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        基于納米TiO2薄膜的結(jié)構(gòu)及紫外可見光譜研究

        2019-10-21 23:01:48周麗張新
        中國化工貿(mào)易·中旬刊 2019年8期

        周麗 張新

        摘 要:本文簡要闡述了TiO2納米薄膜的制作過程。實驗以鈦酸丁酯、鹽酸以及去離子水為原料,應(yīng)用了溶膠-凝膠法與旋轉(zhuǎn)涂膜工藝。通過實驗對TiO2納米薄膜紫外線光譜進行分析,并探討了影響二氧化鈦薄膜紫外線光譜與禁帶寬度的各類因素。

        關(guān)鍵詞:二氧化鈦薄膜;紫外線光譜;溶膠--凝膠法

        0 引言

        納米二氧化鈦自身具備特殊的物理化學(xué)性質(zhì),能夠作為光物理材料與催化劑,應(yīng)用于環(huán)境污染治理中,對于清潔材料的研發(fā)以及環(huán)境監(jiān)測方面具有一定研究潛力。因此,有必要對納米TiO2薄膜的結(jié)構(gòu)及其紫外可見光譜進行實驗研究,令二氧化鈦更加廣泛的應(yīng)用于環(huán)境環(huán)保材料的制備中。

        1 納米TiO2薄膜結(jié)構(gòu)研究分析

        1.1 納米TiO2薄膜的制備

        溶膠--凝膠法是當(dāng)前用于制備二氧化鈦的常用方法,實驗性質(zhì)為濕式化學(xué)法,主要用于制備陶瓷、玻璃的等非有機材料。納米二氧化鈦薄膜的制備主要分為三個階段,分別為制備凝膠溶液、噴涂基底以及干燥基底。實驗采用鈦酸丁酯、無水乙醇以及去離子水,制備溶膠過程需取10mL去離子水加入1mL鹽酸,形成溶液A。令取量杯加入3mL鈦酸丁酯與8mL無水乙醇形混合溶液B,隨后將B溶液勻速滴定至A溶液中,獲得溶膠。在制備凝膠時需要應(yīng)用旋轉(zhuǎn)涂膜法,在勻膠機上固定玻璃基片,勻速旋轉(zhuǎn)25秒后可得到二氧化鈦凝膠。制備過程中還需對玻片基底進行干燥,可以將凝膠置于電熱恒溫干燥箱內(nèi)干燥15min,再將其置于高溫爐中退火,最終得到二氧化鈦薄膜。近年來,人們不斷在傳統(tǒng)的工藝中改革創(chuàng)新,研發(fā)了破膠、回流以及重新分散等先進技藝,進而獲得了無異味的光催化凝膠。

        1.2 對納米TiO2薄膜的測試分析

        將經(jīng)過10次甩膜的二氧化鈦薄膜與配比相同的溶膠進行熱處理,利用X衍射線對所得薄膜與粉體科學(xué)分析,可以得到相應(yīng)的衍射圖譜,觀察衍射圖譜可以找到銳鈦礦的特征衍射峰,并在對應(yīng)處可以觀測到金紅石的衍射峰。通過對測試結(jié)果分析可知二氧化鈦粉末為銳鈦礦相,是一金紅石相與銳鈦礦相的混合結(jié)構(gòu)。但是二氧化鈦衍射圖呈現(xiàn)出的衍射信號較為微弱,只能觀測到某一時期的最強衍射高峰,由此可以推測,納米薄膜中的二氧化鈦含量較少,在相同實驗條件之下,粉末的晶化程度高于薄膜。在測試薄膜的透視率時可以應(yīng)用日立-3010-紫外-可見分光光度計,來觀測紫外透射光譜。在進行測試時,利用未覆膜的玻璃基片作為透射率基準(zhǔn),將其與覆膜玻璃基對比可以反映二氧化鈦薄膜的透射率。

        2 納米TiO2薄膜的紫外可見光譜分析

        2.1 TiO2薄膜的厚度分析

        二氧化鈦筆墨厚度采用三維表面輪廓儀進行測定,射線衍射儀可以分析晶體薄膜的結(jié)構(gòu),經(jīng)過掃描電鏡可觀測二氧化鈦的表面形態(tài)。通過觀察透射光譜可以得出不同波段內(nèi)的透射率,影響此階段透射率的原因為二氧化鈦帶間性躍遷吸收。透射率受二氧化鈦膜厚度的影響,通過分析可得薄膜的厚度與紫外光譜透射率具有密切聯(lián)系。當(dāng)薄膜厚度變小時,紫外透射率將下降并向邊緣段波方向移動,邊緣波長的“藍(lán)移”與薄膜厚度之間不存在特定關(guān)系,但是與二氧化鈦晶粒大小有一定關(guān)聯(lián)。薄膜晶粒變小時將會產(chǎn)生量子尺寸效應(yīng),二氧化鈦的禁帶寬度將增大,其納米膜厚度可以也能夠紫外線光譜實現(xiàn)分析估算。當(dāng)納米模體較厚時,在紫外透射光譜中將會產(chǎn)生干涉條紋,膜的厚度可以應(yīng)用干涉條紋的特點實現(xiàn)估算。除了此種方法,還可以利用光譜吸收規(guī)律計算不同膜的厚度。計算中需要應(yīng)用入射光強度、透射光強度、膜自身的吸收強度、膜吸收系數(shù)以及膜的厚度。膜的厚度可以由吸光強度與某一時段的波長吸收系數(shù)來計算。

        2.2 TiO2薄膜的半導(dǎo)體禁帶寬度

        在二氧化鈦的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中,主要存在兩種類型的光激電子躍遷,分別為直接躍遷與間接躍遷,兩種類型電子躍遷可以通過計算二氧化鈦的相對能級圖顯現(xiàn)出來,不同位置處導(dǎo)帶可以進行低能級或高能級的躍遷。直接躍遷與間接躍遷的近代寬度可以通過紫外線光譜數(shù)據(jù)來計算,通過對實驗分析結(jié)果可得,膜的禁帶寬度不受溶膠陳化時間的影響。當(dāng)熱處理的溫度較低時,二氧化鈦膜的間接躍遷禁寬帶較小,熱處理會對膜的間接躍遷產(chǎn)生影響,但是對直接躍遷不產(chǎn)生影響。厚膜直接躍遷的禁帶寬和間接躍遷禁帶寬都小于薄膜,說明膜厚度對膜的禁帶寬有影響,且膜越厚,其禁帶寬紅移就越多[1]。對于較厚的膜中,粒子表面間的相互作用比較強,這種作用促使二氧化鈦八面體發(fā)生畸變,導(dǎo)致厚膜的禁帶寬小于薄膜的禁帶寬。

        3 結(jié)論

        近年來,納米TiO2薄膜的應(yīng)用與研發(fā)受到了廣泛關(guān)注,并且經(jīng)過不斷的深入研究,二氧化鈦薄膜的應(yīng)用正在逐漸走入人們的生活。納米TiO2的制備方法并不唯一,并且其紫外可見光譜研究也成為了研究熱點。由于可見,未來人們將愈發(fā)重視二氧化鈦的應(yīng)用,提升我國科研技術(shù)水平。

        參考文獻:

        [1]陳霞,周炳卿,松林,李力猛,郝麗媛,韓兵.納米TiO2薄膜的結(jié)構(gòu)及紫外可見光譜研究[J].信息記錄材料,2009, 10(01):26-30.

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