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        配置不同類型探測器的X射線熒光測厚儀對比研究

        2020-09-10 08:04:04尹麗晶武利會陳美靜
        環(huán)境技術(shù) 2020年4期
        關(guān)鍵詞:測厚儀氣態(tài)固態(tài)

        尹麗晶,武利會,陳美靜

        (1.中國電子科技集團公司第十三研究所,石家莊 050051; 2.國家半導體器件質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心,石家莊 050051)

        引言

        作為半導體元器件表面防腐的重要手段,金屬鍍層的質(zhì)量直接關(guān)系著電子元器件的工作性能、壽命和可靠性。因此,對鍍層厚度的準確測量越來越受到生產(chǎn)單位和檢測機構(gòu)的關(guān)注。作為評價鍍層質(zhì)量的重要參數(shù),鍍層厚度只有在一定的范圍內(nèi)才能起到作用,符合使用要求:太薄影響表面性能達不到目的,太厚會造成浪費和應(yīng)力過大。因此,對鍍層厚度進行準確檢測十分重要,受到生產(chǎn)和檢測機構(gòu)越來越多的關(guān)注。目前金屬鍍層厚度的測量方法主要分為無損法和破壞法兩類。根據(jù)相關(guān)標準的規(guī)定[1],無損法有X射線光譜法和反向散射法等,破壞法包括橫斷面顯微鏡法(金相切片法)、稱量法和陽極溶解庫倫法等。

        1 X射線熒光分析法

        X射線熒光分析法,具有被測樣品不受破壞,分析迅速、準確,便于實現(xiàn)自動分析檢測等優(yōu)點,成為目前工業(yè)上應(yīng)用最為廣泛的方法之一。

        1.1 X射線熒光分析的基本原理

        X射線熒光分析法的工作原理為采用高能X射線轟擊鍍層表面,將電子逐出原子形成空穴,由外層電子來填充這個空穴,多余的能量就會以X射線熒光的形式釋放,使被測鍍層產(chǎn)生X射線熒光(也稱為二次X射線),如圖1所示。由于X射線熒光譜線為各種元素所特有,通過對X射線熒光譜線的收集和分析,以其波長確定所測元素,根據(jù)其光的強度和能量確定鍍層的厚度[2]。

        1.2 X射線熒光測厚儀的基本結(jié)構(gòu)

        能量色散型X射線熒光測厚儀主要由X射線發(fā)生器、檢測系統(tǒng)、信號處理系統(tǒng)3部分構(gòu)成。其核心部件包括X射線管、濾波器、準直器、探測器、多通道脈沖分析器(MCA)等,如圖2所示。各部分均在鍍層厚度測試過程中發(fā)揮著重要作用。

        X射線管:在熱電離作用下產(chǎn)生一次射線用于激發(fā)樣品;

        一次濾波器:提高信噪比,改善檢測下限;

        準直器:限制激發(fā)的射線光斑的大小,提供滿足樣品需求的射線光斑;

        圖1 X射線熒光原理圖

        圖2 X射線熒光測厚儀構(gòu)成示意圖

        探測器:檢測樣品表面被一次射線激發(fā)出的X射線熒光,記錄信號強度;

        MCA:根據(jù)探測器收集的X射線熒光能量分配到相應(yīng)的通道中進行累積分析。

        2 不同類型探測器對比

        作為X射線熒光測厚儀的重要組成部分,探測器是一種變換能量形式的裝置,能夠把X射線光子信號轉(zhuǎn)換成可計量測定的電脈沖信號。目前市場上使用的探測器按照結(jié)構(gòu)主要分為兩大類:氣態(tài)探測器和固態(tài)半導體探測器。封氣正比計數(shù)器是典型的氣態(tài)探測器,其原理是以X射線的光電效應(yīng)為基礎(chǔ)把X射線轉(zhuǎn)換成可測量的電壓脈沖,脈沖幅度與X射線能量成正比。固態(tài)半導體探測器主要包括Si-PIN二極管探測器和硅漂移探測器(SDD),X射線光子入射到探測器后形成一定數(shù)量的電子-空穴對,電子-空穴對在電場作用下形成電脈沖,脈沖幅度與X射線光子的能量成正比。在一段時間內(nèi),來自樣品的熒光X射線依次被半導體探測器檢測,得到一系列幅度與光子能量成正比的脈沖,經(jīng)放大器放大后送到多通道脈沖分析器(MCA)。

        2.1 氣態(tài)和固態(tài)半導體探測器

        氣態(tài)探測器和固態(tài)半導體探測器在性能上有著比較明顯的差異,如表1所示,在分辨率性能和計數(shù)率方面,SDD>Si-PIN>封氣正比計數(shù)器;環(huán)境溫濕度對封氣正比計數(shù)器影響較大,容易造成峰位漂移,對SDD和Si-PIN探測器影響較小;在使用壽命方面,固態(tài)半導體探測器明顯優(yōu)于氣態(tài)探測器;在儀器成本方面,SDD探測器則遠高于其他兩種。

        表1 不同類型探測器參數(shù)對比

        元素分辨率是X射線熒光測厚儀的重要參數(shù)之一,分辨率數(shù)值越低,測厚儀對元素的檢測下限越低,對微量元素的檢測能力越高,并且能夠在譜圖分析時有效排除元素之間的相互干擾。

        圖3顯示的是氣態(tài)探測器和固態(tài)半導體探測器對同一樣品進行測量時收集形成的譜圖,橙色為氣態(tài)探測器(封氣正比計數(shù)器)所獲得的譜峰,綠色為固態(tài)半導體探測器(Si-PIN)所獲得的譜峰,可以看到,氣態(tài)探測器所獲取的譜峰重疊現(xiàn)象嚴重,這會對之后的分析計算過程造成很大影響,進而影響測厚儀對鍍層厚度的準確測量。

        圖3 氣態(tài)探測器和固態(tài)半導體探測器獲得的譜峰對比

        2.2 Si-PIN和SDD探測器

        氣態(tài)和固態(tài)半導體探測器的性能差異明顯,而對于同為固態(tài)半導體探測器的Si-PIN和SDD探測器,在分辨率性能方面也存在不同。圖4展示了Si-PIN和SDD探測器獲得的Fe、Cr和Ni元素譜圖,在相同的測試條件下,SDD探測器顯示出了更高的信號靈敏度,收集到了更多的有效信號用于分析計算,這在改善測厚儀的輕元素信號靈敏度和穩(wěn)定性方面都有著重要作用。

        有數(shù)據(jù)顯示,典型的SDD探測器在分辨率方面的性能遠遠超過典型的Si-PIN二極管探測器[3],如圖5。例如,在峰值時間10 μs,操作溫度-25 ℃的條件下,典型的SDD探測器在峰值為5.9 keV時能夠達到136 eV的半峰寬(FWHM)分辨率,這比在相同的操作條件下的Si-PIN二極管探測器優(yōu)化了52 eV。更高的分辨率能夠在XRF分析中檢測到信號更低的元素。

        圖4 Si-PIN和SDD探測器獲得的譜峰對比

        圖5 PIN二極管探測器和高端SDD探測器的典型分辨率隨峰值時間的變化。所有測試操作溫度均為-25 ℃,能量為5.9 keV,使用Fe-55源照射。SDD探測器所用數(shù)據(jù)來自KETEK GmbH的公開數(shù)據(jù)[4]。

        3 鍍層厚度測試及分析

        3.1 金屬鍍層結(jié)構(gòu)

        為了提高產(chǎn)品鍍層的防護能力和抗腐蝕效果,越來越多的電子元器件生產(chǎn)廠家采用復合金屬鍍層的結(jié)構(gòu),以鎳金復合鍍層為例,其鍍層結(jié)構(gòu)如圖6所示[5]。由于復合金屬鍍層的特殊性,使用X射線熒光測厚法無法對每一鍍層的厚度進行區(qū)分。按照生產(chǎn)檢驗環(huán)節(jié)對鍍層厚度測量的要求,需要對鍍金層總厚度和鍍鎳層總厚度進行測量。這需要試驗人員在實際測試過程中根據(jù)待測樣品的情況建立能夠滿足要求的測試程序,并通過標準片進行校準測試,才能夠得到較為準確的測試結(jié)果。

        3.2 鍍層厚度測試方法

        工業(yè)生產(chǎn)中的實際樣品,其金屬鍍層厚度各有差異,無法在測試前得到其準確厚度,因此本文采用經(jīng)過計量的標準片模擬復合鍍層結(jié)構(gòu)進行測量,以鎳金復合鍍層為模擬對象。由于大部分金屬外殼采用鐵、鐵鎳或鐵鈷鎳(可伐)作為基體材料,同時為了排除基材中的鎳對鍍層中的鎳造成影響,選用鐵的純元素片為基材。根據(jù)常見的鎳金復合鍍層厚度范圍,確定待測樣品的鍍層結(jié)構(gòu)為2.1 μm Au/4.63 μm Ni/0.24 μm Au/0.91 μm Ni/Inf Fe(2.34 μm Au/5.54 μm Ni/ Inf Fe)。試驗前,根據(jù)樣品情況建立合適的測試程序,并用標準片進行校準測量,使測試程序處于正常狀態(tài)。試驗過程中,為了盡量排除其他因素對結(jié)果的影響,使用的三臺X射線熒光測厚儀為同一廠家生產(chǎn),除探測器外其他各項參數(shù)調(diào)整為一致,使用相同的測試程序進行試驗,在相同的條件下重復測試5次。將三臺儀器編號為1#(封氣正比計數(shù)器)、2#(Si-PIN探測器)和3#(SDD探測器)。

        圖6 鍍層結(jié)構(gòu)示意圖

        3.3 測試結(jié)果及分析

        使用三臺配置不同型號探測器的X射線熒光測厚儀標準片模擬的符合鍍層進行測量,分別測量了其鍍金層總厚度(總Au)和鍍鎳層總厚度(總Ni),結(jié)果分別見表2~4。測試用標準片的總Au厚度為2.34 μm,總Ni厚度為5.54 μm,分別對三組測試數(shù)據(jù)的平均值、標準偏差、相對標準偏差和極差進行了計算,從數(shù)據(jù)結(jié)果可以明顯看出,相比于氣態(tài)探測器(1#),固態(tài)半導體探測器(2#和3#)在測試結(jié)果的準確性和穩(wěn)定性方面表現(xiàn)出明顯的優(yōu)勢。同時,就固態(tài)半導體探測器而言,SDD探測器的測試結(jié)果比Si-PIN探測器更為準確和穩(wěn)定,但兩者之間的差異遠小于與封氣正比計數(shù)器之間的差異。

        表2 1#測試結(jié)果

        表3 2#測試結(jié)果

        表4 3#測試結(jié)果

        4 結(jié)論

        作為X射線熒光測厚儀的重要組成部分,探測器直接影響到測厚儀的分辨率、穩(wěn)定性和使用壽命。氣態(tài)探測器的各方面性能均不及固態(tài)半導體探測器,不推薦使用;SDD探測器性能優(yōu)于Si-PIN探測器,但在考慮成本的情況下,也可選擇Si-PIN探測器,同時通過選擇有效的測試程序、延長分析時間等方法來優(yōu)化測試結(jié)果。

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