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        多晶硅生產中的質量控制探討

        2019-12-10 06:57:30茍海龍
        有色金屬設計 2019年2期
        關鍵詞:多晶硅西門子氮氣

        茍海龍

        (新特能源股份有限公司,新疆 烏魯木齊 830011)

        0 引 言

        多晶硅廣泛應用于電子產品的生產領域,最早應用在半導體產品生產中。而我國作為全球半導體市場的主要供應商,對于多晶硅自然有著較大的需求。而進入到上世紀末,光伏產業(yè)飛速發(fā)展,多晶硅作為太陽能電池的主要原材料之一,并且對于多晶硅的純度有著更高的要求,由此也有效促進了多晶硅的發(fā)展。從整體市場狀況來看,目前我國多晶硅年產量近20萬噸,其中主要用于光伏產業(yè),而我國光伏產業(yè)的生產總值,也已經位于全球前列,由此意味著我國進入到多晶硅的蓬勃發(fā)展期。

        1 多晶硅生產工藝流程簡介

        目前生產領域的多晶硅主要生產方式為3類:①改良西門子法,通過HCI與硅粉結合形成SiHCl3,最終再對SiHCl3進行提純;②硅烷法,以多種硅烷結合方式進行提純,包括硅化鎂法、歧化法等;③冶金法,傳統(tǒng)冶金手段進行提出。從3種方法來看,改良西門子法的主要缺陷在于產品質量較低,難以滿足最頂尖科學技術的應用。而另外兩種方法則主要受限于成本和環(huán)境污染,特別是冶金法對于環(huán)境具有較大的傷害,目前除了特殊領域應用之外,已然逐步遭到市場的淘汰。僅從應用選擇來看,目前是以改良西門子法更受市場歡迎。因為其產品應用更為廣泛,且成本較低,并且對于環(huán)境的影響極低,更為符合當前技術生產領域的要求。所以,該文主要是以改良西門子法為研究對象,僅需在確保環(huán)境安全和控制成本上有所注意,便能夠實現(xiàn)更為理想的成果。反觀另外2種方式,在技術上的突破則更為困難。

        2 多晶硅生產各工序對產品質量影響分析及控制

        改良西門子法的主要作用原理便是HCI與硅粉結合形成SiHCl3后在提純,由此可見其生產工藝并不繁瑣。但是,單位多晶體生產周期較長,由此也涉及到對各個環(huán)節(jié)綜合控制工作的實現(xiàn)??梢岳斫鉃椋ㄟ^改良西門子法生產高質量多晶體的核心,主要是在于細節(jié)的控制。以下將對各重要環(huán)節(jié)控制工序的細節(jié)進行分析。

        2.1 公用工程

        公用工程是指多晶硅生產過程中,涉及到的保障性供需,如水、氣、電等環(huán)節(jié),其中也涉及到鍋爐、變電站等重要設備。具體內容包括:①總變電站。顧名思義,該設備主要是為生產多晶硅提供穩(wěn)定、可持續(xù)、可調節(jié)的電力,確保生產工作的持續(xù)推進。而電力設備的控制工作并不困難,這也是目前多晶硅生產領域最容易實現(xiàn)管理的環(huán)節(jié),唯一需要注意的問題便是供電的穩(wěn)定,確保應急電源的應用和及時發(fā)揮效用;②供水系統(tǒng)。工業(yè)生產場所的供水系統(tǒng)復雜性較高,其中不僅涉及到生產直接應用的純凈水和溶液,還包括生活水、消防水等各類水資源。所以,生產多晶硅過程中必須充分考慮到水資源的配置,以及有效調節(jié)不同環(huán)節(jié)的水壓,確保設備能夠正常使用。而在水資源備用方面,通常認為僅需要完成一般儲水工作即可,若出現(xiàn)停水等狀況,盡可能暫停生產;③鍋爐設備。鍋爐是生產多晶硅的核心設備,也是較為難以實現(xiàn)調節(jié)的設備之一。研究發(fā)現(xiàn)鍋爐的主要運作模式,便是通過溫度的調節(jié),實現(xiàn)生產的穩(wěn)定性。所以,在管理過程中,應當注重溫度的穩(wěn)定、均勻,以及有效配置后備能源,確保溫度因設備出現(xiàn)故障時,能夠第一時間修正生產結果;④冷凍設備。主要是指將通過高溫處理的硅進行快速降溫,實現(xiàn)有形化多晶硅的過程。眾所周知,無定形硅作為不合格產品,一直以來是多晶硅生產成本控制的主要難題。所以,該階段有效進行冷凍,不僅是生產的重要環(huán)節(jié),也是在最后環(huán)節(jié)控制成本的關鍵。而目前冷凍技術,主要是采取氮氣高速冷凍的方式,通過SiHCl3和氫氣相接觸,在露點≤-40℃的情況下,便能夠實現(xiàn)生產效率的最大化。

        2.2 氫氣制備工序

        氫氣(H2)是指由純氫所構成的氣體,也是多晶硅生產的重要原材料之一,在還原爐、氫化爐中需要大量應用,同時尾氣回收過程中,也會適當?shù)氖褂?。所以,因為氫氣是貫穿的多晶硅生產的重要資源材料,在應用過程中必須更加重視細節(jié)的調整,從而確保能夠獲得理想的生產成果。而氫氣制備工序中,較為容易出現(xiàn)問題的環(huán)節(jié),便是因氧化現(xiàn)象出現(xiàn)“氧化夾層”,導致生產的多晶硅不符合產品規(guī)格。而氧化夾層初出現(xiàn)的原因,則是因氫氣使用過程中,因為水解的元素產生了氧氣,繼而形成二氧化硅。結合附著原理,二氧化硅會直接附著在硅棒上,最后導致“有色多晶硅”的出現(xiàn)。而該問題發(fā)生后,由于夾層深度不統(tǒng)一,以及二氧化硅的清除條件較為復雜,一大發(fā)生,便意味著產品出現(xiàn)問題。所以,通常是以控制氫氣使用為主導,盡可能避免氧化夾層的出現(xiàn)。具體技術標準為:O2≤5 ppm,CH4≤1 ppm,CO2≤1.5 ppm,CO≤0.5 ppm,N2≤60 ppm,露點≤-55 ℃。

        2.3 還原工序

        還原工序是多晶硅生產重要的產量和質量環(huán)節(jié),而從實踐上來看,還原工序也是生產中最容易發(fā)生問題的環(huán)節(jié)。所以,對于還原工序的優(yōu)化十分必要。

        2.3.1 原料對多晶硅質量的影響

        1)三氯氫硅

        上文中提到,氫氣會與水蒸氣相互作用產生氧氣,隨著空間溫度的升高,分子的活躍性也將增大。所以,對于SiHCl3而言,其在被提純過程中將直接面對氧化反應的影響。與此同時,SiHCl3本身含有雜質,特別是F、B等元素,兩者同樣會產生氧化作用,在形成新的氧化物后,便會附著在硅棒上。所以,對于的SiHCl3監(jiān)管尤為必要,必須確保其本身的質量,才能夠生產處合格的多晶硅。

        2)氫氣

        氫氣在提純硅過程中最大的問題便是與水蒸氣形成氧氣,該原理已經在上文中進行了詳細說明。而在具體實踐過程中,甚至可能會存在更嚴重的情況,若氧含量達到20 ppm時,便甚至有可能因溫度的變化直接水解SiHCl3。所以,在對于氫氣的管理中,其中氧含量的監(jiān)測尤為必要。另外,氫氣使用后會進行回收,可是使用空間的溫度變化,已然造成了水蒸氣的出現(xiàn),由此也導致了回收過程中會存在一定比例的水分,繼而產生上述“有色多晶硅”的現(xiàn)象。對此,目前廣泛使用了如下回收指標,由此能夠更大程度上減少水蒸氣被回收。具體為:O2≤50 ppm,CH4≤1 ppm,CO2≤1.5 ppm,CO≤0.5 ppm,N2≤100 ppm,露點≤-50℃,HCl≤0.1 %。

        3)保安氮氣

        上文中提到氮氣主要是用于冷卻系統(tǒng),這也是目前在成本、防污染、效率等方面性價比最高的一種冷卻方式。但是,由于氮氣為氣體,存在著一定的不可控性。若回收過程中不達標,便有可能因氧含量,以及與氫氣接觸形成化合反應,繼而變?yōu)殡s質附著在硅棒上。所以,有效為氮氣的回收提供保障,對于多晶硅的生產十分重要。

        4)硅芯

        硅芯直接承載著多晶硅的質量,其主要產生的問題在于:①密封存在問題。因為未完全密封,導致硅芯表面的氧化反應,繼而無法使用;②硅芯需要拉制,而該工藝主要依靠簡單的物理手段實現(xiàn),所以拉制過程中容易出現(xiàn)孔洞。當孔洞進入空氣后,就會污染孔洞表面的硅材料,繼而導致多晶硅損壞。所以,為了保證產品能夠正常使用,在硅芯還原之前,需進行二次腐蝕,確保沒有附著污染物。

        2.3.2 設備潔凈條件的影響

        還原工序中,環(huán)境因素對于產品生產有著十分重要的影響,上文中反復提及了各類氧化條件,以及材料本身雜志可能存在的問題。所以,確保生產環(huán)境的潔凈條件,在衛(wèi)生、原材料放置、設備儀器清潔整理等方面,都要符合相應的標準。對此可采取制度化管理,以獎懲機制為主導,從而保證管理的效率。

        3 結 語

        針對多晶硅進行探討,闡述其應用領域、應用價值,以及當前市場對于多晶硅需求等背景信息,對其工藝流程進行探討,在提出問題的同時闡述目前生產領域對相應問題的有效解決方案。

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