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        鍍銅前處理對(duì)孔內(nèi)化學(xué)鍍銅層影響研究

        2020-01-07 05:41:54張輝已陳斐健宋偉濤葉堉楠
        印制電路信息 2019年12期
        關(guān)鍵詞:銅層鍍銅板件

        張輝已 陳斐健 宋偉濤 葉堉楠

        (博敏電子股份有限公司,廣東 梅州 514700)

        0 前言

        印制電路孔金屬化一般來(lái)說(shuō)需要經(jīng)過化學(xué)鍍銅加電鍍銅的方法在孔壁上沉積一定厚度的銅層,在化學(xué)鍍銅和全板電鍍過程中孔內(nèi)無(wú)銅無(wú)法及時(shí)識(shí)別,必須到后工序測(cè)試方能檢測(cè)到[1],此缺陷為功能性問題,影響較大,只能報(bào)廢處理,其一直是PCB制造廠商的困擾所在。

        孔金屬化需要經(jīng)過化學(xué)鍍銅和電鍍銅,化學(xué)鍍銅由于孔壁與化學(xué)鍍銅層之間是通過作用力較弱的“范得華力”結(jié)合,沉積結(jié)構(gòu)也是“疏松”的,延展性也不是很好,因此要求化學(xué)鍍銅層的厚度在保證完整性和導(dǎo)電性的前提下,要盡量薄一些,一般要求在0.3 μm ~ 0.6 μm之間[2]。

        隨著電子產(chǎn)品日益朝智能化、輕薄化、精密化方向發(fā)展,其對(duì)于PCB產(chǎn)品的技術(shù)先進(jìn)性及穩(wěn)定性要求日益提高,這意味著生產(chǎn)企業(yè)必須擁有先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備、精湛的生產(chǎn)工藝及不斷創(chuàng)新的生產(chǎn)技術(shù)。我司電鍍線已全部更換為垂直連續(xù)電鍍線,取代老舊的龍門式電鍍線,工藝制程能力和生產(chǎn)技術(shù)得到大幅提升。垂直連續(xù)電鍍線工藝流程為:除油→水洗→水洗→酸洗→鍍銅→水洗→水洗→烘干?;瘜W(xué)鍍銅之后板面鍍銅之前,線路板存儲(chǔ)在硫酸溶液中,當(dāng)硫酸濃度過高或存儲(chǔ)時(shí)間過長(zhǎng)時(shí),沉積于孔內(nèi)的金屬銅被溶解,使孔內(nèi)的銅層變薄甚至無(wú)銅,造成孔內(nèi)無(wú)銅[3]。

        本文通過板電前處理對(duì)化學(xué)銅層影響研究,優(yōu)化生產(chǎn)流程及參數(shù)控制,降低電鍍銅過程造成的孔無(wú)銅風(fēng)險(xiǎn)。

        1 現(xiàn)狀及原因分析

        1.1 孔無(wú)銅產(chǎn)生的原因分析

        孔無(wú)銅產(chǎn)生的原因分析見圖1所示。

        1.2 現(xiàn)狀分析

        不良板孔無(wú)銅切片分析,其孔銅呈漸薄型,從孔口往中間拉尖,很可能是板件在進(jìn)入銅缸之前,沉銅層被藥水咬蝕所致(如圖2)。

        2 實(shí)驗(yàn)

        2.1 實(shí)驗(yàn)?zāi)康?/h3>

        采用垂直連續(xù)電鍍線生產(chǎn),板件進(jìn)入銅缸之前經(jīng)過除油缸→兩道水洗→酸洗。在這個(gè)流程中,除油缸、酸洗缸參數(shù)變化可能會(huì)對(duì)沉銅層造成影響,因此從除油、酸洗濃度控制、存在離子(主要為Cu2+、Cl-)、停留時(shí)間等方面進(jìn)行模擬實(shí)驗(yàn),探究可能存在的影響。

        2.2 實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)及測(cè)試結(jié)果

        2.2.1 酸洗溶液對(duì)沉銅層的影響

        酸洗的目的是為了除去板件表面氧化,減輕前處理清洗不凈對(duì)鍍銅溶液的污染,并保持鍍銅溶液中硫酸含量穩(wěn)定。由于板件只沉積了一層很薄的化學(xué)銅層,酸洗濃度控制不當(dāng)存在咬蝕化學(xué)銅層的危險(xiǎn)?,F(xiàn)階段在化驗(yàn)室條件下模擬酸洗溶液對(duì)沉銅層的影響,主要探究參數(shù)包括H2SO4濃度、Cu2+含量、Cl-含量。

        正常沉銅板件,背光確認(rèn)9級(jí),取樣50×50 mm,除油濃度配置2%,除油浸泡時(shí)間為100 s,取出后水洗90 s,再將其放入配置好的酸洗溶液中浸泡100 s,取出放入清水中洗干凈后烘干處理,通過背光確認(rèn)沉銅層情況。實(shí)驗(yàn)結(jié)果(見表1)。

        小結(jié):由實(shí)驗(yàn)結(jié)果我們可以看到,硫酸濃度在較低的范圍內(nèi)變化對(duì)沉銅層的影響不大,正常情況下不會(huì)與稀硫酸發(fā)生反應(yīng)。溶液中存在銅離子,隨著氯離子濃度的增加,溶液對(duì)沉銅層的咬蝕愈加明顯,這是由于在酸性條件下,銅和氯化銅反應(yīng)生成氯化亞銅,進(jìn)而形成絡(luò)離子,沉銅層咬蝕嚴(yán)重,存在孔內(nèi)無(wú)銅風(fēng)險(xiǎn)。

        圖1 孔內(nèi)無(wú)銅原因分析魚骨圖

        圖2 孔內(nèi)無(wú)銅切片

        表1 酸洗溶液對(duì)沉銅層的影響

        因此,酸洗溶液中應(yīng)控制好銅離子和氯離子濃度,而氯離子除了自來(lái)水本身存在,還可能來(lái)源于硫酸來(lái)料,因此電鍍前酸洗應(yīng)使用純度較高的硫酸,確保來(lái)料雜質(zhì)離子在要求范圍內(nèi),減少氯離子對(duì)板件沉銅層的影響。

        2.2.2 除油、酸洗段停留時(shí)間對(duì)沉銅層的影響

        表2 除油、酸洗段停留時(shí)間對(duì)沉銅層的影響

        我司目前所用除油劑為酸性清潔劑,在酸性條件下,除油及酸洗缸藥水可能會(huì)對(duì)沉銅層造成影響,特別是設(shè)備故障停留時(shí)間加長(zhǎng)的情況下,前處理板件在藥水中浸泡時(shí)間過長(zhǎng),可能會(huì)造成孔內(nèi)銅層被咬蝕。正常沉銅板件,背光確認(rèn)9級(jí),在VCP(連續(xù)垂直電鍍線)前處理進(jìn)行試驗(yàn),除油及酸洗濃度按現(xiàn)有控制范圍,試驗(yàn)線別除油為浸泡式,酸洗為噴淋式結(jié)構(gòu);通過設(shè)備暫停手段使沉銅板件在除油和酸洗缸停留不同時(shí)間,驗(yàn)證對(duì)沉銅層影響,實(shí)驗(yàn)結(jié)果(見表2)。

        小結(jié):從上表可以看到,沉銅板件在VCP前處理除油缸和酸洗缸停留時(shí)間過長(zhǎng)均會(huì)造成化學(xué)銅被咬蝕,特別是在酸洗停留時(shí)間過長(zhǎng)對(duì)沉銅層影響較大。在VCP線實(shí)際生產(chǎn)過程中如遇設(shè)備故障造成暫停,無(wú)法及時(shí)解決時(shí)應(yīng)將前處理板件取出清洗烘干返沉銅處理,以避免造成孔無(wú)銅現(xiàn)象。

        2.2.3 酸洗后停留時(shí)間對(duì)沉銅層的影響

        1.經(jīng)濟(jì)體制改革目標(biāo)。在經(jīng)濟(jì)體制改革方面,提出:“要加快完善社會(huì)主義市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)體制,完善公有制為主體、多種所有制經(jīng)濟(jì)共同發(fā)展的基本經(jīng)濟(jì)制度,完善按勞分配為主體、多種分配方式并存的分配制度,更大程度更廣范圍發(fā)揮市場(chǎng)在資源配置中的基礎(chǔ)性作用,完善宏觀調(diào)控體系,完善開放型經(jīng)濟(jì)體系,推動(dòng)經(jīng)濟(jì)更有效率、更加公平、更可持續(xù)發(fā)展?!保?]

        大多數(shù)垂直連續(xù)電鍍線設(shè)計(jì)在酸洗之后并不是立即進(jìn)入銅缸中,在兩者之間存在一銅缸藥水回流段,達(dá)到藥水循環(huán)流動(dòng)的目的,板件從酸洗出來(lái)后會(huì)裸露在空氣中一段時(shí)間,沉銅層在空氣中容易氧化,很可能導(dǎo)致殘余藥水咬蝕沉銅層。

        正常沉銅板件,背光確認(rèn)9級(jí),在VCP線前處理進(jìn)行試驗(yàn),除油及酸洗濃度按現(xiàn)有控制范圍,試驗(yàn)線除油為浸泡式,酸洗為噴淋式結(jié)構(gòu);正常過除油、水洗、酸洗后取出放置不同時(shí)間后水洗烘干,切片確認(rèn)孔內(nèi)沉銅層狀況,實(shí)驗(yàn)結(jié)果(見表3)。

        表3 酸洗后停留時(shí)間對(duì)沉銅層的影響

        小結(jié):隨著酸洗后停留時(shí)間加長(zhǎng),從背光切片可以看到透光點(diǎn)明顯增多,沉銅層咬蝕嚴(yán)重,因此VCP線在生產(chǎn)過程中線速應(yīng)控制在合理范圍內(nèi),過慢的線速導(dǎo)致板件在進(jìn)入銅缸前暴露在空氣中時(shí)間過長(zhǎng),存在孔無(wú)銅風(fēng)險(xiǎn)。

        2.2.4 浸泡式酸洗和噴淋式酸洗對(duì)沉銅層的影響

        現(xiàn)有VCP線酸洗有兩種處理方式:一種是浸泡式,另一種是噴淋式。兩種處理方式其效果可能存在一定差別,現(xiàn)對(duì)兩種處理方式進(jìn)行測(cè)試,探究其可能造成的不良影響。

        正常沉銅板件,背光確認(rèn)9級(jí),在VCP線前處理進(jìn)行試驗(yàn),除油及酸洗濃度按現(xiàn)有控制范圍,除油浸泡相同時(shí)間,在酸浸過程,一組采用噴淋式酸洗,一組采用浸泡式酸洗,經(jīng)過相同時(shí)間后取出水洗烘干,切片確認(rèn)孔內(nèi)沉銅層狀況,實(shí)驗(yàn)結(jié)果(見表4)。

        表4 浸泡式酸洗和噴淋式酸洗對(duì)沉銅層的影響

        小結(jié):實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明浸泡式酸洗對(duì)沉銅層的影響較小,主要與空氣接觸較少,在溶液中維持較好的穩(wěn)定性。

        2.3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果

        (1)板電前處理酸洗溶液中Cu2+和Cl-含量對(duì)沉銅層的影響很大,隨著含量的增加對(duì)沉銅層的咬蝕越來(lái)越明顯;

        (2)板電前處理除油缸對(duì)沉銅層有一定的影響;

        (3)板電前處理除油和酸洗后停留裸露時(shí)間長(zhǎng),板件氧化,對(duì)沉銅層影響很大;

        (4)浸泡式前處理對(duì)比噴淋式前處理對(duì)沉銅層影響較小。

        3 結(jié)論及建議

        由上述四組實(shí)驗(yàn),我們可以發(fā)現(xiàn)連續(xù)垂直電鍍線前處理對(duì)沉銅層影響顯著,酸洗缸銅離子、氯離子濃度的增多,除油、酸洗缸停留時(shí)間過長(zhǎng),酸洗后空氣中裸露時(shí)間過長(zhǎng)均會(huì)對(duì)沉銅層進(jìn)行咬蝕,再者,浸泡式酸洗要優(yōu)于噴淋式酸洗。

        為降低前處理段可能帶來(lái)孔內(nèi)無(wú)銅的風(fēng)險(xiǎn),針對(duì)現(xiàn)狀,提出以下改善措施:

        (1)將酸洗缸銅離子、氯離子等項(xiàng)目加入?yún)?shù)管控,防止二價(jià)銅離子和銅單質(zhì)發(fā)生歸中反應(yīng)咬蝕沉銅層;

        (2)對(duì)硫酸來(lái)料進(jìn)行嚴(yán)格檢查,確保雜質(zhì)離子(主要為CL-)在控制范圍內(nèi);

        (3)VCP線生產(chǎn)時(shí)鍍銅時(shí)間不宜設(shè)置過長(zhǎng),確保線速在合理范圍內(nèi),減少板件在除油、酸洗浸泡時(shí)間以及回流段中的空置時(shí)間。

        造成PCB板孔內(nèi)無(wú)銅的原因很多,也相對(duì)比較復(fù)雜,本文僅通過電鍍VCP線前處理對(duì)板件沉銅層可能造成的影響進(jìn)行試驗(yàn),結(jié)合實(shí)際生產(chǎn),提出一些改善措施,降低電鍍銅過程中造成的無(wú)銅風(fēng)險(xiǎn)。以上試驗(yàn)結(jié)果僅作為參考,希望能給同行有所啟發(fā)。

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