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        關(guān)于某常壓塔頂部腐蝕原因的探討

        2020-06-24 02:23:14王曉萍呂云瑋
        天津化工 2020年3期
        關(guān)鍵詞:常壓塔液態(tài)水緩蝕劑

        王曉萍,呂云瑋

        (1.蘭州石化公司研究院,材料防腐研究所,甘肅蘭州730060;2.江蘇大學(xué)醫(yī)學(xué)院,江蘇鎮(zhèn)江212013)

        某石化公司550 萬t/a 常減壓裝置主要加工南疆原油、北疆原油、吐哈原油(設(shè)計混合比為北疆 油 ∶南 疆 油 ∶吐 哈 油 =270 ∶230 ∶50), 原 油 酸 值0.12~0.3mgKOH/g,硫含量 0.4%~0.6%,氯鹽含量40~80mg/L,原料硫、氯含量偏高。裝置采用一脫二注(脫鹽、注中和緩蝕劑、注水)防腐工藝,脫后鹽含量<3.0mg/L,含水≤0.5%(體積分數(shù))。

        2019 年5 月該裝置檢修時,發(fā)現(xiàn)初餾塔內(nèi)部腐蝕輕微,常壓塔中、下部腐蝕也不明顯,但塔頂部腐蝕嚴重。筆者認為造成常壓塔頂腐蝕的主要原因,一是塔頂操作溫度低,出現(xiàn)了液態(tài)水;二是原油中含有大量有機氯和有機硫,它們在常壓塔內(nèi)發(fā)生高溫分解,產(chǎn)生較多的HCl、H2S,集聚在塔頂,遇到凝結(jié)水,發(fā)生了低溫 HCl—H2S—H2O 型腐蝕,同時水蒸氣氧化產(chǎn)生沉積物發(fā)生垢下腐蝕。具體類型有析氫、氧濃度差、水蒸氣氧化等腐蝕。文中對這些腐蝕原因作了解釋,并對減緩腐蝕提出了改進措施和建議。

        1 腐蝕現(xiàn)象描述

        常壓塔頂部:塔頂封頭、塔壁及塔盤表面出現(xiàn)大量垢物,顏色發(fā)黃發(fā)紅,局部發(fā)綠,垢物最大厚度達150mm(圖1);塔壁垢下腐蝕密集,點蝕坑深0.3~1.0mm 不等;塔盤垢下腐蝕,點蝕坑深0.2~0.3mm。塔頂上方的管線外側(cè)有紅色銹斑,略有腐蝕(圖 2)。

        圖1 第一層塔盤結(jié)垢形貌

        圖2 塔頂循回流內(nèi)管三通擋板腐蝕形貌

        第1~4 塔盤腐蝕嚴重,個別塔盤脫落,部分浮閥脫落、腐蝕斷裂(圖3)。降液板垢下腐蝕,蝕坑深0.3~0.5mm。溢流堰腐蝕減薄穿孔斷裂,受液槽腐蝕減薄穿孔(圖4)。

        圖3 塔頂塔盤脫落及浮閥腐蝕形貌

        圖4 塔頂受液槽腐蝕穿孔形貌

        第5 層塔盤腐蝕程度開始減弱,下方塔盤及浮閥存在一定程度的點蝕,塔壁及其他內(nèi)部構(gòu)件未見明顯腐蝕(圖5)。

        圖5 精餾段(常一線)塔盤及浮閥點蝕形貌

        2 腐蝕原因分析

        2.1 腐蝕性介質(zhì)來源

        酸性水化驗分析數(shù)據(jù)如表1。

        表1 550 萬t/a 常減壓蒸餾裝置塔頂回流罐酸性水化驗分析數(shù)據(jù)

        塔盤部分為均勻腐蝕,封頭、筒體為點蝕。從腐蝕形態(tài)來看為低溫HCl—H2S—H2O 型腐蝕。由原油特點,常壓塔操作條件來看,滿足低溫HCl—H2S—H2O 腐蝕條件。

        首先,腐蝕性介質(zhì)來源充足。HCl 主要來源于兩個方面,一是原油中含有較多的鹽,雖經(jīng)過電脫鹽,仍殘留一些,該裝置脫后鹽控制指標為<3.0mg/L,其中的 CaCl2、MgCl2,在一定溫度下水解會生成HCl。其次,原油開采時為提高采油率注入了多種助劑,如降粘劑,破乳劑,清蠟劑等,這些助劑中含有較多的氯化烷烴、氯化芳烴、高分子氯化物等有機氯,這些有機氯不溶于水,電脫鹽脫水不能脫除,它們進入常壓蒸餾塔內(nèi),當溫度達到300℃以上會分解生成HCl,伴隨原油中的輕組分一起上升到達常壓塔頂[1],因而常壓塔內(nèi)HCl 含量普遍較高(見表1),遠遠高于2mg/L 控制指標[2]。

        原油硫含量高,且硫化物種類較多,如硫化氫、游離的硫及硫醇、硫醚、二硫化物等[3]。這些硫化物受熱分解會產(chǎn)生H2S,有機硫化物的分解,一般從150~250℃開始,隨溫度升高而加劇[3]。常壓塔進料溫度為366℃,塔頂操作溫度為109℃,有機硫化物會在常壓塔分解,所產(chǎn)生的H2S 上升至塔頂,由表1 可知硫離子含量較高。

        常壓塔底和側(cè)線有過熱汽提水蒸氣進入,也會隨輕組分到達塔頂。

        由此可知,常壓塔頂聚集了較多的氯化氫、硫化氫和水蒸氣。

        2.2 腐蝕機理

        2.2.1 HCl-H2S-H2O 腐蝕

        常壓塔頂聚集了大量的HCl、H2O,如果沒有液態(tài)水存在,HCl、H2S 對設(shè)備的腐蝕很輕微,然而一旦出現(xiàn)凝結(jié)水,會形成HCl-H2S-H2O 型腐蝕,對設(shè)備腐蝕嚴重[3]。

        該裝置常壓塔頂操作壓力138~198kPa(絕),操作溫度110~135℃,在該壓力下,水蒸氣露點溫度為 109~120℃[4]。

        偶有水蒸汽凝結(jié)成液態(tài)水,溶解HCl、H2S,形成電解質(zhì)溶液,附著在塔盤、封頭表面,便可能發(fā)生析氫腐蝕。

        Fe-2e=Fe2+

        2H++2e=H2↑

        2.2.2 沖刷腐蝕

        溶液中的 Cl-、S2-競爭吸附 Fe2+,Cl-活性更強,能夠阻礙和破壞金屬鈍化,造成金屬腐蝕[5]。另外,如果氣體流通面積不夠,氣速較大,生成的FeS 薄膜會被沖刷脫落,起不到對金屬的保護,腐蝕氣體與金屬持續(xù)直接接觸,造成沖蝕現(xiàn)象,導(dǎo)致閥孔擴大,浮閥脫落。第1、2 層塔盤開孔率為12.9%,筆者認為偏低。

        2.2.3 垢下腐蝕

        2.2.3.1 氧氣的主要來源

        測試儀器:日本島津XRD-7000 型X 射線衍射儀

        實驗參數(shù):Cu 靶,加速電壓 40kV,電流30mA,掃描速度 8°/min,掃描范圍 20°~90°(2e)。

        結(jié)合垢物組成分析圖(圖6)。筆者認為垢物成因如下:首先,常壓塔頂部除聚集有硫化氫、氯化氫氣體外,還有一定量的氧氣,這些氧氣主要來源于兩個方面:

        圖6 第一層塔盤垢污成分分析

        1)O2微溶于水,采用水產(chǎn)生過熱蒸汽時,有一部分O2會混在蒸汽中進入常壓塔。

        2)在塔頂存在液態(tài)水,且處于原電池的環(huán)境中,當電極電位較高時,部分H2O 會分解釋放出O2[5]。

        2H2O?4H++4e

        2.2.3.2 水蒸氣氧化引起的化學(xué)腐蝕

        常壓塔頂操作溫度低,有液態(tài)水形成,鐵與水會構(gòu)成Fe-H2O 體系。溶液中存在H+、OH-等組分,體系不同區(qū)域平衡電位和pH 關(guān)系不同,在特定區(qū)域會發(fā)生下列反應(yīng)[2]:

        Fe+H2O=FeO+H2

        3FeO+H2O=Fe3O4+H2

        2.2.3.3 氧濃度差引起的電化學(xué)腐蝕

        沉積物下面存在縫隙,O2只能以擴散的方式進入這些縫隙內(nèi)的溶液中,阻力較大,推動力為是濃度差??p隙內(nèi)是貧氧區(qū)—陽極,縫隙外是富氧區(qū)—陰極[5],這樣便形成了氧濃差電池,在沉積物下方發(fā)生腐蝕,其反應(yīng)式為:

        陽極反應(yīng)Fe?Fe2++2e

        陰極反應(yīng)O2+2H2O+4O?4OH

        OH-向陽極擴散 Fe2++OH-=Fe(OH)2,生成的Fe(OH)2溶解度極小,沉積下來覆蓋在金屬表面,而Fe(OH)2又可進一步氧化為Fe(OH)3,脫水后生成 Fe2O3·nH2O[5]。

        因此,垢物中含有Fe2O3、Fe3O4等成分,同理,F(xiàn)eS2也可用原電池反應(yīng)解釋。

        綜上所述,常壓塔頂主要發(fā)生HCl—H2S—H2O 腐蝕、垢下腐蝕和沖刷腐蝕,其中有Cl-存在的低溫電化學(xué)腐蝕造成的后果最嚴重。

        3 措施及建議

        3.1 提高塔頂操作溫度

        發(fā)生HCl—H2S—H2O 腐蝕的主要原因是塔頂溫度較低,有液態(tài)水生成。為防止露點腐蝕,通常要求塔頂操作溫度高于水露點溫度14℃以上[6]。因此,建議常壓塔操作溫度升高至123℃以上。這樣低溫HCl—H2S—H2O 腐蝕位置便會由塔內(nèi)轉(zhuǎn)移到塔外。然后可在塔外采取措施消除腐蝕。

        如果條件允許,最好降低塔頂操作壓力。因為操作壓力降低,有利于蒸餾分離,還會減少HCl、H2S 等氣體在液相中的溶解度,能夠減緩腐蝕。

        3.2 工藝改進

        目前550 萬t/a 常減壓蒸餾裝置采用一脫二注(脫鹽、注中和緩蝕劑、注水)防腐工藝。

        研究表明,pH 值升高,鹽酸對金屬的腐蝕減緩[2],同時合理的pH 值有助于緩蝕劑成膜,因此,建議在常壓塔餾出線上增設(shè)獨立中和劑注入口用于調(diào)節(jié)pH 值,便于緩蝕劑成膜,保護冷卻設(shè)備及管道,然后注水溶解HCl 進入回流罐切水除去Cl-。

        3.3 改進塔盤結(jié)構(gòu)

        發(fā)生沖蝕的原因:一是塔板開孔率偏小,二是氣體分布不均,這從塔盤各處腐蝕嚴重程度不同可以得出結(jié)論。建議進行工藝核算確定第1、2 層塔板開孔率、合理布置閥孔位置及分布方式。

        4 結(jié)束語

        1)氯離子含量高、操作溫度低是塔頂腐蝕的主要原因。解決辦法較多,本文根據(jù)裝置實際生產(chǎn)工藝提出較簡單的改進措施:提高塔頂操作溫度,將低溫HCI—H2S—H2O 腐蝕由塔內(nèi)轉(zhuǎn)移到塔外,并將現(xiàn)有的“一脫二注”改為“一脫三注”,達到既減輕腐蝕又去除氯離子的目的。

        2)有的技術(shù)人員認為,常壓塔頂部出現(xiàn)垢下腐蝕是由于氯化銨晶體所致,本文提出了較新穎的解釋,具有借鑒意義。

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