、RF4和RF5為平面饋通型射頻端口。熱沉材料是鉬銅,為組件提供散熱通道,同時可通過螺栓與外部散熱器實現(xiàn)可靠連接。

        圖1 雙通道收發(fā)組件封裝結(jié)構(gòu)示意圖

        3 RF信號傳輸設計

        外殼傳輸設計包括兩部分,分別是位于殼體左右兩側(cè)、編號RF1至RF5的輸入輸出端口和位于殼體內(nèi)部的異面?zhèn)鬏斁€。外殼陶瓷材料為南京電子器件研究所封裝事業(yè)部研制的92%低損耗氧化鋁陶瓷,陶瓷介電常數(shù)為9.6±0.2(10 MHz~8 GHz),介質(zhì)損耗角正切為0.001,基板內(nèi)部金屬化采用鎢漿料,電導率為1.0×107S/m?;逋獠拷饘倩捎面u漿料,表面鍍覆鎳和金,鎳層厚度為1.3~4.5μm,金層厚度為1.3~3.5μm。

        3.1 端口設計

        本文設計的RF傳輸通道是平面饋通型。此類結(jié)構(gòu)一般采用微帶線-帶狀線-微帶線的傳輸方式。當收發(fā)組件的工作頻率升高至C波段時,輻射損耗會逐漸加大,成為總能量損耗的主要部分。

        由于外部微帶線不僅要滿足信號傳輸要求,還要兼顧引線焊接可靠性。設計時需要參照經(jīng)驗公式,焊盤寬度=引線寬度+0.3 mm,以提高引線與陶瓷外殼金屬化焊盤的焊接強度。以微帶線線寬W1為典型參數(shù),建立參數(shù)掃描模型,外殼端口的插入損耗仿真結(jié)果如圖2所示。在6 GHz以內(nèi),微帶線線寬變化對端口插入損耗的影響較小。當頻率進一步升高時,線寬變化帶來的結(jié)果差異較為明顯。分析認為,這主要是與外殼RF端口的微帶線向帶狀線過渡時,上方介質(zhì)從空氣向陶瓷變化導致的阻抗失配有關(guān)。利用HFSS軟件對分布于陶瓷隔墻內(nèi)外兩側(cè)的傳輸線做了漸進匹配優(yōu)化,可明顯改善上述問題。

        圖2 不同線寬傳輸端口的插入損耗仿真結(jié)果

        僅通過調(diào)整線寬優(yōu)化阻抗匹配,在10 MHz~8 GHz內(nèi)端口的插入損耗約為0.3 dB,該結(jié)果有進一步提高的空間。基于共面波導結(jié)構(gòu)的外殼端口傳輸線區(qū)域電磁場為半開放式結(jié)構(gòu),高頻信號傳輸時會向外輻射能量,增加傳輸結(jié)構(gòu)的損耗。分析7.5 GHz頻點的電場分布,在信號通孔的周圍設置密集的接地金屬通孔,可抑制高頻電磁能量的泄漏,改善微波傳輸性能。增加密集通孔后,信號線周圍的電場強度提高2個數(shù)量級,如圖3所示。值得注意的是,在一體化外殼設計時,密集通孔除了需要保障外殼微波垂直信號傳輸,還要兼顧陶瓷基片加工可靠性。設計時需要參照經(jīng)驗公式,密集通孔間距不大于2.5倍孔徑,以降低陶瓷燒結(jié)過程中導致的孔裂紋擴散風險。

        圖3 電場強度

        圖4為優(yōu)化后的仿真結(jié)果,在10 MHz~8 GHz頻帶內(nèi),外殼端口插入損耗約為0.20 dB。

        圖4 外殼端口插入損耗仿真結(jié)果

        3.2 異面?zhèn)鬏斁€設計

        為了實現(xiàn)多通道或者多芯片之間的微波傳輸,陶瓷基板內(nèi)部多采用異面?zhèn)鬏斁€的設計方式滿足上述要求。本文設計的外殼基板內(nèi)部在帶狀線兩側(cè)做密布接地孔設計,結(jié)構(gòu)如圖5所示。

        圖5 外殼異面?zhèn)鬏斁€結(jié)構(gòu)

        當上下層的信號端口處在非同心位置時,需要在介質(zhì)層中間增加一段水平傳輸?shù)膸罹€,形成共面波導-類同軸-帶狀線-類同軸-共面波導的彎折異面射頻傳輸結(jié)構(gòu)。其中,通過優(yōu)化類同軸傳輸線的長度、上下層共面波導的垂直距離和傳輸線寬等參數(shù),實現(xiàn)了10 MHz~8 GHz內(nèi)陶瓷基板內(nèi)部不同鍵合區(qū)之間的射頻信號傳輸,仿真結(jié)果如圖6所示,端口插入損耗小于0.30 dB。

        圖6 射頻端口插入損耗仿真結(jié)果

        4 結(jié)構(gòu)設計

        為了給收發(fā)組件的環(huán)形器留出足夠的安裝空間,本文所列的一體化陶瓷外殼在空間上采用了不對稱結(jié)構(gòu)。為了在單個組件內(nèi)封裝更多的元件進而實現(xiàn)更多的功能,外殼的尺寸較大,長寬高尺寸約為55 mm×45 mm×3 mm?;贖TCC技術(shù)的陶瓷一體化外殼多采用AgCu作為釬料并在800℃左右高溫條件下完成各零部件之間的焊接。因此,需要通過合理的焊接接頭設計減少上述結(jié)構(gòu)帶來的高溫釬焊形變引發(fā)的殘余內(nèi)應力集中問題。

        在物理性質(zhì)差異顯著的兩種材料之間引入一種物理性質(zhì)介于兩者之間的材料,整個結(jié)構(gòu)的線膨脹系數(shù)將呈現(xiàn)梯度過渡狀態(tài)。梯度過渡狀態(tài)可以在焊接過程中兩側(cè)母材劇烈變化的物理性質(zhì)間形成緩沖。因此,在接頭結(jié)構(gòu)中,引入中間層時接頭內(nèi)的殘余應力將被緩解為兩部分,峰值應力隨之減小,其結(jié)構(gòu)示意如圖7所示。

        圖7 焊接接頭示意

        基于圖1的外殼尺寸,利用Abaqus仿真軟件建立有限元分析模型,計算用的各部件材料物理參數(shù)如表1所示。通過對中間層結(jié)構(gòu)的材料熱膨脹系數(shù)選擇和結(jié)構(gòu)尺寸優(yōu)化可以降低峰值焊接殘余應力,仿真結(jié)果顯示外殼形變量小于100μm,結(jié)果如圖8所示。

        表1 材料物理性能

        圖8 外殼焊接形變仿真計算結(jié)果

        5 實物與測試

        陶瓷外殼由南京電子器件研究所封裝事業(yè)部的多層高溫陶瓷生產(chǎn)線制造,圖9為所研制外殼的實物照片。

        圖9 雙通道收發(fā)組件封裝實物照片

        5.1 微波測試

        采用安捷倫N5224A型矢量網(wǎng)絡分析儀測量外殼的微波性能。由于外殼傳輸端口及基板內(nèi)部傳輸線均采用共面波導結(jié)構(gòu),可直接選用規(guī)格匹配的探針進行測試。其生產(chǎn)廠家為Cascade,型號為ACP50-A-GSG-450。

        圖10為外殼端口的微波測試結(jié)果,從圖中可以看出,在10 MHz~8 GHz的范圍內(nèi),插入損耗小于0.30 dB,微波特性與設計相仿,能夠滿足工程應用要求。

        圖10 外殼端口微波測試結(jié)果

        5.2 平面度測試

        采用激光反射法測量外殼平面度,儀器型號為德國CYBER公司的CT-300型激光檢查儀。利用激光測試儀,沿外殼特定方向選取目標路徑,獲得記錄數(shù)據(jù)?;跇藴势矫妫瑢⒆畲笈c最小讀數(shù)的差值近似作為平面度誤差。測量方法參照國標《形狀和位置公差GB 1958-80》。其中,《半導體集成電路外殼通用規(guī)范GJB 1420B-2011》的要求是不大于4μm/mm。外殼外形尺寸為65 mm,實測平面度均值為112μm,計算可得外殼的單位平面度為1.72μm/mm,滿足國軍標要求。

        6 總結(jié)

        設計了一款基于HTCC技術(shù)的收發(fā)組件一體化陶瓷外殼,在10 MHz~8 GHz的范圍內(nèi),外殼的射頻端口插入損耗小于0.30 dB,具有較好的微波特性。此外,在目標組件的封裝尺寸內(nèi)實現(xiàn)了1.72μm/mm的平面度指標。該外殼的研制為低成本化的一體化收發(fā)組件封裝提供了新的方向。

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