馬 蘭

（比亞迪精密制造有限公司，廣東深圳 518116）

玻璃蝕刻技術(shù)歷史悠久，其相關(guān)產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用在建筑裝飾、玻璃工件及儀表器件。近年來(lái)，玻璃后蓋因其對(duì)通信信號(hào)無(wú)阻礙、可裝飾性強(qiáng)、手感好及觸摸后無(wú)手汗痕跡等優(yōu)點(diǎn)，逐漸成為手機(jī)行業(yè)的潮流趨勢(shì)。與此同時(shí)，玻璃蝕刻的相關(guān)研究仍主要集中在較為低端的鈉鈣玻璃方面，缺乏對(duì)具有優(yōu)異韌性與強(qiáng)度的高硼、高鋁玻璃蝕刻的系統(tǒng)研究，難以實(shí)現(xiàn)對(duì)蝕刻后玻璃宏觀性質(zhì)的調(diào)控。除此以外，現(xiàn)有的玻璃蝕刻工藝大多直接采用氫氟酸，極易對(duì)環(huán)境及工人安全造成較大危害；同時(shí)，外發(fā)成本高且良率較低也限制了玻璃蝕刻技術(shù)在手機(jī)背蓋等行業(yè)的應(yīng)用。

本項(xiàng)目通過(guò)對(duì)高硼、高鋁玻璃蝕刻的機(jī)理分析，制定配方，確定關(guān)鍵參數(shù)，優(yōu)化工藝流程，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)蝕刻后玻璃的性質(zhì)的調(diào)控，降低對(duì)環(huán)境及人身安全的危害，實(shí)現(xiàn)低成本和高良率。通過(guò)對(duì)關(guān)鍵參數(shù)的調(diào)控，成功實(shí)現(xiàn)效果明顯的漸變蝕刻。

1 原理

在化學(xué)拋光過(guò)程中，氫氟酸破壞玻璃表面原有氧化層，同時(shí)生成新的平整光潔的硅氧膜，使得玻璃獲得較高的透過(guò)率及光潔的表面。而在蒙砂過(guò)程中，蝕刻液與玻璃中的鉀、鈉、鈣、鋇等生成難溶的氟化物及氟硅酸鹽。這些難溶物能以結(jié)晶態(tài)緊密黏附在玻璃表面，阻礙氫氟酸與玻璃接觸反應(yīng)；而未被難溶鹽覆蓋的玻璃則繼續(xù)被侵蝕，因而可以得到凹凸不平、粗糙無(wú)光澤的玻璃表面。蒙砂后的玻璃的表面性質(zhì)主要取決于反應(yīng)生成的鹽類性質(zhì)、溶解度大小、結(jié)晶的大小及是否易被除去，玻璃蝕刻原理見(jiàn)圖1。

圖1 玻璃蝕刻原理圖

2 工藝參數(shù)及制備方法

2.1 玻璃蝕刻工藝流程及參數(shù)

2.1.1 玻璃蝕刻工藝流程

玻璃蝕刻工藝流程見(jiàn)圖2。

圖2 玻璃蝕刻工藝流程

2.1.2 玻璃蝕刻工藝參數(shù)

通過(guò)改變蝕刻時(shí)間及蝕刻液濃度，探究最優(yōu)漸變蝕刻工藝參數(shù)，以達(dá)到均勻、參數(shù)可控的漸變蝕刻玻璃。

2.1.2.1 蝕刻時(shí)間

通過(guò)控制蝕刻時(shí)間，分別測(cè)試粗糙度Ra及霧度H，以得到關(guān)鍵參數(shù)與蝕刻時(shí)間的曲線。

如圖3所示，當(dāng)蝕刻時(shí)間大于60s 后，粗糙度Ra趨于平緩，不再隨蝕刻時(shí)間增加而明顯變化。

圖3 粗糙度與蝕刻時(shí)間關(guān)系

如圖4所示，雖有突變，但霧度近似隨蝕刻時(shí)間線性增加。

圖4 霧度與蝕刻時(shí)間關(guān)系

2.1.2.2 蝕刻液濃度

通過(guò)調(diào)節(jié)蝕刻液濃度，分別測(cè)試粗糙度Ra 及霧度H，發(fā)現(xiàn)當(dāng)蝕刻液濃度為25:10時(shí)效果較佳；當(dāng)濃度較低時(shí)，霧度及粗糙度較高，但可控性較差；當(dāng)濃度較高時(shí)，霧度及粗糙度較低，但不易在玻璃上均勻平鋪，難以形成均勻液膜，易產(chǎn)生蝕刻不均。

2.1.3 小結(jié)

從表1看出，可通過(guò)控制蝕刻液濃度、蝕刻時(shí)間及拋光時(shí)間來(lái)控制成品參數(shù)，現(xiàn)可實(shí)現(xiàn)霧度15%～90%，透過(guò)率大于89%，光澤度5～70，粗糙度0.15～0.5的均勻蝕刻玻璃。

表1 現(xiàn)可實(shí)現(xiàn)均勻蝕刻的關(guān)鍵參數(shù)

玻璃蝕刻效果圖見(jiàn)圖5。

圖5 玻璃蝕刻效果圖

2.2 漸變蝕刻工藝流程及參數(shù)

2.2.1 漸變蝕刻工藝流程

2.2.1.1 來(lái)料全檢

重點(diǎn)檢查來(lái)料是否有白點(diǎn)、溢油、臟污等。

2.2.1.2 超聲清洗對(duì)來(lái)料全檢后的玻璃進(jìn)行超聲清洗，去除轉(zhuǎn)運(yùn)過(guò)程中形成的表面臟污。

2.1.2.3 漸變蝕刻

對(duì)清洗后玻璃進(jìn)行漸變蒙砂，之后進(jìn)行清洗，烘干，確保無(wú)蒙砂液殘留。

2.1.2.4 退鍍清洗吹干

對(duì)處理后玻璃進(jìn)行退鍍、清洗、吹干，工藝流程見(jiàn)圖6。

圖6 漸變蝕刻工藝流程

2.2.2 漸變蝕刻工藝參數(shù)

通過(guò)改變蝕刻時(shí)間及蝕刻液濃度，探究最優(yōu)漸變蝕刻工藝參數(shù)，以達(dá)到均勻、漸變自然、霧度差異明顯的漸變蝕刻玻璃。

2.2.2.1 蝕刻時(shí)間

通過(guò)控制漸變蝕刻過(guò)程中玻璃下降程序來(lái)控制蝕刻時(shí)間，分別觀察不同蝕刻時(shí)間下漸變效果。

實(shí)驗(yàn)用玻璃長(zhǎng)度為160mm，設(shè)計(jì)下降程序，使玻璃入水到完全浸沒(méi)時(shí)間（實(shí)際蝕刻時(shí)間）分別等于300s，600s，900s。

當(dāng)實(shí)際蝕刻時(shí)間為300s 時(shí)，肉眼下漸變效果不明顯，兩端霧度差僅為30。

當(dāng)實(shí)際蝕刻時(shí)間為600s 時(shí)，肉眼下漸變效果明顯，形成霧度從12.5到85的均勻漸變。

當(dāng)實(shí)際蝕刻時(shí)間為900s 時(shí)，漸變效果明顯，但出現(xiàn)大量白點(diǎn)、流痕、橫紋等不良（見(jiàn)圖7）。

圖7 漸變不良示意圖

2.2.2.2 蝕刻液濃度

在相同的蝕刻時(shí)間及下降程序情況下，改變蝕刻液濃度，分別測(cè)試霧度較高端及較低端的霧度等參數(shù)（見(jiàn)表2）。

表2 不同濃度時(shí)的霧度差、減薄量及粗糙度差異

綜合考慮漸變效果（霧度差）、減薄量及粗糙度差異，蝕刻液濃度為1 ∶3為最優(yōu)濃度。

2.2.3 小結(jié)

經(jīng)最優(yōu)工藝參數(shù)處理后，可形成暗端霧度從60%～90%，明端霧度5%～10%的均勻明顯漸變（圖8），且粗糙度隨霧度近似線性變化，厚度隨霧度近似對(duì)數(shù)變化（見(jiàn)圖9～圖10）。形成的漸變效果最明顯，無(wú)流痕，漸變過(guò)渡均勻視覺(jué)效果最好。

圖5 漸變蝕刻玻璃

圖9 最優(yōu)工藝下粗糙度與霧度關(guān)系

圖10 最優(yōu)工藝下厚度與霧度關(guān)系

3 結(jié)語(yǔ)

針對(duì)玻璃蝕刻項(xiàng)目，以生成參數(shù)可控的均勻蝕刻玻璃及漸變蝕刻玻璃為目標(biāo)，對(duì)玻璃蝕刻及漸變蝕刻技術(shù)及工藝進(jìn)行了系統(tǒng)性的分析與研究。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，對(duì)均勻蝕刻技術(shù)而言，可通過(guò)控制蝕刻液濃度、蝕刻時(shí)間及拋光時(shí)間來(lái)控制成品參數(shù)，現(xiàn)可實(shí)現(xiàn)霧度15%～90%，透過(guò)率大于89%，光澤度5～70，粗糙度0.15～0.5的均勻蝕刻玻璃。對(duì)漸變蝕刻而言，經(jīng)最優(yōu)工藝參數(shù)處理后，可暗端霧度從60%～90%，明端霧度5%～10%的均勻明顯漸變。