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        金屬柵格和透明導(dǎo)電膜混合結(jié)構(gòu)的設(shè)計及電磁屏蔽效能分析

        2021-05-15 12:46:10張家豪官繼紅劉長軍
        應(yīng)用科技 2021年2期
        關(guān)鍵詞:場強(qiáng)柵格導(dǎo)電

        張家豪,官繼紅,劉長軍

        1. 四川大學(xué) 電子信息學(xué)院,四川 成都 610064

        2. 深圳麥格米特電氣股份有限公司,廣東 深圳 518057

        隨著現(xiàn)代技術(shù)的發(fā)展,電磁波引起的電磁干擾(electromagnetic interference, EMI)和電磁兼容(electromagnetic compatibility, EMC)問題日益嚴(yán)重,另外電磁波泄漏也會干擾其他設(shè)備[1]。為了減小或避免電磁輻射造成的影響,通常在設(shè)備中引入電磁屏蔽結(jié)構(gòu)。鍍金屬膜屏蔽玻璃在低頻時具有良好的屏蔽效能,在100 MHz 時可達(dá)到36 dB[2]。在機(jī)箱的通風(fēng)孔采用金屬絲網(wǎng)和電磁密封襯墊結(jié)合加裝的方式,同時在窗口箱體板開設(shè)通風(fēng)孔洞,在保證通風(fēng)效果的條件下,提高機(jī)箱的屏蔽效能[3]。

        透明導(dǎo)電薄膜是實現(xiàn)電磁屏蔽和可視兼容的常用材料,由于其在光學(xué)和電子設(shè)備中的廣泛應(yīng)用而備受關(guān)注[4]。近些年,許多新型材料的導(dǎo)電薄膜被廣泛研究,采用特殊的制備方法,可以有效提高薄膜的質(zhì)量和性能[5-7]。超薄金屬導(dǎo)電薄膜具有柔性好、導(dǎo)電性好、成本低和可大規(guī)模制備等優(yōu)點,有望成為替代氧化銦錫(Indium Tin Oxide,ITO)的理想材料[8]。對具有透明導(dǎo)電薄膜的多層屏蔽結(jié)構(gòu)的屏蔽效能進(jìn)行探究,常用的屏蔽效能測量方法有同軸傳輸線法、法蘭同軸法、喇叭天線法等[9-10]。本文所提出的屏蔽系統(tǒng)工作頻率為S 波段,因此采用喇叭天線法,通過測試有無屏蔽體時的電場強(qiáng)度,根據(jù)屏蔽效能公式得出該屏蔽體的屏蔽效能。

        本文研究了有透明導(dǎo)電膜的多層平面結(jié)構(gòu)的電磁性能,分析了層狀結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽機(jī)理,以及仿真與測試的結(jié)果,對于如何選取合適的導(dǎo)電膜提出了依據(jù),對于電磁兼容和電磁屏蔽領(lǐng)域具有潛在的應(yīng)用價值。

        1 屏蔽結(jié)構(gòu)設(shè)計及原理

        電磁屏蔽效能是在電磁場中同一地點無屏蔽時的電磁場強(qiáng)度與加屏蔽體后的電磁場強(qiáng)度之比,常用Es表示:

        式中:E0是無屏蔽材料時該點場強(qiáng);E是有屏蔽體后該點場強(qiáng)。

        本文中屏蔽體的第一層結(jié)構(gòu)為金屬柵格,金屬柵格的直徑和目數(shù)對屏蔽效果有直接影響[11]。每個金屬柵格都可以看作為小波導(dǎo),當(dāng)電磁波頻率大于截止頻率時,電磁波可在波導(dǎo)內(nèi)傳輸,衰減常數(shù)表達(dá)式為

        式中:RS為波導(dǎo)內(nèi)表面的表面電阻;β為相位常數(shù);k為傳播常數(shù);η為波導(dǎo)波阻抗;a、b分別為波導(dǎo)的寬邊和窄邊尺寸。當(dāng)電磁波頻率小于截止頻率時,此時所有的場分量會隨離激勵源的距離增加而指數(shù)衰減。

        根據(jù)文獻(xiàn)[12],金屬柵格的屏蔽效能為

        式中:Aa為柵格的傳輸損耗;Ra為反射損耗;Ba為多次反射損耗;K1為單位面積內(nèi)孔系數(shù)的修正系數(shù);K2為低頻穿透修正系數(shù);K3為柵格間的耦合系數(shù)。根據(jù)金屬柵格的參數(shù)估算出,4 mm 金屬柵格的屏蔽效能約為17 dB。

        電磁波在屏蔽體內(nèi)經(jīng)過第一次傳播到達(dá)第二分界面時,場強(qiáng)已很小,再由此返回第一界面,電磁波能量就更小了。經(jīng)過多次反射后場強(qiáng)變得極小。根據(jù)傳輸線原理,多次反射的總反射系數(shù)可以表達(dá)為[13]

        式中: Γ為反射系數(shù);T為傳輸系數(shù)。

        因此在屏蔽結(jié)構(gòu)中增加一層或多層透明導(dǎo)電薄膜,可以提高屏蔽體的屏蔽效能。

        2 屏蔽結(jié)構(gòu)及仿真

        本文仿真采用周期結(jié)構(gòu),對一個單元進(jìn)行仿真,大大提高了仿真速率,能夠更深層次地研究其特性。通過對透明導(dǎo)電薄膜屏蔽效能的分析,最終確定了導(dǎo)電膜的參數(shù):屏蔽體金屬柵格厚度為0.4 mm,透明導(dǎo)電膜厚度為0.001 mm,玻璃厚度為5.0 mm,金屬柵格與導(dǎo)電膜之間為空氣層,導(dǎo)電膜貼在玻璃的內(nèi)側(cè)。圖1 為屏蔽體的分層結(jié)構(gòu)圖,通過仿真分析確定了金屬柵格的參數(shù),金屬柵格的邊長為4 mm,厚度為0.4 mm,柵格大小適中,具有良好的可視性以及一定的屏蔽效果。屏蔽體中的玻璃起到支撐作用,可將透明導(dǎo)電膜貼在玻璃兩側(cè)。

        圖1 含導(dǎo)電膜的多層屏蔽結(jié)構(gòu)

        本文應(yīng)用CST 仿真軟件模擬平面波垂直入射,測試有無屏蔽體時待測點的場強(qiáng)。在同樣的條件下,分別仿真屏蔽體有無導(dǎo)電膜結(jié)構(gòu)時的屏蔽效能,仿真結(jié)果如圖2 所示。

        圖2 有無導(dǎo)電膜屏蔽體的屏蔽效能對比

        金屬柵格結(jié)構(gòu)的屏蔽效能取決于金屬柵格的直徑與數(shù)目,其對屏蔽效能的影響由圖3 和圖4所示。當(dāng)引入透明導(dǎo)電薄膜時,導(dǎo)電膜具有一定效果的屏蔽作用,電磁波在金屬柵格和導(dǎo)電膜間進(jìn)行多次反射,由此產(chǎn)生的損耗,有效提高了屏蔽效能。

        圖3 金屬柵格厚度對屏蔽效能的影響

        圖4 金屬柵格開孔大小對屏蔽效能的影響

        通過進(jìn)一步研究發(fā)現(xiàn),導(dǎo)電膜處于屏蔽體的不同界面處時,會影響屏蔽體的屏蔽效能。如圖5所示,仿真結(jié)果表明,當(dāng)導(dǎo)電膜在玻璃外側(cè)時,系統(tǒng)的屏蔽效果更好。但是導(dǎo)電膜暴露在大氣之中會受環(huán)境腐蝕,容易損壞,導(dǎo)電性能會隨時間而變差,從而會影響其電磁性能。綜合考慮將導(dǎo)電膜置于玻璃內(nèi)側(cè)。

        圖5 導(dǎo)電膜的位置對屏蔽效能的影響

        通過仿真可知,透明導(dǎo)電薄膜的屏蔽效果與其方阻的大小有關(guān)。在本文結(jié)構(gòu)中,透明導(dǎo)電薄膜方阻值的變化與屏蔽體的屏蔽效能的關(guān)系仿真結(jié)構(gòu)如圖6 所示。隨著方阻阻值逐漸變小,系統(tǒng)的屏蔽效能也隨之變大。根據(jù)此結(jié)果可以按照需求選取合適的透明導(dǎo)電薄膜。

        圖6 導(dǎo)電膜屏蔽效能隨方阻的變化關(guān)系

        該屏蔽結(jié)構(gòu)中金屬網(wǎng)柵的厚度、金屬柵格的大小與數(shù)目會影響其屏蔽效能,網(wǎng)柵厚度越厚、柵格越小,屏蔽結(jié)構(gòu)的屏蔽效能越高。本文在確保具有良好可視度的條件下,選取了合適的金屬柵格參數(shù),分析了導(dǎo)電膜方阻和導(dǎo)電膜位置變化對屏蔽效能的影響。并對引入不同參數(shù)導(dǎo)電膜進(jìn)行仿真分析,使其具有較好的屏蔽效果,最后對該結(jié)構(gòu)的屏蔽效能進(jìn)行測試。

        3 測試結(jié)果分析

        屏蔽板的實物和測試系統(tǒng)如圖7 所示。采用Analog Devices 公司的HMC-T2220 型號信號源、固態(tài)放大器、喇叭天線、功率計和Narda EP600 場強(qiáng)探頭進(jìn)行測試。測試距離是3 m,發(fā)射天線為標(biāo)準(zhǔn)喇叭天線,接收為場強(qiáng)探頭,監(jiān)測有無屏蔽體的場強(qiáng)值,測試在微波暗室進(jìn)行。

        圖7 測試系統(tǒng)

        搭建測試系統(tǒng),應(yīng)用場強(qiáng)探頭測試有無屏蔽體時待測點的電場強(qiáng)度,根據(jù)屏蔽效能公式計算出屏蔽效能。仿真與實測的結(jié)果對比如圖8 所示。此時在2.45 GHz 屏蔽板的屏蔽效能為22.53 dB。實測時由于環(huán)境的背景噪聲影響,會有電磁波從屏蔽板的上方傳播,導(dǎo)致屏蔽板的屏蔽效能比仿真值偏低。從仿真與實測的結(jié)果可以看出,屏蔽效能隨著頻率的增加而逐漸降低,與理論結(jié)果基本吻合。

        圖8 屏蔽效能仿真與實測對比

        對普通的商用金屬柵格進(jìn)行實測電磁屏蔽測試。此金屬柵格邊長比本文屏蔽結(jié)構(gòu)的更小,采用同樣的方法測得屏蔽效能如圖8 所示。本文中帶有透明導(dǎo)電薄膜的屏蔽體結(jié)構(gòu),比更小柵格的屏蔽結(jié)構(gòu)的屏蔽效能高,也具有較好的可視性,便于觀察屏蔽板后面的情況。表1 為屏蔽結(jié)構(gòu)對比,相比于文獻(xiàn)中所提到的屏蔽結(jié)構(gòu),本文的雙層混合結(jié)構(gòu)具有更好的應(yīng)用效果和前景[14-15]。

        表1 屏蔽結(jié)構(gòu)對比

        4 結(jié)論

        本文設(shè)計了一種帶有透明導(dǎo)電薄膜的多層結(jié)構(gòu)屏蔽板。該屏蔽板在2.45 GHz 時的屏蔽效能為22.53 dB。

        1)仿真應(yīng)用周期性結(jié)構(gòu),對一個單元進(jìn)行仿真,大大提高了仿真速率,便于更深層次的研究其特性。

        2)相比于普通單層金屬柵格的屏蔽結(jié)構(gòu),本文結(jié)構(gòu)提高了系統(tǒng)的屏蔽效能,同時金屬柵格增大,提高了可視度,便于觀察屏蔽板后的情況。

        3)該屏蔽板結(jié)構(gòu)簡單、便于加工,可根據(jù)實際要求選擇合適的透明導(dǎo)電薄膜,在電磁兼容、電磁屏蔽等領(lǐng)域具有潛在的應(yīng)用價值。

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