胡麗芳，黃 超，何 杰，朱繼超

(安徽理工大學化學工程學院，安徽 淮南 232001)

納米片是一類典型的二維材料，其三個維度中有一個維度尺寸在納米級別。納米片的歷史可以追溯到80多年前。1936年，Hauser E A和Reed C E報道了膨潤土粘土礦物能夠均勻分散在水中剝離產(chǎn)生膠體懸浮液[1-2]。膨潤土粘土礦物膠體的出現(xiàn)開啟了納米片材料的新紀元。但正式將 “nanosheets(納米片)”這個詞定義為這種材料并得以應用則是從1996年開始[3]；隨著2004年石墨烯納米片的問世[4]，二維納米片的研究發(fā)展迅速，直到目前，納米片依然是國際研究的熱點[5]。

二維納米片材料具有高的比表面積、大量配位不飽和的表面原子、原子厚度的平面結構、良好的液相分散性以及確定的暴露晶面等優(yōu)勢，使其在光[6-7]、聲[8-9]、電[10-11]、磁[12-13]以及催化[14-15]等領域應用廣泛。除此之外，納米片可以被用作負載型功能材料的載體[16-17]。表面富電荷型無機納米材料可以通過液相重組技術如絮凝技術，LB膜技術以及層層自組裝技術等構筑[18]。

HNbWO6和HNbMoO6納米片材料是典型的二維材料，近年來，HNbWO6和HNbMoO6納米片材料發(fā)展迅速，并廣泛應用于酸催化和光催化領域[19-23]。但是在光電傳感及微量離子檢測方面鮮有報道。

2015年本課題組在中國化學會第九屆全國無機化學學術會議上口頭報告了關于“HNbMO6(M為W，Mo)納米片的結構及光電性能研究”的初步成果[24]。在此基礎上，本研究詳細分析了前期HNbWO6和HNbMoO6納米片電化學性質(zhì)，比較相同層數(shù)不同材料以及相同材料不同層數(shù)的電化學測試性能，挑選性能較好的薄膜材料并對溶液中的微量Cu2+選擇性檢測和定量分析。

1 實驗部分

1.1 材料制備

HNbWO6和HNbMoO6納米片溶膠通過液相剝離法制備，詳細制備過程參見之前報道[21-22]。

HNbWO6和HNbMoO6納米薄膜材料層層自組裝法制備，制備示意圖如圖1所示。利用ITO導電玻璃為基板，將粘結劑聚二烯丙基二甲基氯化銨(PDDA)與納米片溶膠交替均勻吸附在在ITO上，循環(huán)10次，于400℃煅燒2h得到納米薄膜材料。

圖1 層層自組裝法構筑HNbMO6(M為W，Mo)納米薄膜材料示意圖

1.2 表征方法

采用DX-2800型X射線衍射儀(丹東方圓儀器有限公司)表征樣品的晶型和微結構。Cu靶，Kα：0.154 06nm，管壓：40kV，管流：30mA。樣品的循環(huán)伏安曲線(CV)、電化學阻抗(EIS)和電流時間(I-t)曲線在CHI660D型電化學工作站中分析(上海辰華儀器有限公司)，測試時所用電解液溶液分別為鐵氰化鉀和氯化鉀混合溶液；鐵氰化鉀、亞鐵氰化鉀和氯化鉀的混合液以及磷酸鹽緩沖溶液(PBS)。紫外-可見吸收光譜(UV-vis)在UV-2550型紫外-可見分光光度計中測試，純凈的ITO玻璃片作為對照物。

1.3 微量離子檢測

在測試電流時間曲線時，將PBS中分別加入不同的金屬鹽(Ag+，Al3+，Ca2+，Cd2+，Co2+，Cu+，F(xiàn)e3+，Hg2+，K+，Mg2+，Na+，Zn2+等)，配置成150 μM的混合溶液，測試金屬鹽對材料電流時間曲線的影響。將150 μM的Cu2+-PBS分別稀釋成75，37.5，18.75和9.375 μM的溶液，檢測材料的電流時間曲線。

2 結果與討論

2.1 納米薄膜的晶相和電化學性能

HNbWO6和HNbMoO6納米薄膜的晶相和電化學性能通過XRD，CV，I-t及EIS曲線表征，結果如圖2所示。圖2A顯示，10層HNbWO6和10層HNbMoO6納米薄膜的XRD圖譜中在2θ=30°和35°左右出現(xiàn)兩個明顯的峰，其可以歸屬為ITO導電玻璃(222)和(400)面的特征峰(30°和35°)[25]。另外，在2θ=17°和22°出現(xiàn)的兩個峰屬于HNbWO6和HNbMoO6納米片薄膜的特征峰，說明HNbWO6和HNbMoO6納米薄膜成功負載到ITO玻璃片上。

10層HNbWO6和10層HNbMoO6納米薄膜在鐵氰化鉀、亞鐵氰化鉀和氯化鉀混合溶液中的CV曲線(見圖2B)顯示，與10層HNbMoO6納米薄膜相比，10層HNbWO6的CV曲線中出現(xiàn)了更強的陽極氧化峰。在相同光照條件下，光電流-時間曲線中10層HNbWO6的光電流強度比10層HNbMoO6更強(見圖2C)。如圖2D所示，10層HNbWO6和10層HNbMoO6的EIS曲線高頻區(qū)域均出現(xiàn)了半圓，而10層HNbWO6中的半圓直徑更小。綜合以上CV、I-t和EIS曲線的結果，可以說明10層HNbWO6納米薄膜具有比10層HNbMoO6納米薄膜更優(yōu)異的光電化學性能。

(A) XRD圖譜 (B) CV曲線

(C) I-t曲線 (D) EIS曲線a. HNbWO6;b. HNbMoO6圖2 納米薄膜的表征結果圖

2.2 HNbWO6納米薄膜不同層數(shù)的性能測試

10層HNbWO6納米薄膜相比10層HNbMoO6納米薄膜表現(xiàn)出更好的光電性能。薄膜層數(shù)對HNbWO6薄膜性能的影響將通過不同層數(shù)HNbWO6的CV曲線，I-t曲線以及紫外-可見吸收光譜進行表征。

不同層數(shù)HNbWO6納米薄膜的CV曲線，不同掃描速度對10層HNbWO6納米薄膜CV曲線的影響以及掃描速度與陽極氧化峰強度關系如圖3所示。圖3A顯示，隨著薄膜層數(shù)的增加，其氧化峰強度增強，10層HNbWO6納米薄膜CV曲線中出現(xiàn)最強的陽極氧化峰，說明10層HNbWO6具有最強的氧化還原性。隨著掃描速度的增加其氧化峰強度也相應增強(見圖3B)，氧化峰強度與掃描速度的根方成正比關系，且關系曲線為：I1=40.28×v0.5-29.72(見圖3C)，其中I1為電流強度，單位μA·cm-2，v0.5為掃描速度的根方，單位為(mV·s-1)0.5，說明此電極反應主要受擴散過程控制。

(A) 不同層數(shù)HNbWO6納米薄膜的CV曲線

(B)不同掃描速度對10層HNbWO6納米薄膜CV曲線的影響

(C) 掃描速度與陽極氧化峰強度的關系圖3 不同層數(shù)納米薄膜的CV曲線

不同層數(shù)HNbWO6納米薄膜的I-t曲線以及光電流強度與層數(shù)關系如圖4所示。如圖4B所示，隨著層數(shù)的增加，光電流強度增強，層數(shù)為10時的光電流強度4.7μA·cm2左右(見圖4A)，另外，經(jīng)曲線擬合，光電流強度與納米薄膜的層數(shù)具有一定的函數(shù)關系，關系式為I2=1.93×10-3+n3.36，其中I2為光電流強度，單位為μA·cm-2，n為納米薄膜層數(shù)。結果表明，在一定的層數(shù)范圍內(nèi)，層數(shù)越多，光電流越強。

(A) 10層HNbWO6納米薄膜的I-t曲線

(B) 光電流強度與層數(shù)的擬合曲線圖4 不同層數(shù)HNbWO6納米薄膜的光電流曲線

圖5顯示的是不同層數(shù)HNbWO6納米薄膜的紫外-可見吸收光譜和最強吸收峰處的峰強度與層數(shù)的關系。10層HNbWO6納米薄膜的紫外-可見吸收光譜圖中在299nm處出現(xiàn)了納米薄膜的最大吸收峰(見圖5A)。 隨著層數(shù)的增加， 吸收光譜中299nm處峰的強度也相應增加， 最大吸收峰增加的幅度與層數(shù)呈近似直線關系， 關系式為A=0.382+0.043×n，其中A為吸光度，n為層數(shù)(見圖5B)，說明利用層層組裝方法制備多層納米片薄膜具有較好的穩(wěn)定性。

(A) 10層HNbWO6納米薄膜的UV-vis吸收光譜

(B) 不同層數(shù)吸收光譜中299nm峰強度與層數(shù)的關系圖5 不同層數(shù)HNbWO6納米薄膜的UV-vis吸收光譜

2.3 10層HNbWO6 納米薄膜對微量離子的檢測性能

圖6顯示的是在電解液中摻入不同的金屬鹽溶液，考察金屬鹽溶液對光電流強度的影響。結果表明，電解液中摻入Cu2+后對10層HNbWO6納米薄膜的光電流強度的干擾較大，摻入其他離子對其光電流強度的干擾較小(見圖6)。因此，可以用這種方法來選擇性檢測人體或是環(huán)境中的微量Cu2+。如圖7所示，對不同物質(zhì)的量的Cu2+進行了光電流強度測試，結果表明當物質(zhì)的量為9.375uM時，其對應的光電流強度峰最高，對原始光電流強度干擾很小。隨著Cu2+物質(zhì)的量增加，光電流強度逐漸降低(見圖7B)，這就說明Cu2+的加入對光生電子和空穴的分離具有阻礙作用，這可能就是選擇性檢測Cu2+的原因所在。Cu2+濃度與光電流強度呈一定的函數(shù)關系，其關系式為I3=0.15+264.98/(55.56+c)(其中I3為光電流強度，單位μA·cm-2，c為Cu2+濃度，單位μM)。根據(jù)此關系式，可以實現(xiàn)Cu2+的定量測定。

圖6 金屬離子對10層HNbWO6光電流強度的干擾

(A) 不同濃度Cu2+的電流時間曲線

(B) 光電流強度與Cu2+濃度的關系擬合曲線圖7 10層HNbWO6在不同Cu2+濃度中的光電流強度

2.4 Cu2+對光電強度影響機理

如前所述，10層HNbWO6納米薄膜對溶液中微量Cu2+的選擇性檢測和定量分析具有重要的作用，其可能的機理如圖8所示。

圖8 HNbWO6納米薄膜對微量Cu2+檢測機理示意圖

如圖8所示，Cu2+進入納米薄膜層間后容易與充分暴露在表面的O形成絡合物，這就使得Cu2+大量富集在電極上，直接影響了電子的傳遞；另外，CuO禁帶寬度很窄，價帶能量較高，光電測試時產(chǎn)生光照到納米薄膜或是CuO上產(chǎn)生的光生電子容易與CuO價帶上的光致空穴復合，這樣同樣阻礙電子的傳輸。因此，隨著Cu2+濃度增大，光電流強度反而減弱。

3 結論

提高電子和空穴的分離效率是提高光催化以及光電催化活性的重要手段。本文反其道而行，通過提高電子和空穴的復合率實現(xiàn)金屬離子的選擇性檢測。層層自組裝法構筑的HNbWO6納米薄膜具有更優(yōu)的光電性能，在1～10層范圍內(nèi)，隨著層數(shù)增加，HNbWO6納米薄膜的電化學性能越強，且穩(wěn)定性越高。HNbWO6納米薄膜對人體或環(huán)境中的微量Cu2+具有選擇性檢測性能和定量分析。