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        基于YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的足跡增強(qiáng)顯現(xiàn)

        2021-01-06 03:02:48寒,王
        光譜學(xué)與光譜分析 2021年1期

        丁 寒,王 猛

        1. 中南財(cái)經(jīng)政法大學(xué)刑事司法學(xué)院,湖北 武漢 430073 2. 中國(guó)刑事警察學(xué)院刑事科學(xué)技術(shù)學(xué)院,遼寧 沈陽(yáng) 110035

        引 言

        足跡是在犯罪現(xiàn)場(chǎng)中出現(xiàn)率和提取率均非常高的傳統(tǒng)痕跡。通過(guò)足跡分析可以推斷犯罪嫌疑人的性別、身高、年齡、體態(tài)、行走姿勢(shì)、職業(yè)特征等諸多人身特點(diǎn),為案件偵查提供重要線(xiàn)索[1-4]; 通過(guò)足跡鑒定可以實(shí)現(xiàn)人身同一認(rèn)定,為訴訟審判提供可靠證據(jù)[5]。雖然足跡反映犯罪嫌疑人的個(gè)人信息極為豐富,但是足跡這種痕跡的利用率通常不高,要顯著低于手印的利用率。造成以上情況的主要原因在于: 一方面,足跡顯現(xiàn)提取的質(zhì)量普遍偏低; 另一方面,足跡顯現(xiàn)方法的發(fā)展明顯遲緩。如何將犯罪現(xiàn)場(chǎng)遺留足跡進(jìn)行高質(zhì)量顯現(xiàn)提取是足跡分析與鑒定的基本前提。因此,優(yōu)化足跡顯現(xiàn)方法、提升足跡顯現(xiàn)效果、改善足跡提取質(zhì)量是提高足跡痕跡利用率的重要途徑。

        隨著納米科技的迅速發(fā)展,許多新興的納米發(fā)光材料已經(jīng)逐漸深入到傳統(tǒng)痕跡的顯現(xiàn)技術(shù)領(lǐng)域,最典型的當(dāng)屬手印納米熒光顯現(xiàn)技術(shù)[6]。目前,基于稀土納米發(fā)光材料的手印顯現(xiàn)技術(shù)發(fā)展最為迅速[7-8]。稀土納米發(fā)光材料具有光學(xué)性能優(yōu)異、微觀形貌可控、表面性質(zhì)可調(diào)等一系列優(yōu)點(diǎn),對(duì)于提高改善手印顯現(xiàn)的對(duì)比度、靈敏度、選擇性非常有效。對(duì)于赤足(汗液)足跡,其痕跡遺留物質(zhì)和痕跡形成方式與潛在手印的情況基本相同,完全可以借鑒手印納米熒光顯現(xiàn)技術(shù)現(xiàn)有的先進(jìn)研究成果進(jìn)行顯現(xiàn)。對(duì)于穿鞋(灰塵)足跡,可以先將足跡遺留物質(zhì)進(jìn)行妥善固定,然后采用赤足足跡的處理方式加以顯現(xiàn)。綜上所述,使用稀土納米發(fā)光材料在理論上能夠?qū)崿F(xiàn)赤足足跡和穿鞋足跡的高質(zhì)量顯現(xiàn)。

        本研究提出了基于稀土納米發(fā)光材料YVO4∶Eu的足跡增強(qiáng)顯現(xiàn)技術(shù)。首先采用經(jīng)典的水熱方法合成YVO4∶Eu納米發(fā)光材料,然后對(duì)納米材料的相關(guān)性能進(jìn)行表征,最終將納米材料應(yīng)用于赤足足跡和穿鞋足跡的熒光增強(qiáng)顯現(xiàn)。

        1 實(shí)驗(yàn)部分

        1.1 試劑

        六水合硝酸釔、六水合硝酸銪、十二水合原釩酸鈉、二水合檸檬酸三鈉、乙烯基吡咯烷酮與乙酸乙烯酯共聚物(PVP-VA64)、無(wú)水乙醇,以上試劑購(gòu)自上海阿拉丁生化科技股份有限公司。

        1.2 YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的合成

        將40 mL硝酸釔溶液(0.2 mol·L-1)與10 mL硝酸銪溶液(0.25 mol·L-1)混合,向其中加入35 mL檸檬酸三鈉溶液(0.2 mol·L-1)。劇烈攪拌下,向上述混合物中緩慢滴加50 mL原釩酸鈉溶液(0.2 mol·L-1),調(diào)節(jié)體系的pH至8.0。將所得混合物轉(zhuǎn)移至200 mL水熱合成反應(yīng)釜中,在150 ℃下密閉反應(yīng)5 h。待反應(yīng)結(jié)束后,將反應(yīng)釜自然冷卻至室溫,得到半透明狀膠體。向膠體中加入200 mL無(wú)水乙醇,經(jīng)離心分離后得到白色沉淀,將沉淀依次用50%乙醇洗滌2次、無(wú)水乙醇洗滌1次。將產(chǎn)物置于60 ℃恒溫干燥箱中烘干12 h,最終得到白色粉末狀YVO4∶Eu納米發(fā)光材料。

        1.3 YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的表征

        使用美國(guó)FEI公司Tecnai G20透射電子顯微鏡表征納米發(fā)光材料的微觀形貌,使用荷蘭PANalytical公司X’ Pert Pro多晶X射線(xiàn)衍射儀表征納米發(fā)光材料的晶體結(jié)構(gòu),使用日本Shimaduzu公司UV-2600紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)(搭配積分球配件)表征納米發(fā)光粉末的吸收性能,使用美國(guó)Agilent公司Cary Eclipse熒光分光光度計(jì)表征納米發(fā)光材料的發(fā)光性能,使用美國(guó)Perkin Elmer公司Spectrum One傅里葉變換紅外光譜儀表征納米發(fā)光材料的表面形貌。

        1.4 足跡的熒光增強(qiáng)顯現(xiàn)與拍照

        1.4.1 赤足足跡的粉末法顯現(xiàn)

        在瓷磚、地板表面捺印赤足(汗液)足跡。用粉末刷蘸取YVO4∶Eu納米粉末并輕輕刷動(dòng)客體表面,當(dāng)出現(xiàn)足跡輪廓后,用粉末刷清除掉多余的納米粉末。

        1.4.2 穿鞋足跡的粉末法顯現(xiàn)

        在瓷磚、地板表面捺印穿鞋(灰塵)足跡。使用液體噴壺將質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5%的PVP-VA64乙醇溶液輕輕噴于灰塵足跡表面。注意: 噴嘴位置距離客體表面應(yīng)大于50 cm,溶液噴灑要適量,液滴覆蓋要均勻。待溶劑揮發(fā)后,采用與顯現(xiàn)汗?jié)撟阚E相同的處理方法對(duì)灰塵足跡進(jìn)行刷顯。

        1.4.3 足跡的熒光增強(qiáng)與拍照

        使用254 nm紫外燈照射YVO4∶Eu納米粉末顯現(xiàn)的足跡,采用掠入射配光模式,激發(fā)足跡部位產(chǎn)生紅光。使用Nikon D810單反數(shù)碼相機(jī)搭配AF-S Nikkor 24-70 mm f/2.8G ED鏡頭對(duì)足跡拍照。赤足足跡暗場(chǎng)拍攝參數(shù): 感光度為500,光圈值為f/8,曝光時(shí)間為1 s; 穿鞋足跡暗場(chǎng)拍攝參數(shù): 感光度為500,光圈值為f/8,曝光時(shí)間為8 s。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的表征

        YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的透射電子顯微鏡(TEM)照片如圖1所示,納米材料的微觀形貌為類(lèi)球形,具有良好的單分散性和均勻的顆粒尺寸,其平均粒徑為39.2 nm。據(jù)文獻(xiàn)報(bào)道,具有球狀形貌和較小粒徑的納米顯現(xiàn)材料有利于提高痕跡顯現(xiàn)的選擇性和靈敏度[9]。

        圖1 YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的透射電子顯微鏡照片F(xiàn)ig.1 TEM image of YVO4∶Eu luminescent nanomaterials

        YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的X射線(xiàn)衍射(XRD)譜圖如圖2所示,納米材料的X射線(xiàn)衍射峰[如圖2(a)]位置及強(qiáng)度與YVO4的標(biāo)準(zhǔn)對(duì)照譜圖[JCPDS No.01-72-0816,如圖2(b)]匹配一致,其晶體結(jié)構(gòu)屬于四方晶系。

        圖2 (a)YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的X射線(xiàn)衍射譜圖; (b)YVO4的標(biāo)準(zhǔn)對(duì)照譜圖

        圖3 YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的紫外可見(jiàn)吸收光譜Fig.3 UV-Vis absorption spectrum of YVO4∶Eu luminescent nanomaterials

        YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的熒光發(fā)射光譜(FS)如圖4所示,在254 nm紫外光的激發(fā)下,614 nm處的較強(qiáng)發(fā)射峰對(duì)應(yīng)于Eu3+的5D0→7F2能級(jí)躍遷,530,592,651和700 nm處的較弱發(fā)射峰分別對(duì)應(yīng)于Eu3+的5D1→7F1,5D0→7F1,5D0→7F3,5D0→7F4能級(jí)躍遷[10]。合成的YVO4∶Eu納米發(fā)光材料在254 nm紫外光的照射下能夠產(chǎn)生足夠明亮的紅光,有利于提高痕跡顯現(xiàn)的對(duì)比度[9]。

        圖4 YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的熒光發(fā)射光譜Fig.4 Fluorescence emission spectrum of YVO4∶Eu luminescent nanomaterials

        YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的傅里葉變換紅外(FTIR)光譜如圖5所示,1 566和1 385 cm-1吸收峰分別對(duì)應(yīng)羧酸根離子的反對(duì)稱(chēng)、對(duì)稱(chēng)伸縮振動(dòng),位于798 cm-1處吸收峰對(duì)應(yīng)釩酸根離子的伸縮振動(dòng),表明YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的表面為檸檬酸分子修飾。位于3 000~3 500 cm-1處吸收峰對(duì)應(yīng)樣品中的水。

        2.2 足跡熒光增強(qiáng)顯現(xiàn)

        2.2.1 赤足足跡的熒光增強(qiáng)顯現(xiàn)

        利用YVO4∶Eu納米發(fā)光材料顯現(xiàn)赤足足跡的原理是基于納米粉末與赤足足跡中的汗液成分(可能含有皮脂成分)之間的物理吸附作用,其顯現(xiàn)原理與潛在手印納米熒光顯現(xiàn)的原理基本相同[12-14]。如圖6所示,赤足足跡中汗液及皮脂成分對(duì)納米顆粒的吸附能力較強(qiáng),而光滑非滲透性客體的表面對(duì)納米顆粒的吸附能力較弱,因此納米顆粒會(huì)富集于赤足足跡的乳突紋線(xiàn)部位,與客體形成一定的對(duì)比反差,再使用紫外光激發(fā)納米顆粒產(chǎn)生熒光,進(jìn)而將赤足足跡顯現(xiàn)。

        圖5 YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的傅里葉變換紅外光譜Fig.5 FTIR spectrum of YVO4∶Eu luminescent nanomaterials

        圖6 使用YVO4∶Eu納米材料顯現(xiàn)赤足足跡的原理Fig.6 Mechanism for development of barefoot impressions using YVO4∶Eu nanomaterials

        本研究選用常見(jiàn)的瓷磚和地板作為赤足足跡承痕客體如圖7(a,b),使用YVO4∶Eu納米發(fā)光材料對(duì)赤足足跡進(jìn)行粉末法刷顯,足跡顯現(xiàn)照片如圖7所示。從赤足足跡的形態(tài)特征角度分析,足跡中趾區(qū)、跖區(qū)、弓區(qū)、跟區(qū)的輪廓反映清晰、形態(tài)特征明顯[如圖7(b,e)]。從赤足足跡的膚紋特征角度分析,足跡中乳突紋線(xiàn)完整連貫、細(xì)節(jié)特征清晰明顯[如圖7(c1,f1)],還能夠清晰反映出足跡中屈肌褶紋[如圖7(c2,f2)]。此外,從赤足足跡的放大照片中還能夠清晰觀察到脫皮[如圖7(c3,f3)]及附著物[如圖7(c4,f4)]等其他特征。綜上所述,經(jīng)YVO4∶Eu納米發(fā)光材料增強(qiáng)顯現(xiàn)的赤足足跡具有較高的對(duì)比度、靈敏度、選擇性,其痕跡特征能夠達(dá)到足跡檢驗(yàn)鑒定的要求。

        赤足足跡的顯現(xiàn)效果與YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的性質(zhì)密切相關(guān)。首先,納米顆粒的強(qiáng)烈發(fā)光能夠使顯現(xiàn)信號(hào)與客體背景之間形成足夠的視覺(jué)反差,有利于提高赤足足跡顯現(xiàn)的對(duì)比度; 其次,較小尺寸的納米顆粒對(duì)不易掩蓋及粘連乳突紋線(xiàn)細(xì)節(jié)特征,有利于提高足跡顯現(xiàn)的靈敏度; 最后,球形形貌的納米顆粒對(duì)乳突紋線(xiàn)部位具有適中的吸附能力,且不易對(duì)小犁溝、屈肌褶紋、皺紋及客體部位造成過(guò)分吸附,有利于提高赤足足跡顯現(xiàn)的選擇性。 2.2.2 穿鞋足跡的熒光增強(qiáng)顯現(xiàn)

        利用YVO4∶Eu納米發(fā)光材料顯現(xiàn)穿鞋足跡的原理是基于納米粉末與穿鞋足跡中被聚合物PVP-VA64固定的灰塵之間的物理吸附作用。如圖8所示,當(dāng)使用固定溶液噴灑灰塵足跡時(shí),溶質(zhì)PVP-VA64具有良好的成膜特性,能夠?qū)ψ阚E中的灰塵顆粒起到固定作用; 溶劑乙醇具有較小的表面張力,能夠?qū)ψ阚E中的灰塵顆粒起到潤(rùn)濕作用。隨著乙醇的迅速揮發(fā),足跡中的灰塵顆粒就被牢固粘連到客體表面。被固定的灰塵足跡表面粗糙多孔,對(duì)納米粉末的吸附作用較強(qiáng); 而承痕客體的表面光滑致密,對(duì)納米粉末的吸附作用較弱。因此,可借鑒上文赤足足跡的納米熒光粉末刷顯法來(lái)實(shí)現(xiàn)灰塵足跡的顯現(xiàn)。

        圖7 使用YVO4∶Eu納米發(fā)光材料顯現(xiàn)瓷磚(a—c)和地板(d—f)表面赤足足跡的照片,其中(a,d)為明場(chǎng)照片,(b,e)為254 nm紫外光照射暗場(chǎng)照片,(c,f)為局部放大照片

        圖8 使用YVO4∶Eu納米材料顯現(xiàn)穿鞋足跡的原理Fig.8 Mechanism for development of footwear impressions using YVO4∶Eu nanomaterials

        本研究選用常見(jiàn)蹬瓷磚和地板作為穿鞋足跡承痕客體,使用YVO4∶Eu納米發(fā)光材料對(duì)穿鞋足跡進(jìn)行粉末法刷顯,足跡顯現(xiàn)照片如圖9所示。經(jīng)YVO4∶Eu納米發(fā)光材料增強(qiáng)顯現(xiàn)的穿鞋足跡,其鞋底花紋特征反映清晰明顯,產(chǎn)生熒光足夠強(qiáng)烈且沒(méi)有受到客體背景熒光的干擾,納米發(fā)光材料選擇性吸附于鞋底花紋的灰塵部位。綜上所述,經(jīng)YVO4∶Eu納米發(fā)光材料增強(qiáng)顯現(xiàn)的穿鞋足跡具有較高的靈敏度、對(duì)比度、選擇性,其痕跡特征能夠達(dá)到足跡檢驗(yàn)鑒定的要求。

        圖9 使用YVO4∶Eu納米發(fā)光材料顯現(xiàn)瓷磚(a—c)和地板(d—f)表面穿鞋足跡的照片,其中(a,d)為明場(chǎng)照片,(b,e)為254 nm紫外光照射暗場(chǎng)照片,(c,f)為局部放大照片

        穿鞋足跡的顯現(xiàn)效果與YVO4∶Eu納米發(fā)光材料的性質(zhì)密切相關(guān)。首先,納米顆粒的強(qiáng)烈發(fā)光能夠使顯現(xiàn)信號(hào)與客體背景之間形成足夠的視覺(jué)反差,有利于提高穿鞋足跡顯現(xiàn)的對(duì)比度; 其次,較小尺寸的納米顆粒容易滲透并留存于灰塵之間的微小縫隙中,有利于提高足跡顯現(xiàn)的靈敏度; 最后,球形形貌的納米顆粒對(duì)粗糙的灰塵具有適中的吸附能力,且不易對(duì)光滑的客體造成過(guò)分吸附,有利于提高穿鞋足跡顯現(xiàn)的選擇性。

        本研究還采用傳統(tǒng)的靜電吸附法對(duì)光滑客體表面穿鞋足跡進(jìn)行顯現(xiàn),并與本研究的顯現(xiàn)效果進(jìn)行比較。如圖10所示,由于傳統(tǒng)的靜電吸附顯現(xiàn)法為非熒光類(lèi)方法,顯現(xiàn)對(duì)比度主要來(lái)取決灰塵與靜電吸附膜之間的顏色反差,因此其顯現(xiàn)足跡的對(duì)比度不如熒光類(lèi)顯現(xiàn)方法高。

        圖10 利用靜電吸附法顯現(xiàn)瓷磚表面穿鞋足跡的照片F(xiàn)ig.10 Footwear impression left on ceramic tile then developed by electrostatic attraction method

        3 結(jié) 論

        以硝酸釔、硝酸銪、原釩酸鈉為原料,以檸檬酸三鈉為修飾劑,利用水熱法合成出YVO4∶Eu納米發(fā)光材料。通過(guò)表征,YVO4∶Eu納米發(fā)光材料具有類(lèi)球形微觀形貌、平均粒徑為39.2 nm,晶體結(jié)構(gòu)屬于四方晶系,紫外最強(qiáng)吸收波長(zhǎng)為257 nm,在254 nm紫外光激發(fā)下能夠發(fā)射614 nm紅色可見(jiàn)光,其表面為檸檬酸分子修飾。本研究最終將合成的YVO4∶Eu納米發(fā)光材料應(yīng)用于赤足足跡和穿鞋足跡的熒光增強(qiáng)顯現(xiàn),并詳細(xì)討論了納米材料的發(fā)光性質(zhì)、顆粒尺寸及微觀形貌對(duì)足跡顯現(xiàn)對(duì)比度、靈敏度及選擇性的提升作用。結(jié)果表明,顯現(xiàn)的赤足足跡和穿鞋足跡均具有較高的對(duì)比度、靈敏度、選擇性。

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